Способ получения 2-диазо-7-ди(низший алкил)аминофлуоренов
1. Способ получения 2-диазо-7-ди(низший алкил)аминофлуоренов диазотированием 2-амино-7-ди(низший алкил) аминофлуоренов нитритом натрия в растворе разбавленной соляной кислоты и обработкой комплексной фторсодержащей солью натрия или хлоридом цинка, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода и чистоты целевого продукта, полученный диазораствор дополнительно обрабатывают ацетатом натрия или вторичным фосфатом натрия до достижения рН раствора 4,5 - 7,5.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве комплексной соли натрия используют борфторид натрия или гексафторфосфат натрия.
Похожие патенты:
Позитивный фоторезист // 1217128
Изобретение относится к способам получения бессеребряного фотографического изображения и может быть использовано в электронике
Способ получения изображений // 1135324
Способ получения изображения // 1116857
Способ получения изображения // 1115010
Светочувствительная композиция // 1102369
Изобретение относится к электротехнике и может найти применение в частности для изготовления толстопленочных схем
Способ получения однокол1понентного // 231449
Изобретение относится к новым N-(5-йод-2-метоксикарбонилфенил)сульфонилмочевинам формулы I где R означает (С1-С 12)-алкил, незамещенный или замещенный одним или более остатками из группы, включающей галоген, (C1 -С6)-алкоксигруппу, (С1 -С6)-алкилтиогруппу, (С 1-С6)-галоидалкоксигруппу и фенил, незамещенный или до трехкратно замещенный одинаковыми или различными остатками из группы, включающей (С1-С 4)-алкил, (С1-С4 )-алкоксигруппу, (C1-C4 )-галоидалкил, (С1-С4 )-галоидалкоксигруппу, CN и нитрогруппу; или (С 3-С12)-циклоалкил, незамещенный или замещенный одним или более остатками из группы, включающей галоген, (С1-С4)-алкил, (C 1-C4)-галоидалкил, (C 1-C4)-алкоксигруппу, (С 1-С4)-галоидалкоксигруппу и (С 1-С6)-алкилтиогруппу
Изобретение относится к устойчивым солям арилдиазония, которые могут найти применение в качестве исходных веществ красителей, светочувствительных материалов и биологически активных соединений
Композиция адгезионного подслоя пленочного материала для лазерных гравировальных автоматов // 2293754
Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов
Позитивный фоторезист // 1364051
Изобретение относится к позитивным фоторезистам на основе о-нафтохинондиазидов, применяемых в процессах производства радиоэлектронных и микроэлектронных изделий и сверхбольших схем методами контактной и проекционной фотопечати
Копировальный материал // 1423430
Изобретение относится к области производства диазотипных копировальных материалов и позволяет улучшить качество материала для повьшения оптической плотности изображения
