Способ очистки вакуумных камер отостаточных газов

 

Оп ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советскик

Социалистическик

Республик (ii)808106 (6l ) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 26.08.75 (21) 2168003/23-26 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет— (51) М.К.

В 01 D 5300

Государственный комитет (53) УДК 66.074. .3 (088.8) Опубликовано 28.02.81. Бюллетень № 8 оо делам изобретений и открытий

Дата опубликования описания 10.03.81

С. П. Олеськина и Д. М. Френк (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ВАКУУМНЫХ КАМЕР ОТ

ОСТАТОЧНЫХ ГАЗОВ

Формула изобретения

Изобретение относится к технике получения глубокого вакуума и может быть использовано в области нанесения покрытий и получения тонких пленок в вакууме.

Известен способ очистки вакуумных камер от остаточных газов путем термического распыления газопоглощающих веществ (геттеров) в объеме камеры. В качестве газопоглощающих веществ (геттеров) используют металлы (титан, цирконий, барий) или их соединения (1).

Однако используемые геттеры плохо связывают водяные пары и гидроксильные группы.

Цель изобретения — повышение степени очистки от водяного пара и гидроксильных групп.

Поставленная цель достигается тем, что в качестве газопоглощающего вещества (геттера) используют иодид калия.

Перед распылением в объеме камеры мелкокристаллический порошок иодида калия нагревают до 600 — 650 С для освобождения от кристаллически связанной влаги. Получающаяся при распылении пленка не шелушится, не отслаивается, имеет небольшой коэффициент адгезии с поверхностью камеры.

Пример. Вакуумную камеру, изготовленную из низкоуглеродистой стали предварительно откачивают до 10 мм рт. ст. 3атем в камере распыляют термическим путем предварительно прокаленный до 650 С иодид калия. Вакуум после распыления достигает 10 мм рт. ст. Контроль с помощью омегатронного масс-спектрографа показывает присутствие следовых количеств вото дяных паров и гидроксильных групп.

Применение иодида калия в качестве геттера позволяет резко снизить парциальное давление водяных паров и гидроксильных групп в объемных непрогреваемых вакуумных установках промышленного типа, от l5 «6 -Р качиваемых до разряжения 10 — 10 мм рт. ст. щ Способ очистки вакуумных камер от остаточных газов путей термического распыления газопоглощающих веществ(геттероф в объеме камеры, отличающийся тем, что, 80810б с целью повышения степени очистки от водяного пара и гидроксильных групп, в качестве газопоглощающего вещества используют иодид калия.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Технология тонких пленок. Справочник. т. 1, М., «Сов. радио», 1977, с. 20б — 221.

Составитель Б. Рахмуков

Редактор В. Матюхина Техред А. Бойкас Корректор Л. Иван

Заказ 10766/5 Тираж 717 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений н открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патентi, г. Ужгород, ул. Проектная, 4