Патент ссср 319644
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”
Заявлено 10.111.1970 (№ 1410552/22-1) с присоединением заявки №вЂ”
Приоритет
Опубликовано 02.XI.1971. Бюллетень ¹ 33
Дата опубликования описания 7 1.1972
МПК С 23b 5 06
Комитет по делам (аобретений и открытий при Совете Министров
СССР
УДК 621.357.7.669.268 (088.8) Авторы изобретения
Г. М. Гальперин, Г. Н. Зайдман, H. П. Коваль и Ю. Н. Петров
Институт прикладной физики АН Молдавской ССР
Заявитель
СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ХРОМА
Изобретение относится к области получения металлических покрытий электролитическим способом, в частности к электролитическому хромированию.
Известен способ электролитического осаждения хрома на поверхности деталей машин типа тел вращения с принудительным протоком электролита.
Предложенный способ отличается от известного тем, что в процессе осаждения изменяют величину анодной поверхности, обуславливая тем самым изменение величины рабочей поверхности катода и соотношение активных и неактивных зон катода. Это позволяет повысить качество осадков хрома с одновременным регулированием их физико-механических свойств.
Осаждение хрома осуществляют в протоке электролита на вращающуюся цилиндрическую деталь, служащую катодом. Деталь помещают в замкнутое пространство с небольшим межэлектродным зазором.
Аноды в виде отдельных брусков металла или сплава, обычно применяемых в качестве анодного материала, при хромировании, закреплены в корпусе из электроизоляционного материала, что позволяет создать малый межэлектродный зазор и обеспечизь высокую скорость протока электролита. Напротив анодов расположены активные зоны катода, а между соседними анодами — неактивные зоны. При вращении катода участки его поверхности, на которых происходит осаждение металла, перемещаются из активных зон в неактивные, в результате чего свежеосажденная поверхность пассивируется. При повторном попадании в активную зону на катоде возникают новые центры кристаллизации, что обеспечивает получение мелкозернистых осадков хрома.
Изменяя величину и соотношение активных и неактивных зон осаждения путем изменения количества включенных анодов, т. е. анодной поверхности, можно из одного и того же электролита получить осадки с определенными
15 физико-механическими свойствами. Поверхность анода следует изменять в пределах поверхность анода 1 1 поверхность катода 15 3
2р Пример. Покрытие наносят на цилиндрический стальной образец Ф„=40 лтлт, вращающийся со скоростью 390 об/лтин, из электролита, содержащего 450 г/л хромового ангидрида и 4,5 г/л серной кислоты, при темпера25 туре 35 — 50 С и плотности тока 1000—
2000 а/дл- . P асстояние между электродами составляет 2 л1,я, скорость протока электролита 4 л/сек.
Процесс осуществляют в закрытой камере
ЗО при наличии одного анода площадью 0,25 сл, -
319644
Составитель Л. Казакова
Техред 3. Тараненко
Корректор О. Волкова
Редактор T. Фадеева
Заказ 3632714 Изд. № 1550 Тираж 473 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, K-35, Раушская наб., д, 475
Типография, пр. Сапунова, 2 или 0,8 см2, или одновременно двух анодов общей площадью 1,05 см2.
Во всех случаях получены мелкозернистые осадки хрома при выходе по току 35 — 38 /о, При этом в зависимости от величины анодной поверхности изменяется микротвердость осадков хрома. В первом случае она составляет
700 — 1300 кг/ммв, во втором 500 — 1200 кг/мм2, а при использовании двух анодов микротвердость возрасла до 1500 — 1700 кг/ммв.
Предмет изобретения
1. Способ электролитического осаждения хрома на поверхности деталей машин типа тел вращения с принудительным протоком электролита, отличающийся тем, что, с целью повышения качества осадков хрома с одновременным регулированием их физико-механических свойств, процесс осуществляют при изменении величины и соотношения активных и неактивных зон катода.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что процесс осуществляют при изменении величи10 ны и соотношения активных и неактивных зон катода путем изменения поверхности анода в пределах поверхность анода 1 1 поверхность катода 15 3
