Травильный раствор

 

ТРАВИЛЬНЫЙ РАСТВОР, включающий HF, HiS04., HCI, Htp, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных изделий и сокращения времени травления, он дополнительно содержит HNO} при следующем соотношении компонентов, мас.%: HP20-40. H SO 1-10 нее3-15 НЖ),10-40 Hj,0Остальное

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

PECllYSЛИК ф(51) С 03 С 15 00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И 07HPbtfHA

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ н автаеансмм сеиЮат@Ъстам

Ка(21) 3728601/29-33 (22) 26. 01. 84 (46) 07..06.85. Вюл. В 21 (72) Е.С. Левшина, Е.Н. Пятыиев и Л.В, Черненькая (71) Ленинградский ордена Ленина политехнический институт им. М.И, линина (53) 666. 1.053.63 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

Ф 300433, кл. С 03 С 15/00, 1969.

Патент Японии I 51-22490, клг 21 В 33, опублик. 1976.

„„SU;„, ll 99Ùß A (54)(57) ТРАВИЛЬНЫЙ РАСТВОР, включающий HF Н ЗО, HCI Н О, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью повыпения выхода годных иэделий и сокращения времени травления, он дополнительно содержит HNOs npu следующем соотношении компонентов, мас.Х:

HF 20-40 н,зо 1-10

HCt 3-15

НЯО, 10-40 ,Н О Остальное

Компоненты, мас.%

) Выход годных изделий (X) Время, мин

F Н,ВО, НСХ HNO Н,О

99

15

45

98

10

30

99

70

100

10

60

Составитель О. Самохина

Техред Т.Фанта Корректор M „Самборская

Редактор Е. Лушникова

Тираж 457 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035,. Москва, Ж-35,. Раушская наб., д. 4/5

Заказ 3685/21

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная,4

1 1159

Изобретение относится к технологии стекла, а именно к способам обработки поверхности стекла и может быть использовано в приборостроении, радиотехнической, электронной и оптико-механической промышленности, где требуется точное избирательное травление поверхности стекла.

Цель изобретения — повышение выхода годных изделий и сокращение времени травления.

Обрабатывают пластины полированного стекла размером 76к76 мм .

На лицевую поверхность пластин методом вакуумного напыления в установке УРМ-3 наносят хром в течение

30-40 мин. Затем покрывают слоем фоторезиста AZ-.1350 и сушат на центрифуге. Для закрепления фото-. реэиста пластины подвергают температурному дублению в термостате при t 120 С в течение 15 мин.

На поверхность накладывают фотошаблон с требуемьм рисунком. Изображение экспонируют от источника актиничного излучения в течение

2-3 мин. Затем фотошаблон поворачивают на 180 и экспонируют повторно, что позволяет устранить необлученные участки на поверхности 30 пластины, возникающие из-эа микродефектов в структуре фотошаблона.

905 2

Затем с облученных участков снимают фоторезист в проявителе при нагревании, промывают дистиллированной водой.. С незащищенных участков травят хром в травителе хрома, промывают слабым раствором HCL (чтобы не образовался белый осадок) и дистиллированной водой. В результате получают изображение на пластине.

Для получения рельефа предварительно поверхность пластины обеэжиривают раствором К Сг О в Н $0

ЗсОНМ; .

Это повышает чистоту вытравливаемой поверхности и тем самым уменьшает возможность образования непротравленных участков на поверхности рельефа. Затем стекло травят в предлагаемом травильном растворе.

Результаты приведены в таблице.

С использованием предлагаемого раствора в пластинах получены углубления 10, 20, 40,60 мкм площадью 66 28 мм . Поверхность рельефа проверяют с помощью оптического микроскопа. Непротравленных участков, а также выступов более 1 мкм на поверхности рельефа не обнаружено. Следовательно, чистота поверхности удовлетворяет предьявляемым требованиям.