Полупроводниковый датчик усилий

 

378033

ОП ИКАНИЕ"

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К ПАТЕНТУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимый от патента №

М. Кл. Ст Olb 7/18

Заявлено 31.VIII.1970 (№ 1481160/25-.28)

Приоритет 01.IX.1969, № 70415/69, Япония

Комитет по делам изобретений и открыти при Совете Министров

СССР

УДК 531.787.913(088.8) Опубликовано 17.IV.1973. Бюллетень № 18

Дата опубликования описания 07.IX.1973

Авторы изобретения

Иностранцы

Нобору Юками, Хироси Отани и Хидео Курокава (Япония) Иностранная фирма

«Мацусита Электрик Индастриал К, Лтд» (Япония) Заявитель

ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ДАТЧИК УСИЛИЙ

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к конструкции полупроводниковых датчиков усилий.

Известны полупроводниковые датчики усилий, содержащие основание с проводимостью типа Р или N, суженное в одном месте посредством выреза и несущее на одной ил и обеих поверхностях слои с проводимостью другого типа. Однако известные полупроводниковые датчики усилий иметот недостаточную чувствительность.

В описываемом датчике повышение чувствительности достигается за счет того, что в основании по одну сторону от выреза образована область с низким удельным сопротивлением, а по другую сторону — область с высоким удельным сопротивлением, на одной,или обеих поверхностях которой образованы слои с проводимостью другого типа. Повышение чувствительности достигается также за счет того, что область с н изким удельным сопротивлением и слой с проводимостью другого типа образованы на одной из поверхностей основания.

На фиг. 1 представлена структура датчика усилия; на фиг. 2 — 4 — разл ичные виды конструктивного выполнения датчика; на фиг,5-— в увеличенном масштабе суженная часть датчика и кривая распределения концентрации дверок и электронов в суженной части датчика; на фиг. 6 — способ использования датчика.

Полупроводниковый датчик усилий содержит силиконовое основание 1 листового тиг", имеющего 2000 мкм в длину, 100 лткм в ш ирину.и 30 мкм в толщину на виде, показанном на фиг. 2, .и 100 мкм на виде, показанном на фиг. 3 и 4, причем основание сужено у своего центра (минимум ширины в месте сужения

10 равен 50 мкм), область 2 с проводимостью типа Р, имеющую удельное сопротивление от нескольких ом/см до нескольких тысяч ом/см.

Область 2 с высоким удельным сопротивлением граничит с областью 8 с проводимостью

15 типа Р, имеющей н изкое удельное сопротивление в месте соединения 4, которое образовано вблизи от центра суженного участка или в окрестности центра основания 1. Эта область образована бором, изб ирательно диф20 фундирующим в основании от одной пли обе их главных поверхностей основания 1 на глубину, равную толщине основания. С областью

2 граничит область 5 с проводимостью типа N, которая образована фосфором, дпффуп—

25 дирующим в основание 1 на глубину в несколько микрон на расстоянии до 850 мкм or правого конца основания. Удельное сопротиьление области 5 равно 0,001 ом/сл.. Местом соединения областей 2 и 5 является соедине.

30 ние б.

378933

25

3

На фиг. 2 показан случай, когда область 5 образована вдоль одной главной поверхности основания 1, на фиг. 3 и 4 — случаи, когда эта область образована вдоль обеих главных поверхностей. На фиг. 3 показан вырез, образованный вдоль соединения 4 на одной поверхности основания 1, на фиг. 4 вырезы выполнены на обеих поверхностях.

Длина области 2, образованной в центральной части основания 1, выбрана более дл инной и равной эффективной длине диффуз ии носителей. Поперечная площадь центральной части значительно меньше благодаря вырезу, сделанному в направлении, перпендикулярном к продольному направлению основания 1.

Таким образом электрические характеристики датчика значительно улучшаются за счет поверхностной рекомбинации, в результате чего эффективная длина диффузии носителей уменьшается.

На фиг. 6 показан способ использования датчика. Основание 1 присоединяется к металлическому слою 7, нанесенному на изолирующую плату 8 и разделенному на две части пазом 9. Присоединен не осуществляется таким образом, что область 8 электрически связана с одной частью металлического слоя 7, а область 5 — с другой, причем предварительно на области 8 и 5 напыляется никелевохромовый или золотохромовый сплав для лучшего контакта с металлическим слоем 7.

Источник постоянного тока 10 электрически связан с металлическим слоем 7 в прямом направлен ни по отношению к поверхности соединения 4, соединяющей слои с разной проводимостью. Расстояние от свободного конца изолирующей плиты 8 до центра паза 9 составляет 5000 мкм.

Рассмотрим работу датчика, когда основание 1 сделано из силикона, а область 2 с высоким удельным сопротивлением имеет проводимость пипа Р, Если источник постоянного тока 10 присоединен таким образом, что напряжение приложено в прямом направлении по отношению к поверхности (месту соединения) 4, то дверки инжектируются из места соединения 4 у c) женного участка в область 2, вызывая так называемое явление двойной инжекции. Таким образом, через область 2 протекает ток, модулированный проводимостью. В этом случае, зависимость между напряжением U и током I дается формулой 1=le U . Здесь ток Ic зависит от размера элемента, а показатель m изменяется пропорционально изменению эффективной длины диффузии, которая зависит от величины приложенного усилия. Сужение основания 1 позволяет повысить концентрацию носителей в окрестностях мест соед инений 4 и б в области 2 с высоким удельным сопротивлением так, как это показано на фиг. 5. Механическая деформация наиболее сильно проявляется вблизи места соединения

4, поэтому эффект нагрузки может быть рассмотрен только по отношению к окрестности места соед инен ия 4.

Предмет изобретения

1. Полупроводниковый датчик усилий, содержащий основание с проводимостью типа P или N, суженное в одном месте посредством выреза и несущее на одной или обеих поверхностях слои с проводимостью другого типа, отличающийся тем, что, с целью повышения чувствительности, в основании по одну сторону от выреза образована область с низким удельным сопротивлением, а по другую сторону — область с высоким удельным сопротивлением, на одной или обеих поверхностях которой образованы слои с проводимостью другого mrna.

2. Полупроводниковый датчик усилий по п. 1, отличающийся тем, что область с низким удельным сопротивлением и слой с проводимостью другого пипа образованы на одной из поверхностей основания.

378033

2 б

Фиг. 1 б Фи2. 5

У1 б ф

Фиг. Ф

Ни2. 5

f0

Фиг. б

Составитель А. Босой

Редактор Л. Новожилова

Тех ред Т. Курил ко

Корректор Е, Миронова

Заказ 2398/l8 Изд. № 1426 Тираж 755 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров,ССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4 5

Типография, пр. Сапунова, 2

Полупроводниковый датчик усилий Полупроводниковый датчик усилий Полупроводниковый датчик усилий 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерению и контролю напряжений в конструкциях любого типа

Изобретение относится к испытательной технике и имеет целью повышение точности способа определения изгибной жесткости объектов, изготовленных из композиционных материалов

Изобретение относится к измерительной технике, в частности к средствам измерения деформаций конструкций летательных аппаратов при испытаниях на прочность

Изобретение относится к области автоматизации процессов взвешивания, дозирования и испытания материалов

Изобретение относится к средствам измерения динамической деформации, измеряющим динамическое деформируемое состояние инженерных конструкций

Изобретение относится к измерительной технике, в частности к устройствам, контролирующим перемещение деталей машин, и может быть использовано в системах контроля машинами и оборудованием
Изобретение относится к электрорадиотехнике, а в частности к технологии изготовления прецизионных фольговых резисторов, а также может быть использовано при изготовлении резисторов широкого применения
Наверх