Испаритель для вакуумных установок

 

О П И С" А- Н И,Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 2.11.1970 (№ 1400542/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Оп бликовано ЗО.Х1.1971. Бюллетень № 36

М. Кл. С 23с 13/12

Комитет по делаю изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14.002.51 (088.8) Дата опубликования описания 9.II.1972

Автор изобретения

А. А. Бычко

Заявитель

ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.

Известен испаритель для вакуумных установок, содержащий нагревательный элемент и распыляемый стержень с держателем, опирающийся на опорную площадку.

Цель изобретения — обеспечить равномерность распыления материала.

Для этого стержень выполнен с конусным наконечником, свободно опирающимся острым концом на опорную площадку.

На чертеже представлен предлагаемый испаритель, общий вид.

Он имеет нагревательный элемент 1 и распыляемый стержень 2 с держателем 8. Стержень 2 выполнен с конусным наконечником, свободно опирающимся острым концом на опорную площадку 4. Нагревательный элемент 1 обхвачен экраном 5. Нагревательный элемент и экран установлены на керамическом основании б, полость между нагревательным элементом и экраном соединена с рабочим объемом вакуумной камеры.

В корпусе нагревательного элемента 1 выполнены отверстия для прохождения пара распыляемого материала. Благодаря конусной конфигурации стержня в зоне радиацион5 ного нагрева сублимация материала идет с образующей поверхности конуса, включая его острие. Поэтому по мере испарения острие смещается по оси стержня, причем под действием веса стержень постепенно опу10 скается в нагревательную зону. При этом геометрические размеры конуса практически не изменяются, в силу чего не изменяется и стабильность потока пара.

Предмет изобретения

Испаритель для вакуумных установок, содержащий нагревательный элемент и распыляемый стерже lb с держателем, опирающийся на опорную площадку, отличающийся тем, 20 что, с целью обеспечения равномерности распыления, стержень выполнен с конусным наконеч IHKQM, свободно опирающимся острым концом на опорную площадку.

322422

Составитель Б. Либерман

Техред Л. Богданова Корректор 3. Тарасова

Редактор T. Фадеева

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ 124/11 Изд. № 1780 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Испаритель для вакуумных установок Испаритель для вакуумных установок 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к нанесению тонкопленочных покрытий в вакууме, в частности защитных, износостойких и декоративных покрытий на изделия из различных материалов

Изобретение относится к машиностроению, в частности к нанесению покрытий в вакууме, и может быть использовано при нанесении покрытий на режущий инструмент, изготовленный из сталей, твердых сплавов и керамических материалов

Изобретение относится к микроэлектронике и направлено на обеспечение минимальной неравномерности покрытия подложки тонкой пленкой распыляемого материала

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом ультрадисперсных порошков и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия

Изобретение относится к области получения высокотемпературных материалов, используемых для защиты от окисления и газовой коррозии и в качестве защитных покрытий термонагруженных деталей газовых турбин и двигателей внутреннего сгорания

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для получения толстых пленок металлов при изготовлении, например, разводки коммутационных плат

Изобретение относится к материаловедению, а именно к способам изготовления преимущественно износостойких, прочных и жаропрочных материалов на металлической, металлокерамической или полимерной основе, а также изделий из этих материалов

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к устройствам взрывного испарения с резистивным нагревом для испарения металлов
Наверх