Способ очистки поверхностей изделий от отложений

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Сов(ивлнстическнх

Рклу6лик

<1>704688

К АВТОРСКОМУ СВ«И ЕТИЛЬСТВУ

{61) Дополнительное к авт. санд-ву (22) Заявлено 0204.77(21) 2476382/27-12 (5j)hA. Кл. с flPHcoo4HHoHH4M OààIHH 89

В 08 В 9/09

В 23 К: 15/00

Государственный комитет

СССР. ио ямам изобретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 25.1279. бюллетень 89 47

Дата опубликования описания 251279 (53) УДК 621.7..02(088,8} (72) Авторы изобретения

К.Г. Прилепский, Н.Н. Евграфов, А.В. Гудков и В.Г Крылов (71) Заявитель (54} СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ИЗДЕЛИЙ

0Т ОТЛОЖЕНИЙ

Изобретение относится к вакууь1Иой технике, а именно к способам очистки поверхностей изделий от отложений, которые образуются при эксплуатации изделий или в результате технологического процесса, например п эи электронно-лучевой сварке в вакууме.

Известны способы очистки вакуумных камер от отложений, образующихся в 10 процессе электронно-лучевой сварки или плавки за счет испарения части рас-. плавленного металла и последующего осаждения на внутренней поверхности камер, путем травления, прокалки, облучения звуковыми или ультразвуковыми колебаниями (1).

Эти способы сложны, трудоемки, требуют демонтажа камер, что делает их . практически не пригодными при очистке крупногабаритных станционарних камер.

Наиболее, распространенный способ очистки внутренней поверхности камер - механическая очистка стальными проволочными щетками (2). Однако этот способ не производителен. При зачистке щетками увеличивается шероховатость поверхности,что нежелатель-но для вакуумных камер,так как их по 2 верхность должна быть гладкой, не должна .иметь раковин, рисок и трещин.

Для этого поверхность камер полируют.

При зачистке щетками ухудшаются ус- ловия труда обслуживающего персонала, так как воздух загрязняется продуктами напыления .

Известей также способ очистки И удаления напйленных частиц металла, при котором применяют камеру, внутри которой укреплен барабан, а на нем установлены охлаждаемые экраны (3).

На барабане напротив экранов смонтированы подогреватели. Удаление на каждом из экранов напыленных частиц производится s результате нагревания экрана. При этом напыленный на экране. металл испаряется и конденсируется на охлаждаемом экране. И этот способ требует камер специальной конструкции. Для крупногабаритных камер такая конструкция громоздка и дорога. Процесс испарения, конденсации и сбора металла эначиельно увеличивает технологический цикл и, следовательно, снижает производительность труда.

Известен способ очистки поверхнос- тей от различных отложений, при ко704688

Формула изобретения

1 аж 669 Подписное.I

Филиал ППП Патент, r.Óæãoðoä, ул.Проектная, 4

3 тором до пбпада ни я. очищаемой по в ерхности a условия образования отложения в зоне йх""возможно)го"воэ"ййкйо= вения набросят искусственно соэдавае"" Мый слой первичного отложения с малой адгезией его к материалу очищаемой поверхности. Затем этот слой удаляют.8а счет упругой деформацйй, которой подвергают очищаемую поверхность, возбуждая в ней однночные электрические импульсы (4).

Этот способ не явлется универсальным. Его нельзя использовать для очистки нетокопроводящих поверхностей и различных койструкций. Напри мер, установки для электронйо-лучевой сварки в вакууме нельзя очищать та" ким способом, так как в их состав

" входят электровакуумные приборы, теРяющие работоспособность в условиях - "ЦИкли4еских нагрузок. Для создания покрытия в соответствии с иэвестйым способом требуются десятки часов, а свойства покрытия таковы, что в-"процессе" очистки оно разрушает ся и ойадает. Это требует дополнительных затрат на очистку от образующихся кусков и пыли. Особенно вели-. ки затраты, если поверхность очищаемых конструкций развита или имеет в нижней части"различные механизмы и приспособления, а сами конструкции ЗО не кантуются, например установки .для электронно-лучевой сварки, цис терйы и т. д.

Целью изобретения является расширение технологических возмож- Ç5. ностей способа очистки поверхности от различных отложений и улучшение условий труда.

Это достигается тем, что на очищаемую поверхность предварительйо 40 наносят защитный слой вещества с малой адгезией его к материалу очищаемой поверхности с последующим удалением этого слоя, а в качестве вещества защитного слоя использу- 45 ют вещество, образующее эластичную йленку иа поверхности изделия. Тол-щину пленки выбирают так, чтобы сила ее сцепления с очищаемой поверхностью не превышала силу требуемую для разрушения пленки.

"олщина.пленки должна быть не менее 0,05 мм. В качестве вещества защитного слоя могут быть использо" вайй вещества из групйы перхлорвиниловых лаков.

На предварительно очищенную- и обезжиренную внутреннюю поверхность вакуумной камеры перед электроннолучевой сваркой, в процессе кото poA пары свариваемых металлов по- 60 крывают стенкй камеры трудноудалиЦНИИПИ Заказ 7920/14 Тир

MHM слоем, наносят с помощью краскораспылителя или кисти несколько слоев лака ХВ-139 МРТУ6-10-728-68, образующего на поверхности камеры эластичную пленку. Нанесенный слой лака сушат в естественных условиях в теченйе 30 мин. На создание покрытия толщиной 0,2 мм затрачивается около

3 ч одним рабочим. После просушки камеру герметйзируют и проводят сварку. Примерно через 20 суток при времени сварки 120 мин пленку без особых усилий удаляют вместе с напыленным за это время слоем отложений за 5 - 10 мин в зависимости от площади.

Использование данного способа очистки поверхности изделий от отло;жений расширяет технологические возможности, улучшает условия. труда, повышает производительность труда в

5-6 раз и не требует применения специального оборудования.

1. Способ очистки поверхностей изделий от отложений, при котором на очищаемую поверхность предварительно наносят защитный слой вещества с малой адгезией" его к материалу очищаемой поверхности с последующим удалением этого слоя, отличающийся тем, что, с целью расширения его технологических возможностей и улучшения условий труда, в качестве вещества защитного слоя используют вещество, образующее эластичную пленку, толщину которой выбирают так, чтобы сила сцепления этой пИенкй с очищаемой поверхностью не превышала силу, требуемую для разрушения пленки. .2. Способ по п. 1,о т л и ч а ю- шийся тем; что толщину эластичной пленки выбйрают не менее 0,05 мм.

° 3. Способ по и. 1,о т л и ч а юшийся тем, что в качестве вещетства защйтйого слоя используют вещество из группы перхлорвиниловых ла-, ков.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Техника высокоro вакуума, М., Мир. 1975, с..514-515.

2. Инструкция по эксплуатации

Ф00816ИЗ агрегата АВЭД, разработанная Физико-техническим институтом

AH УССР, 1971.

3. Авторское свидетельство СССР

422800, кл. С 23 С 13/08, 1972, 4. Авторское свидетЕльство СССР по заявке 92355220/12,кл. В 08 В 3/00, 26.04.76.