Способ очистки поверхности стекла

 

СООЗ СОВЕТСНИХ

РЕСПУБЛИН

„.SU„,, 1227606 А1 с504С 03 С 23 00

aCFrr:L» .., Ц/

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3631579/29-33 (22) 02.08.83 (46) 30.04.86. Бюл. 11 16 (72) Б.В.Абалдуев, Г.Г.Белолипцева, В.В.Гредина, В.П.Севостьянов, Т.М.Назарова, С.Х.Финкельштейн и В.Я.Филипченко (53) 666.1.05 (088.8) (56) Заявка Японии У 50-130973, кл . 21 В 32, опублик. 1975.

Заявка Японии М 52-144020, кл. 21 В 33, опублик. 1977. (54) (57) СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ СТЕКЛА путем обработки сначала в водном растворе поверхностно-активного вещества, затем в травильном растворе с последующей промывкой в деионизованной воде и сушкой, о т л и ч а ю щ н и с я тем, что, с целью повышения выхода годных изделий, в качестве травильного раствора используют раствор натриевого и/или калиевого жидкого стекла с рН 10-14.

Изобретение относится к технологии подгoтовки поверхности стеклян122! h,l(i 2 со>:1 <нить ее микроморфологию, эффект IBID:i очигцает поверхность от эагрязных пластин и подложек для процессов вакуумного нанесения пленок и может быть использована B производстве приборов электронной техники, таких как вакуумные люминесцентные индикаторы, жидкокристаллические индикаторы, oio-тошаблоны, илн других изделий, например зеркал, Целью изобретения является повышение выхода годных изделий.

Исходная a:îBåðõíîñòü стекла перед очисткой характеризуется наличием на ней различного рода частиц с размера-ми О,1 — 1,0 мкм, которые по химической природе являются, главньгм образом. продуктами взаимодействия компонент стеклянной матрицы с адсорбированными из атмосферы газами типа

СО,. Н О и др, При отмывке в водном растворе с ПАВ частицы и загряэняющие пленки с поверхности удаляются и выявляется поверхность стекла с рыхлым рельефом разрушенного слоя, Дальнейшая обработка пластин в активной травящей среде приводит к растворению разрушенного слоя и образованию бесструк -урной поверхности =теклянной матрицы, Кроме того,, показателем качестве: очистки являетcR элементный со=TBII поверхности.

При обра ОтеЯ в растворах си.пика топ щелочных металлов эа с ет равнсвесных .словий протекания реакции растворения, и бли"-ости химической природы растворителя и матрицы на

oc BixpBp TcF тонкий слой си кремния,, который пассивирует поверхность, снижая ее адсорбционную активность;.

ГО этой причине наряду со энач-iтельнО меньшей скОрОстью растворе ния B щелочно--силикатном раствОрс н» происходит рас-paBvk-BaH>EEE дефектов поверхности с.;екла:

Таким образом,, щелочно-силикатная

ОбрабОтка пОзволяет избежать сепек тивного травления поверхностных дефектов подложек и, спе цовя ель но няюгцих элементов и одновременно пассивирует ее и, наконец, полностью

У удаляет раэругценный слой и продукты гидролиэ а с текла .

Пример 1, Полпожки изготовпялясь иэ плоского оконного стекла

1Iроиэвоцства Лисичанского завода с:гедующего с.остава, : SiO 72;

А1„0, 2; Fe О. 0,2; СаО 6,6; И О 4;

11а„О 13,1:. К О 1,5. Очистку осуществляли на полуавтомате химической очистки и суцпси стеклянных пластин.

Операцию отмывки в водном растворе

ПАВ (моющее средство "Прогресс" ) с концентрацией 0,57. проводят при

o .

ЯО С, Сушку подложек проводят центрифугированием при 180 С 5 мин.

Критерием качества очистки служит пpîoköEIå íHò T вBыхода годных пор ожек В, определяемый как В = (В, В„) . 100X > где В, — выход годных плат непосредс гвенно после очистки, оценивае— мый оптичес«w : способом в косом освещении ".о наличию на поверхности пятен или рас травленных дефек— тoB,  — выход годных плат по адгеэии пленок, напыляемых в вакууме

«а у< тановке типа УВН13-П2, Изобретение поясняется на конкретиых примерах, которые приведены в таблице, Таким образом, предложенный способ позволяpT увеличить процент выхода годнь..х изделий эа счет уменьшения брака по качеству адгезии вахуумнонапыленных пленок V-A1, а б также параметрического брака, свя=-.ÿ".ííîão с качеством металлиэации; удешевить процесс очистки стеклянных:"одложек э а счет исполь зов ания менее дорогостояших и дефицитных реJ ) активов,, существенно уменьшить энер.-г емк ость процесса Bà счет исключения операции термообрабо-.ки подлскек

Зкономический эффект составит

Руб ° в г од °

1227606

ТемпеВремя обработки, мин

Тип Очистки

В,Z в, ратура обработки, с Согласно прототипу

20 0,6 0,87 52

0,5

- Раствор жидкого стекла в воде:

10

l0

10

80 0,90 0,98 90

ЖС (калиевое): ЖС (натриевое) 80 0,91 0,98 90

Н 0 = 1:I:2, рН 12

ЖС (калиевое): ЖС (натриевое):

Н 0 1:I:2å5þ рН 1О

80 0,85 0,95 81

Составитель 0 ° Самохина

Техред И.Верес

Редактор Н.Горват

Корректор Г.Решетник

Заказ 2259/25

Тираж 457

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб,, д.4/5

Подписное

Производственно-полиграфическое предприятие, г.ужгород, ул.Проектная, 4 калиевого, рН 14 натриевого, рН 14 калиевого, рН 12 натриевого, рН 12 калиевого, рН !О натриевого, рН 10

Смешанный раствор калиевого и натриевого жидкого стекла в воде с соотношением компонентов:

ЖС (калиевое) ЖС (натриевое):

Н 0 = 1:1:I рН 14

60 0,83 0,94 78

80 0 92 0 98 90

60 0,83 0,94 78

80 0,92 0,98 90

60 0,80 0,91 73

80 0,87 0,95 83

Способ очистки поверхности стекла Способ очистки поверхности стекла Способ очистки поверхности стекла 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к технологиям лазерной обработки твердых материалов, и, в частности к технологии создания изображений внутри объема прозрачных изделий с различными цветовыми эффектами
Изобретение относится к лазерной технологии и может быть использовано для создания художественных изделий и маркировки прозрачных материалов

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее

Изобретение относится к легкой или пищевой промышленности и может быть использовано при формировании изображений в прозрачном или малопрозрачном материале различных изделий, таких как емкости (бутылки, банки, флаконы, графины и т.д.), предметы широкого потребления (стекла очков, защитные стекла часов, всевозможные панели каких-либо приборов, сувенирные изделия и т.п.)

Изобретение относится к устройству для формирования изображений в изделиях из прозрачного и малопрозрачного для видимого излучения материала
Изобретение относится к производству художественных стеклянных изделий

Изобретение относится к способу очистки подложки и к нанесению на нее покрытий
Изобретение относится к способу обработки поверхности подложки
Наверх