Радиоционная установка для нагрева заготовок

 

.:с.. 1 ."ма,,чъЦ л

ОПИСАНИЙ

Союз Советских

Социалистических

Республик (11) 618617

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДИТИЛЬСТВУ (б1) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 02.04.76(21) 2343636/22-02 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет (43) Опубликовано 05.08.78.Бюллетень №29

2 (51) М. Кл

F 27 В 9/30

С 2 1й 9/00

Государственный комитет

Соввта Министров CCCP оо делам изобретений н открытий (53) УДК 621.783..223 (088.8) (45) Дата опубликования описания тч.о>>>

В. П. Хабаров и А. А. Скворцов (72) А в то р ы изобретения

Горьковский политехнический институт им. А. А. Жданова (71) Заявитель (54) РАДИАЦИОННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ НАГРЕВА

ЗА ГОТОВО К

Изобретение относится к области машиностроения и может быть применено для нагрева штучных заготовок, в частности при производстве крепежа из жаропрочных сталей и титановых сплавов методом тепловой или горячей высадки при повторных технологических операциях.

Известна радиационная установка для нагрева заготовок, в корпусе которой расположен рефлектор, состоящий из блоков, имеющих отражательную поверхность в виде эллиптических цилиндров, в фокусах которых расположены инфракрасные лампы, фокальные оси ламп совпадают. Блоки рефлектора смонтированы по незамкнутому контуру камеры таким образом, что они образуют шелевой разъем по всей длине камеры или части ее, расположенный в зоне фокальной оси эллиптических поверхностей, а направляющие заготовок расположены вдоль щелевого разъема и выполнены в виде установленных под углом к фокальной оси камеры регулируемых вибропластин для обеспечения поступательного и вращательного движения заготовок.

Недостатком этой радиационной установки для нагрева заготовок является то, что в ней отсутствует защита зеркально-отражаюших поверхностей рефлекторов и обоих торцовых плоских отражателей от попадания продуктов сгорания (дыма, пыли, копоти), а также конденсации влаги.

Известная установка не предусматривает возможности изменения, при необходимости, спектрального состава и величины проходящего потока лучистой энергии в зависимости от нагреваемого материала и состояния его поверхности.

Известна также радиационная установка для нагрева заготовок, в корпусе которой расположен редактор с установленными в

его верхнем ф кусе инфракрасными лампами, а в нижнем фокусе-направляющей для перемещения изделий, и размещенная между фокусами экранируюшая кварцевая пластина (1) .

Однако в этой установке невозможно провести местный нагрев заготовки из-за дефокусированного излучения, так как экранирующая пластина предназначена для сведения к минимуму концентрации лучистой энергии, исходящей от ламп.

Цель изобретения — повышение эффективности местного прогрева заготовок.

Поставленная цель достигается выпол25 нением экранирующей кварцевой пластины

618617

< двусторони:1м диэлектрическим покрытием

ИЗ OKIICIIOII ПЛЕНКИ.

На фиг. изображена радиационная установка для нагрева заготовок, общий вид с частичным разрезом; на фпг. 2 разрез

А А фиг. 1; на фиг. 3 — частный случай применения радиационной установки для методического нагрева штучных заготовок.

В корпусе 1 установки расположен рефлектор 2, вы,н>лненный из блоков 3 с внутренними поли, ованными зеркально-отражающими поверхностями в виде эллиптических цилиндров, образующих нагревательную камеру.

В фокусе рефлектора 2 расположены кварцевые инфракрасные лампы накаливания 4. Нагревательная камера рефлектора 2 с торцов закрыта фланцами 5 и крышками 6.

Внутренняя поверхность фланцев 5 является плоским отражателем 7. Фланцы 5 и крышки 6 имеют отверстия 8 для контактов и фиксации ламп 4.

В зоне фокальной оси 9 эл:пштических поверхностей рефлектора корпус 1 имеет I!Ieлевидный разъем 10. В каме, >е рефлектора 2, выше фокальной оси 9, вдоль шелевого разъема 10 и перпендикулярно вертикальной оси корпуса 1, в пазах па внутренней поверхности эллиптических цилиндров смонтирована экранируюшая сменная кварцевая пластина 11 с двусторонним диэлектрическим покрытием 12 из ок: .ой пленки, апримср двуокиси титана Т!с.>, фильтрующая про- Зо ходящее через ее инфракрасное излучение.

Покрыпгие изготовлсllo таким образом, что первый м акс им ум ol !) 1>I(oil è51 приходится I Id длину волн > =- 1,2 мк, а первый минимум на i, =- 0,58 мк. данное двустороннее диэлектрическое покрытие обладает отражательной способност > o для ближllcãо иllôðàкрасного излучсн IH около 40 (p при интегральной отражате,!ьноЙ спосооности В видимой области 8, .. В разьсме находятся две направляюп!Ho 13, в которых расположены заготовки 14.

Для отвода тoïëà оТ блоков 3, фланцев 5. контактов ламп 4 и направляющих 13 установка имеет систему водяного охлаждения 15.

Радиационная установка снабжена элскт- <5 ромагнитом 16, наклонным лотком 17 для заготовок 14, бункерным устройством 18, фоТо-;,I!ктрическим или другим пиромсгром !9, тиристорной системой автоматического или ручнс1гс1 управления 20, прерывателем 21. пружинами 22.

Установка работает следующим образом.

Очищенные от загрязнения заготовки 14 с помощью бункерного устройства 18 и наклонного лотка 17 поступают на вибронаправляюшие 13. Электромагнит 16 через прерыватель 21 и пружины 22 приводит направляющие 13 в колебательное движение, тем самым осуществляя продвижение заготовок

14 по направляющим в зону нагрева и вращение их вокруг своей оси.

Поток инфракрасного излучения (стрелками на фиг. 2 показано направленис светового потока), проходя через экранируюшу1о кварцевую пластину 11 с двусторонним диэлектрическим покрытием 12, фильтруется и падает на заготовки, нагревая их.

Температура выходягцей нагретой заготовки 14 контролируется пирометром 19.

При отклонении температуры заготовки

14 от заданной пирометр 19 даст команду на повышение или пони>кение температуры, в зависимости от знака отклонения ее, пуТсМ увеличения или уменьшсния угла открытия тиристоров 20.

Данное изобретение позволяет осуществлять местный нагрев штучных заготовок, регулирование величины и границ прохождения лучистого lloToKd, увеличивает КПД.

ФОРЗЩлй из00))(. ГГнпя

Радиационная установка;.;,Iv нагрева загот<>вок, содер>кащая корпус, в котором расположен рефлектор с установлспными в его верхнем фокусе инфракрасными лампами, а в зоне нижне, о фокуса — направляющей для перемешс шя изделий, и размещенную между фокусами экранирующую кварпевую пластину, с>гличающаяс» тем, что. с целью повышения эффек1ивности местного прогрева заготовок, экранирук>щая кварцевая пластина выполнена с двусторонним диэлектрическим покрытием из окисной пленки.

Источники информации, принятые во внимаиис при экспертизе: !. Патент США М 3627590, кл. 148 1,5, 1971..

618б17

Фиг. f

Риг г ггв

Фиг. 3

Составитель Н. Кузовкина

ЦНИ11ПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

I 13035. Москва, Ж35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патент», г. Ужгород. ул. Проектная, 4

Редактор Ж. Рожкова

Заказ 4244/34

Текред О. Луговая

Тираж 767

Корректор М. Демчик

Подписное

Радиоционная установка для нагрева заготовок Радиоционная установка для нагрева заготовок Радиоционная установка для нагрева заготовок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к обжиговым печам непрерывного действия, в частности представляет собой печь для термической обработки при производстве, например, карбидкремниевых нагревателей

Изобретение относится к промышленности строительных материалов, в частности к оборудованию для термической обработки керамических изделий, и может быть использовано для аналогичных целей на предприятиях по производству изделий из керамики в смежных отраслях

Изобретение относится к области производства строительных материалов, в частности к туннельным печам для обжига керамических изделий

Изобретение относится к промышленности строительных материалов, а именно к оборудованию для производства строительных изделий
Изобретение относится к отоплению печей огнеупорного и керамического производства

Изобретение относится к производству строительных материалов, а именно сушке и обжигу керамических стеновых изделий
Изобретение относится к производству строительных материалов, в частности к изготовлению теплоизоляционных материалов вспучиванием глинистых пород трепела, диатомита
Наверх