Способ создания профилей ионной повреждаемости

 

СПОСОБ СОЗДАНИЯ ПРОФИЛЕЙ ИОННОЙ ПОВРЕЖДАЕМОСТИ в плоских образцах путем ионной бомбардировки, отличающийся тем, что, с целью расширения области применения и упрощения технологии, ионную бомбардировку осуществляют через поглощаницие фильтры цилиндрической формы.

{ l9) {31) СОЮЗ СОВЕТСКИХ

NUNI

РЕСПУБЛИК

4{5ц Н 01 ? 21/265

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ 1 ::.

И ЬВТСССИСВУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЭОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 2908687/18-21 (22) 10.04.80 (46) 28.02.85. Бюл. У 8 (72) В.Ф. Реутов и С.П. Вагин (71) Институт ядерной физики АН Казахской CCP (53) 621.384.6(088.8) (56) 1. С. Пью, Атомная техника за рубежом. 1971, Ф 5(19).

2. Т.Е. Witley, С.L. Kulciuski, P.W. Ikes, Н.V.Smith. Tr. T. Hucl.

Mat 79, (1979) 1 (54) (57) СПОСОБ СОЗДАНИЯ ПРОФИЛЕЙ

ИОННОЙ ПОВРЕЖЦАЕИОСТИ в плоских образцах путем ионной бомбардировки, о т л и ч а ю щ и и .с я тем, что, с целью расширения области примене ния и упрощения технологии, ионную бомбардировку осуществляют через поглощающие фильтры цилиндрической формы.

865063

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано для получения объектов с целью изучения в них.характера ионной повреждаемости вдоль трека 5 движения ионов.

Облучение объектов ионами различных масс и энергий широко исполь эуется при решении многих актуальных задач радиационной физики твердого тела (11 . Малые пробеги тяжелых ионов в материалах, изучение повреждаемости от которых представляет наибольший научный и практи-еский интерес, позволяет применять IS для исследований в основном просвечивающую электронную микроскопию (ПЭМ), Известные способы предусматривают различные, но всегда трудоемкие, методы прецизионного снятия 20 тонких. слоев. Наиболее близким техническим решением является способ создания профилей ионной повреждаемости, закпючающийся в ионной бомбардировке плоского образца, например, 25 фольги (2j, Толщину фольги наращивают до

2-3 мм методом электролитического осаждения и разрезают поперек на тонкие полоски, из которых выбиваются щ0 диски.

Основным недостатком, существенно ограничивающим область применения описанного способа, является

НеВОзможность IIOH7%eHHH IIpO IHMX

;для этого необходимо, предварительное

; нанесение на поверхность образца слоя. 40 другого материала, что недопустимо, поскольку практически невозможно подобрать электролит для последующего однородного утонения этого .сложного сэндвича с целью получения образца для ПЭМ. Получение столь толстых слоев методом вакуумного напыления исключается из-за очень малых скоростей напыления, Кроме того, сам по себе описанный процесс . является сложным и трудоемким.

Цель изобретения — расширение области применения и упрощение технологии, 55

Цель достигается тем, что в известном способе создания профилей ионной повреждаемости в плоских образцах пу ем ионной бомбардировки ионную бомбардировку образца осуществляют через поглощающие фильтры цилиндрической формы.

На чертеже приведена схема облу-. чения образца.

В соответствии со схемой облучения бомбардирующие ионы 1, проходя через переменную вдоль направления их движения толщину проволочного фильтра 2, изменяющуюся по закону

В = 2 где К вЂ” радиус фильтра, теряют энергию и достигают поверхности образца 3, например, в участке А-А с различной энергией.

Величину энергии ионов на поверхности образца определяют по величине пробега в цилиндрическом фильтре численным образом из известных кривых

"энергия-пробег" для материала.фильтра. В точке А энергия равна О,. в

/ точке А-Ео. Таким образом, в плоскости одного образца получается

2N (N — число проволочных фильтров) участков площадью R L (R> L — - раж диус и длина проволочного фильтра), в которых энергия вдоль R изменяется от О до Ес. Утоняя обычным способом данный, образец со стороны, противоположной бомбардирующей поверхности, получают объект для ПЭМ исследований, в плоскости которого можно одновременно наблюдать не одну зону с переменной повреждаемостью.

Использование предлагаемого способа обеспечивает по сравнению с существующим способом следующие преимущества полное исключение технологически сложных, а во.многих случаях неосуществимых способов увеличения толщины облученных фольг; возможность одновременного изучения в одном образце энергетической зависимости радиационной повреждаемости, характера поведения легирующих элементов во всей зоне легирования не только во всех без исключения чистых металлах, но и-в сложных сплавах, а также в других материалах, из которых только возможно приготовление образцов для ПЭМ;, в десятки раз сокращается время проведения эксперимента, которое определяется не только исключенными

865063

Редактор Л. Письман Техред Т.Наточка

Корректор О. Билак

Заказ 564/4, Тираж 679 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и .открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 процессами утолщения образца и последующей его резки, но и низким выходом пригодных для исследования электронномикроскопических образцов из неоднородного:чо структуре сложного сэндвича.

Способ создания профилей ионной повреждаемости Способ создания профилей ионной повреждаемости Способ создания профилей ионной повреждаемости 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления интегральных механоэлектрических преобразователей

Изобретение относится к области производства полупроводниковых приборов и может быть использовано в технологии изготовления дискретных приборов и интегральных схем для очистки (геттерирования) исходных подложек и структур на основе монокристаллического кремния от фоновых примесей и дефектов

Изобретение относится к методам формирования твердотельных наноструктур, в частности полупроводниковых и оптических, и может быть использовано при создании приборов нового поколения в микроэлектронике, а также в оптическом приборостроении

Изобретение относится к способам образования квазиодномерных твердых кремниевых наноструктур

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем облучения ионами фазообразующих элементов и может быть использовано для ионной модификации структуры и физико-механических свойств металлов, полупроводников и сверхпроводников

Изобретение относится к области производства полупроводниковых приборов и может быть использовано в технологии для формирования в кристаллах областей с различным типом и величиной электропроводности с помощью имплантации ионов средних (10-5000 кэВ) энергий

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем их облучения пучком ионов из фазообразующих атомов и может быть использовано для структурно-фазовой модификации твердых тел, например для улучшения их физико-механических, коррозионных и других практически важных свойств
Наверх