Фотографический способ изготовления линзового растра на стекле

 

№ 72824

Класс 57Ь, 5oz

СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Н. А. Валюс, И. И. Китайгородский и М. Я. Кривицкая

ФОТОГРАФИЧЕСКИЙ СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИ

РАСТРА HA СТЕКЛЕ

Заявлено 31 мая 1947 г. за М 1136356428 в Министерство кинематографии СССР

Опубликовано 31 октября 1948 г.

Для того чтобы точно воспроизвести мельчайшие структуры линзовых растров самых различных профилей авторами предложен новый фотографический способ травления линзового растра на стекле.

Способ может быть осуществлен следующим образом.

Поверхность стекла покрывается слоем коллоидного раствора AgF (в желатине, в коллодии или т. п.). Полученный фотографический слой освещают лучами света, рисующими на его поверхности желательный узор растра (освещение фотографического слоя можно производить как с наружной его поверхности, так и через стекло — последнее выгоднее).

Свет, попадая в фотографический слой, поглощается кристалликами галоидного серебра AgF. Поглощение кванта ионом галоида сопровождается отцеплением от него электрона, переходом его к иону серебра и образованием атома серебра по уравнению:

Ag+F + hY A+gF.

Образующиеся под давлением света атомы фтора частично диффундируют к поверхности кристалла и улетучиваются, а частично связываются желатиной.

В результате процессов, происходящих внутри кристалла, атомы серебра соединяются между собой, образуя коллоидные частицы металлического серебра. Эти частицы по-видимому и служат центрами (скрытыми) «латентного» изображения.

Попутно с восстановлением серебра образующиеся ионы фтора, вступая в реакцию с проявляющим веществом (гидрохиноном), образуют фтористо-водородную (плавиковую) кислоту, например, по следующей схеме:

2AgF+ С,Н,(OH)., = 2Ag+С,Н,О +2HF.

Очевидно наибольшая концентрация фтористо-водородной кислоты должна происходить на тех участках, которые подвергались более интенсивному освещению, так как именно здесь образуется большее количе- ство центров проявления и в этих участках фотографического слоя восстанавливается ббльшее число кристалликов галоидного серебра. № 72824

Образующаяся фтористо-водородная кислота действует непосредственно на поверхность стекла, вызывая его частичное растворение.

Таким образом, на тех участках поверхности стекла, где концентрация фтористо-водородной кислоты была ббльшей, там и травление поверхности стекла окажется более глубоким, т. е. участки поверхности стекла, подвергшиеся более интенсивному освещению, будут в процессе проявления протр авлены глубже.

Следовательно, применяя различное распределение освещенностей поверхности фотографического слоя AgF npu его экспонировании, можно получать любое, наперед заданное, профилирование вытравляемого на поверхности стекла линзового растра.

По окончании процесса травления поверхности стекла фотографический (желатиновый или др.) слой смывается и для улучшения оптических качеств полученного линзового растра травленая поверхность стекла подвергается химической полировке.

Редактор P. Б. Кауфман Техред А. Л. Резник Корректор В. Андрианова

Поди. к печ. 30/XI — 61 г. Формат бум. 70+ 108 /16

Зак. 3188/20 Тираж 220

ЦБТИ при Комитете по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, М. Черкасский пер., д. 2/6

Объем 0,18 изд. л.

Цена 4 коп.

Типография, пр. Сапунова, 2.

Предмет изобретения

Фотографический способ изготовления линзового растра на стекле путем травления плавиковой кислотой, о тл и ч а ю шийся тем, что для травления применяют фотографическую эмульсию, наносимую на стеклянную подложку и содержащую коллоидный раствор фтористого серебра,

Фотографический способ изготовления линзового растра на стекле Фотографический способ изготовления линзового растра на стекле 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх