Устройство для измерения деформаций подложки и фотошаблона при контактной фотолитографии
":о,., о-, ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Сеюз Сеевтскнх
Соцнавнстнчеекн х
Республик (11) 619780
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено160976 (21) 2407774/25-28 с присоединением заявки Ю (23) Приоритет (51) M. Кл.
Я 01 В 5/30
Государственный номнтет
Совета Министров СССР по делан изобретений и отнрытий (43) Опубликовано 150878.Бюллетень № 30 ! (45) Дата опубликования описания 0307.78 (53) УДК 531.781.2 (088.8) (72) Авторы изобретения В.А, хруничев, lo.Á. Цветков и A.т. каменихин
Московское ордена Ленина и ордена Трудового Красного
Знамени высшее техническое училище им. Н.Э. Баумана (71) Заявитель
{54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ДЕФОРМАЦИЙ ПОДЛОЖКИ
И ФОТОШАБЛОНА ПРИ КОНТАКТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ
Изобретение относится к областй производства микроэлектронных приборов и, в частности, предназначено для усовершенствования процесса фотолитографии. б
Известно устройство для определения деформаций контактирующих деталей, содержащее основание для первой детали и опору для второй, установленную с возможностью перемещения к основанию, нагружатель опоры .и измеритель относительных деформаций деталей,jl) .
Однако устройство не позволяет определять абсолютные значения.деформаций деталей.
Известно также устройство для измерения деформаций .подложки и фотошаблона при контактной фотолитографии, содержащее основание для размещения фотошаблона, опору для подложки, установленную с возможностью переме-. щения к основанию, нагружатель опоры и измеритель относительных деформаций(2
° ° анное устройство .является наибо-, лее близким к изобретению по техниФ ческой сущности и достигаемому результату.
Таким устройством невозможно измерять абсолютные значения деформаций контактирующих при фотолитографии деталей.
Цель изобретения — одновременное измерение абсолютных и относительных деформаций.
Эта цель достигается тем, что предлагаемое устройство снабжено измерителями абсолютных деформаций подложки и фотошаблона, первый из которых закреплен на опоре, а второй— на основании так, что его наконечник взаимодействует с наконечником измерителя относительных деформаций, корпус которого закреплен на опоре, причем все наконечники расположены на одной оси, а наконечники измерителей относительных деформаций и абсолютных деформаций подложки направлены навстречу друг другу.
На чертеже показано устройство для измерения деформаций подложки и фотошаблона при контактной фотолитографии, общий вид.
Устройство включает основание 1 для размещения.фотошаблона, опору 2 для подложки 3, нагружатель опоры, состоящий из микровинта 4 и рычага 5.
Опора 2 может перемещаться к основа619780
3 нию 1. Для измерения относительных деформаций Фотошаблона б применяется измеритель 7 относительных деформаций, а для измерения абсолютных деФормаций подложкя 3 и фотошаблона б применяются соответственно измерите ля 8 и 9 деформаций. Измеритель 7 расположен так, что его наконечнмк направлен навстречу наконечнику измерителя 8, и взаимодействует с наконечкяком измерителя 9, причем накокечиикя всех трех измерителей расположены по одной оси. Измеритель 8 абсолютной деформации подложки 3 закреплен ма оморе 2, а измеритель 9 абсолютных деформаций Фотошаблона б - на основания 1. Вакуумированив но лости между подложкой м фотсшаблоном может осуществляться с помощью гиб» кой манжеты М я канала ll, соединенного с вакуумяой системой (на чертеже не показана}. Иагружемяе осуществляется тарированмьвая грузаия 12.
Устройство работает следующим обраэоме
Подложку 3 устамавляэавт ма опоре 2. Микровинтом 4 через рычаг 5 опору 2 поднимают к основанию 1 до контакта подложки 3 с Фотошаблоном б.
Затем наконечник измерителя 8 вводят в соприкосновение с подложкой 3, наконечники измерителей 7 и 9 приводят во взаимодействие, прячем наконечник измерителя 7 деформации контактирует с Фотощаблоиом. йослв этого производят п<щжим пащ- ложкм к фотошаблону тарированным усиляем прн помсщя грузов 12 н считывание показаний всех измерителей.
Прм еТ с ss l s 8 снят чину абсолютной деформация подложки, с измерителя 7 - прогиб Фотошаблона относительно подложки, а с измерителя 9 — абсолютный прогиб Фотовшблона.
Зазор между Фотсшаблоном я педлоакой определяют как;Размоеть» относительной деформация Фотошаблома я абсолютяой деформаця» псщлощкя.
В случае измерения деформации подложки и Фотошаблона при вакуумировакии объем, ограниченный гибкой манжетой 10, подключается через канал 11
5 к вакуумной системе, а устройство в целом работает как описано выше.
Предлагаемое устройство позволя1ет не только оценить общую картину
10 контакта подложки н фотсшаблона но
У н измерить их абсолютныв и относительные деформации, что дает возможность оптимизировать параметры установок для контактной фотолитографии.
Формула изобретения
Устройство для измерения деформаций подложки и фотошаблона при ,р контактной фотолитографии, содержащее основание для размещения Фотошаблона, опору для подложки, установленную с возможностью перемещения к основанию, нагружатель опоры и измеритель от;@ носнтелькык деформаций, о т л ми а ю щ е е с я теи, что с целью одновременного измерения абсолютных и относительных деформаций, око снабжено измерителями абсолютной деформа30 цяя подложкм м Фотошаблона, первйй из которых закреплен на оноре, а второй — ка основания так, что вго наконечник взаимодействует с наконечником измерителя относительных деформация, корпус которого закреплен на опоре, причем всв наконечники расположены на одной оси, а наконечники измерителей относительных деформаций я абсолютных деформаций подложки направлены навстречу друг
40 другу.
Источники информации, принятые во вяиманяе при экспертизе:
1. Рытов Э.В. Основы расчета стыковых поверхностей деталей машин
45 на контактную жесткость. М., Машгиз, 1962,.с. 113.
2.Патент Chloe 93737228, кл.355-78, 1973.
619780 .
Составитель С. Сурков
Редактор И. Марголис Техреду О.Андрейко Корректор С. Гараснняк
Эаказ 4491/37 Уирал 872 Подписное
ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открнтий
113035 Москва Ж-35 Рараская наб. g. 4 5
Филиал,ППП Патент . Г. ужгород, ул. Проектная, 4
