Способ обработки полимерных эфиров метакриловой кислоты (оргстекло), с целью использования в качестве основы для фотографических материалов

 

М.Ж3441

l (у

Класс 57Ь, 601

СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

СПОСОБЫ ОБРАБОТКИ 1!ОЛИИЕРНЫХ ЭФИРОВ

МЕТАКРИЛОВОЙ КИСЛОТЫ (ОРГСХЕКЛО) С ЦЕЛЫО

ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В КАЧЕСТВЕ ОСИОВЬ

ДЛ @ОТО!"Р 1 @ИЧЕСКИ !Щ ТЕРИ ЛОВ

Зииилеид 1 феи»иу:, 1951 у ии ¹ 1236/- .-1 63 z се-, -.---ик-: д

Опубликова-:.ý и <.Ьюллетеие изобьете»и;.:.: ¹ 2 — ". -:. 19,=2 у

Предме- изсб; ..тгн:<«

При изготовлении Обычных фотопластинок в качестве подложки .применяют стекло, а при изготовлении форматных фотопленок подложкой служит целлулоид.

Оба miIIa подложки имеют существенные недостатки: первый— большой вес и хрупкость, а ьторой — большой процент усадки,как в процессе фотографической Обработки, так и во время хра нения готового фотоонимка или негатива.

Предлагаемый способ позволяет устранить недостатки указанных типов фотоподложек благодаря применению в качестве основы для фотографических материалОв полимерных эфиров метакриловой кислоты (оргстекло) с дополнительным покрытием поверхности оргстекла лаком ва оочове триацетата целлюлозы, предупреждающим десенсибллпзацию светочувствительной эмульсии.

Су1цность способа "-аключаепся в следующем.

Фотоподложку изготавливают из полимерных эфглров мета к!пиловой кислоты (оргстекло) и покрывают одну ее сторону, предназиаченную для светочувствительной эмульсии. с»всем лака..:1ак уотоьят из триацетата целлюлозы (3%-ный раствор), растворенного в смеси метиленхлорида и метанола в соотношенп;I 9: 1. В готовый лак добавляют д1бутилфталат в количестве 20 Д от пленкообразукщего вещества. На фотоподложку лак наносится ооычным порядком путем полива или путем купа:-1пя фотоподлэжки. ПОлы этого сугцат лакированну10 фотоподложку в токе

c хого ЭОздуха ID11 Тр. Iæ)Iñ1I ре 30—

60о

Для удержания эмульсионного

-лоя .на лакову:- сторону фотопод ло.:к:;.: 11анос11тся подслоп, состоягций из "",, елат-нч>1

1",,;, фталиевой клслоты, !6 "(, этилового слирта, 62 "(1 ацетона и 0,25, формалича (40 10 -ный раствор) .

Нанесение HH фотОподложку подслоя и сушка его нроизвсдятся обычным поря, кОм, чринять1м в фотОхами;1ескои промы1пленяэсти и 1-., про. извОд".".тве фотопла стиве ..

Способ обрабочки .полимерных эфиров метаукриловой,кислоты (орг№ 93344

Ота. редактор й. В. Макаров

Л105075 от 8%111 1955 г. Стаидартгиз. Объем 0,125 и. л. Тираж 400. Цена 25 кои.

Типография изд-иа «Московская правда», Иотапоаский пер., 3. Зак. 3887 стекло) с целью ис пользоваиия В Каеесхае основы для фотографических материалов, о тл и ч а ю щ и йс я тем, что поверхность оргстекла покрывают лаком на основе триацетата целлюлозы и дальнейший полив ведут способами, применяемыми при поливе на триацетатную оонову.

Способ обработки полимерных эфиров метакриловой кислоты (оргстекло), с целью использования в качестве основы для фотографических материалов Способ обработки полимерных эфиров метакриловой кислоты (оргстекло), с целью использования в качестве основы для фотографических материалов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность

Изобретение относится к изготовлению фотобумаги и может быть использовано при нанесении маловодосодержащей фотоэмульсии на фотобумагу

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к области химико-фотографической промышленности и может быть использовано в производстве кинофотопродукции с фотоэмульсионным покрытием с заданными свойствами

Изобретение относится к области химии и может быть использовано для формирования нанокомпозитного покрытия на пористом слое оксида алюминия
Изобретение относится к изготовлению светочувствительных материалов, используемых в голографии и специальной фотографии, предназначенных для изготовления голографических оптических элементов (ГОЭ) сферической формы, требующих высокой оптической точности и чистоты поверхности слоя

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к способу и устройству для формирования тонких пленок, например пленок фоторезиста на полупроводниковых пластинах
Наверх