Устройство для контроля дефектов структуры

 

О П И С А Н И Е,0„ 8

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное K авт. саид-ву (22) Заявлено 13.06. 80 (2>) 2944198/18-25 {51) М. КЛ.З с присоединением заявки №

G 01 N 21/88 (23) Приоритет

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий ($3) УДК 535.242 (088. 8) Опубликовано 15. 03.83.Бюллетень ¹ 10

Дата опубликования описания 15. 03.83

В.А. Лопухин, А.С. Гурылев, А.С. Шумилин, К.M. Лебедев, В.В. Дикушин и Н.И. Лабутин (72) Авторы изобретения

Ф,-

:Ленинградский институт авиационного прибор сстроения: (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ДЕФЕКТОВ

СТРУКТУРЫ

Изобретение относится к приборостроению, в частности к устройствам для осуществления контроля, дефектов полупроводниковых структур.

Известно устройство для контроля дефектов структур, содержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн.с закрепленными на нем микроскопом, блоком преобразования изобретения структуры в элект- . рический сигнал, блок управления, блок памяти, блок качания и экранный пульт 51).

Недостатком этого устройства является большая избыточность анализируемой информации. При контроле дефектов структуры анализу подлежат лишь отдельяые участки (например транзисторы). Те. участки, которые при визуальном анализе иэображения оператором на экранном пульте.не подлежат контролю, являются шумом и отвлекают оператора, снижая тем самым производительность и достоверность контроля. Наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для контроля дефектов структуры, .содержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленными на нем микроскопом, блоком подсвета структуры н блоком преобразования иэображения структуры в электрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен. к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сиг. нал, а первые три выхода подключены соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу блока подсвета структуры н входу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, блок памяти, вход которого подключен к !

5 четвертому выходу блока управления, а выход к второму входу блока упрйвления, блок печати, вход которого подключен к выходу блока управления, экранный пульт, первый вход ко20 торого -подключен к шестому выходу блока управления и статическую маску. В этом устройстве с целью снижения уровня шумов применена статическая маска, нанесенная непос25 редственно на контролируемую структуру f.22.

Недостатком известного устройства является необходимость выполнения операций по нанесению и снятию статической маски, что снижает про1004829

t5

30 ранного пульта 10.

55 ,0 изнодительность контроля, а также приводит к внесению дополнительных дефектов, что снижает достоверность контроля.

Целью изобретения является повышение производительности и достоверности контроля.

Цель достигается тем, что в известном устройстве, содержащем блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленными на нем микроскопом, блоком под . света структуры и блоком преобразов ния изображения структуры в электрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, а первые три выхода подключены соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу блока подсвета структуры и входу блока преобразования изображения структуры н электрический сигнал, блок памяти, вход которого подключен к четвертому выходу блока управления, а выход — к второму входу блока уп равления, блок печати, вход которого подключен к пятому выходу блока управления, экранный пульт, первый вход которого подключен к шестому выходу блока управления, и статическую маску, статическая маска выполнена электронной, и в устройство дополнительно введен блок формирования статической электронной маски, вход которого подключен к седьмому выходу блока управления, а выход к второму входу экранного пульта.

Кроме того, дополнительно введен блок формирования динамической электронной Маски, вход которого подключен к восьмому выходу блока управ- ления, а выход - к третьему входу экранного пульта. .На чертеже предстанлено устройство..

Устройство для контроля дефектов структуры содержит блок питания 1, устройство перемещения структуры 2, кронштейн 3, на котором закреплены микроскоп 4, блок подснета структуры 5 и блок преобразования изображения структуры в электрическии сигнал 6, блок упранления 7, блок памяти 8, блок печати 9, экранный пульт 10, и блок формирования статической электронной маски 11. Кроме того, в устройство может быть введен блок формирования динамической электронной маски 12.

Устройство работает следующим образом.

B èñõîäíîì состоянии контролируемая структура закреплена s устройстве перемещения структуры 2. Блоком управления 7 включаются блок подсвета структуры 5, которыЯ обеспечинает подсвет необходимого участка структуры и блок преобразования изоб. ражения структуры в электрический сигнал 6. Изображение структуры через микроскопы 4 поступает на фо" точувствительную часть блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал 6, с блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал 6 электри ческий сигнал поступает на блок управления 7. Блоком управления 7 обеспечивается отображение информации на экране экранного пульта 10.

Оператор по изображению структуры на экранном пульте корректирует положение изображения на экране блоком управления 7 через устройство перемещения структуры 2 и регулирует само иэображение структуры на экране экранного пульта 10.

Контроль дефектов структуры проводится по принципу "Есть" или "Нет" дефекты (темные пятна) на транзисторах.

Для уменьшения поля просмотра и соответственно уменьшения шума, посту пающего с визуальной информацией с экрана экранного пульта, на экране затемняется поверхность структуры, на которой нет транзисторов.

Это затемнение (статическая электронная маска) обеспечивается бло.ком формирования статической электронной маски 11, который,по команде с блока управления 7 формирует статическую (т.е. не изменяющуюся в процессе контроля одного типа струк тур) электронную маску на экране экПросмотрев структуру, оператор необходимые данные записывает с блока управления 7 в блоке памяти 8 и производит замену контролируемой структуры с помощью устройства перемещения структуры 2. По окончании контроля всей совокупности структур оператор блоком упранления 7 передает информацию с блока памяти 8 о структурах в блок печати 9. При введении н устройство блока формирования динамической маски устройство работает как описано выае вплоть до этапа формирования статической маски. После формирования статической маски блоком управления 7 включается блок формирования динамической маски 12. В результате образуется динамическая электронная маска, образующая на экране окно, отрывающее изображение только одного транзистора. Оператор оценивает наличие либо отсутствие дефекта на данном участке н через блок управления 7 передает соответствующую информацию в блок памяти 8. После этого через блок управления на блок формирования

1004829

Формула изобретения динамической электронной маски подается сигнал перемещения окна и окно перемещается на экране экранного пульта 10 к следующему участку-структуры.

Такой последовательный анализ контролируемой структуры позволяет получать дальнейшее повышение пройэводительности и достоверности .контроля вследствие того, что оператор имеет возможность сосредото- 10 читься на детальном контроле небольшого участка структуры и результат контроля сразу же запоминается.

Таким образом, использование статической электронной маски на экранном пульте 10 обеспечивает повышение производител;ьности и достоверного анализа вследствие увеличения отношения сигнал/шум визуальной информации, а также вследствие отсутствия необходимоСти предварительной и последующей обработки структуры. Дальнейшее увеличение производительности и достоверности анализа дос. тигается путем использования. динамической электронной маски, дополнительно увеличивающей отношение сигиaP/øóì. 1. Устройство для контроля дефектов структуры, сОдержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленны- З5 ми на нем микроскопом, блоком подсвета структуры и блоком преобразования иэображения структуры в электрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, а первые три выхода подключены .соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу бло ка подсвета структуры "и входу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, блок памяти, вход которого подключен к четвертому выходу блока управления, а выход - к второму входу блока управления, блок печати, вход которого подключен к пятому выходу блока управления, экранный пульт, первый вход которого подключен к шестому выходу блока управления, и статическую маску, о т л и ч а— ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности и достоверности контроля, статическая маска выполнена электронной, и в устроЯство дополнительно введен блок формирования статической электронной маски, вход которого подключен к седьмому выходу блока управления, а выход - к второму входу экранного пульта.

2. Устройство по и. 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что в него дополнительно введен блок формирова ния динамической электронной маски, вход которого подключен к восьмому выходу блока управления, а выходк третьему входу экранного пульта.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1 ° Патент Великобритании

9 1532901, кл. G 01 N. 21/00, опублик. 1979.

2. Stroke W., Haliona M., Then F., Willasch D.N. "Image Impaonement

and Three - Ьяепз1опв1 Reconsttaction Using Holographic Image Proces«

sing" IEEE, 1977, v . б5, 9 1, рр.3962 (прототип).

1004829

Составитель С. Вочинский

Редактор Л. Повхан Техред A.Áàáèèâö Корректор Г.Решетник

Эаказ 1870/53 Тираж 871 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Рауььская наб., д.4/5

Филиал.ППП "Патент", r. ужгород, ул. Проектная, 4

Устройство для контроля дефектов структуры Устройство для контроля дефектов структуры Устройство для контроля дефектов структуры Устройство для контроля дефектов структуры 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для обнаружения механических дефектов на деталях с оптически грубой поверхностью

Изобретение относится к области производства магнитно-люминесцентных порошков, применяемых для обнаружения поверхностных и подповерхностных тонких нарушений сплошности в деталях и изделиях из ферромагнитных материалов

Изобретение относится к устройствам для обнаружения поверхностных дефектов на цилиндрических объектах, таких как топливные таблетки атомных электростанций
Наверх