Электрохимический способ осаждения ванадиевыхпокрытий

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

3I390I

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Заявлено 28Л 11.1969 (№ 1352606!22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 07.1Х.1971. Бюллетень ¹ 27

Дата опубликования описания 10.XI.1971

МПК С 23b 5/30

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.357.13:669.292 (088.8) Авторы изобретения

Л. Е. Ивановский, В. А. Котелевский, Б. Я. Раскин и Ю. У. Самсон

Заявитель

ЗЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ВАНАДИЕВЫХ

ПОКРЫТИЙ

Так, например, из расплава, Bec. %:

Хлористый литий

Хлористый магний

Хлористый натрий

Бромистый калий

Дибромид ванадия содержащего, 12 — 16

17 — 21

25 — 30

30 — 35

6 — 8

Предмет изобретения

Изобретение относится к области получения электрохимических покрытий, в частности к области осаждения ванадия из расплава.

Известен способ электрохимического осаждения ванадия из расплава, содержащего хлористые соли щелочных металлов и ванадия.

Однако расплав для получения ванадиевых покрытий имеет высокую температуру, что оказывает влияние на качество получаемого покрытия.

Предложенный способ отличается от известного тем, что с целью улучшения качества покрытия и снижения температуры расплава в электролит вводят галогениды щелочноземельных металлов, а в качестве соли ванадия 5 — 9 вес. % дибромида ванадия. Процесс ведут при температуре 360 — 600 С, катодной плотности тока 0,001 — 0,5 а/слт . Процесс нанесения ванадиевых покрытий осуществляют в герметическом электролизере в среде очищенного аргона. В качестве катодов используют отшлифованные металлические стержни диаметром 3 — 10 мм, анодов — ванадий чистотой 96 †99% . Исходные соли предварительно переплавляют, тщательно обезвоживают и смешивают в пропорциях, необходимых для получения соответствующего электролита. при температуре 410 †6 С, катодной плот10 ности тока 0,001 — 0,5 а/см получают ванадиевое покрытие, толщиной 2 — 3 мли

По предложенному способу получают беспористые плотные осадки ванадия, толщиной

0,5 — 3 лш в течение 30 лтин.

Электрохимический способ осаждения ванадиевых покрытий из расплава, содержащего

20 галогениды щелочных металлов и соль ванадия, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества покрытия и снижения температуры расплава, в электролит вводят галогениды щелочноземельных металлов, а в качестве

25 соли ванадия вводят 5 — 9 вес. % дибромида ванадия, и процесс ведут при 360 — 600 С, катодной плотности тока 0,001 — 0,5 а, слР.