Способ контроля толщины слоев при изготовлении оптического покрытия

 

Оц 429399

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства 371550 (22) Заявлено 21.06.72 (21) 1799886/18-10 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 25.05.74. Бюллетень № 19

Дата опубликования описания 18.10.74 (51) М. Кл. G 02Ь 5/28

Гасударственный комитет

Саввта 1иииистрав СССР па делам изобретений и аткрытий (53) УДК 535.345.67 (088.8) (72) Авторы изобретения

Л. Б. Кацнельсон и Ш. А. Фурман (71) Заявитель (54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ

ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ ОПТИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ

В основном авт. св. № 371550 описан способ контроля толщины слоев при изготовлении оптического покрытия, заключающийся в определении пропускания подложки с наносимыми на нее интерференционными слоями, фиксации при этой длине волны в процессе нанесения предпоследнего слоя максимальноГо «Рмакс и минимального «Рмик значениЯ величины, пропорциональной пропусканию системы покрытие — наносимый слой, и вычислении по полученному отношению /Maze/«Р„» значения qp, по достижении которого заканчивают напыление предпоследнего слоя, и последующем нанесении последнего слоя до получения максимального пропускания.

По предлагаемому способу перед нанесением двух последних слоев каждый из предшествующих пленок наносят до достижения экстремального значения пропускания и повторяют процесс до получения величины отноше«Рмакс/«Рмик, меньшей заданного значениЯ.

Это позволяет расширить диапазон используемых интерференционных систем.

Способ осуществляют при изготовлении покрытий путем термического испарения в глубоком вакууме веществ, образующих слои покрытия. В процессе нанесения слоев контроль производят определяя с помощью фотометрического устройства пропускание в монохроматическом свете подложки с наносимыми на нее интерференционными слоями. О толщине соя судят по известной зависимости коэффициента пропускания от оптической толщины.

Непосредственно на подложку наносят че5 редующиеся слои с высоким и низким показателями преломления. Слои образуют часть покрытия, которая формирует его спектральные характеристики в области низкого пропускания. Обычно контроль этих слоев ведут при

10 одной или нескольких длинах волн, отличных от Хс.

После того, как зона отрезания спектроделителя сформирована, фотометрическое устройство перестраивают на длину волны Хс и

15 наносят слои, с помощью которых добиваются достижения коэффициентом пропускания

Т (Хс) при величине Хр, близкой 100%. В процессе осаждения слоев фиксируют максимальное «р,„„, и минимальное «рм„„значения вели20 чины, получаемой на отсчетном приборе фотометрического устройства.

Если полученное в результате измерений отношение «Рмакс/qM»»)óp (yp — расчетная величина, зависящая от показателей преломления

25 веществ, образующих покрытие), то слои напыляют до экстремального значения пропускания. Согласующий слой, т. е. первый слой системы, наносимой .при Хс, напыляют либо до

«Р=«p„»», в том случае, когда он состоит из ма30 териала с низким показателем преломления, 429399

Составитель В. Ванторин

Техред Л. Акимова

Корректор А . Васильева

Редактор Т. Фадеева

Заказ 2707)14 Изд. № 860 Тираж 537 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий.

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 475

Типография, пр. Сапунова, 2 либо до гр= рмак„ когда его показатель преломления высокий. Нанесение последующих слоев прекращают при достижении первого экстремума отсчета.

Полученный с помощью указанного контроля разделительный слой имеет такую толщину, что вносимая им разность фаз между интерферирующими лучами, отражающимися от его границ, кратна 2 л. Оптическая толщина 0 последующих слоев равна — и образованная

4 ими интерференционная система эквивалентна диэлектрическому зеркалу, нанесенному на разделительный слой. С увеличением числа слоев такого зеркала его коэффициент отражения gf(Ao) растет и приближается к,коэффициенту отражения R2 (Ao) системы, расположенной между подложкой и разделительным слоем. Когда значение R (Ao) станет достаточно близким к R2(o), величина Т(Хо) возрастает настолько, что будет больше некоторого расчетного коэффициента пропускания

Òo. После чего можно добиться приближения

Т(Ло) к 100% известным способом.

О том, что требование Т(Хо) (Т, выполняется, судят, выявив при нанесении очередного слоя наличие условия (рмакс/<рмин уа; Для слоjLo ев, оптическая толщина которых кратна

4 одним из двух экстремумов отсчетов (QM»c или <рм), входящих в выражение для бамако/ рмин служит отсчет, с которого начинают осаждать слой, а другим — отсчет, на котором слой заканчивают. Зная »e/ вычисляют значение ро, при достижении которо10 го заканчивают напыление предпоследнего слоя. Затем наносят последний слой до получения максимального пропускания.

Предмет изобретения

Способ контроля толщины слоев при изготовлении оптического покрытия, например, спектроделителя, по авт. св. № 371550, о тл ич а ю шийся тем, что, с целью расширения

20 диапазона используемых интерференционных систем, перед нанесением двух последних слоев каждый из предшествующих им пленок наносят до достижения экстремального значения пропускания и повторяют процесс до получе25 ниЯ величины отношениЯ смаке/фмин МЕНьшей заданного значения.