Способ контроля параметров полупроводниковых диодных структур

 

(19)SU(11)1274558(13)A1(51)  МПК 6    H01L21/66(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина:

(54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ПАРАМЕТРОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ДИОДНЫХ СТРУКТУР

Изобретение относится к области полупроводниковой электроники, в частности к полупроводниковому приборостроению. Цель изобретения увеличение точности контроля частотно-модулированных шумов диодных структур. П р и м е р. Контролируют диодные меза-структуры Ганна, сформированные на подложке арсенида галлия. Подложку устанавливают на металлическую платформу, соединенную с сосудом Дьюара. Платформу охлаждают до 245 К путем заливки жидкого азота в сосуд Дьюара. На одну из диодных структур опускают пружинный зонд и пропускают через структуру электрический ток. Измеряют спектральную плотность шумового напряжения при токе 0,3 А на частоте 1000 Гц для десяти произвольно выбранных на пластине структур. Среднее значение и дисперсия для спектральной плотности шумового напряжения составляют соответственно 1,6410-17 В2/Гц и 1,3210-17 В2/Гц. Верхняя граница доверительного интервала для среднего значения спектральной плотности шумового напряжения с надежностью 0,95 равна 2,6310-17 В2/Гц. Далее вычисляют значение спектральной плотности шумового напряжения S по формуле
S где SF требуемое значение уровня частотно-модулированных шумов, Гц2/Гц;
Рo мощность генератора, для работы с которым предназначен диод, мВт;
Q внешняя добротность генератора;
F частота измерения, Гц;
I ток через диодную структуру, А;
l толщина активного слоя диодной структуры, мкм;
D диаметр диодной структуры, мкм;
n концентрация примесей в активном слое диодной структуры, см-3. Расчет при D 300 мкм, l 10 мкм, n 1015-3, I 0,3 А, Q 300, Рo 100 мВт, F 1000 Гц и SF 3 Гц2/Гц дает значения спектральной плотности шумового напряжения S 2,9210-17 В2/Гц, что превышает полученное на основе измерений значение 2,6310-17 В2/Гц. Таким образом, условие для отбраковки не выполняется, и контролируемая пластина может быть использована для изготовления диодов, обеспечивающих принятые параметры генератора.


Формула изобретения

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ПАРАМЕТРОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ДИОДНЫХ СТРУКТУР, включающий пропускание тока через диодную структуру, измерение спектральной плотности низкочастотного шумового напряжения и отбраковку структур, отличающийся тем, что, с целью увеличения точности контроля уровня частотно-модулированных шумов диодных структур, измерение спектральной плотности низкочастотного шумового напряжения проводят при температуре диодных структур от 243 до 248 К, а отбраковку структур проводят при условии, что спектральная плотность низкочастотного шумового напряжения не превышает значения, вычисленного по формуле

где S спектральная плотность низкочастотного шумового напряжения, В2/Гц;
SF требуемое значение уровня частотно-модулированных шумов для отбраковки,
F частота измерения, Гц;
Pо мощность генератора, для работы с которым предназначен диод, мВт;
Q внешняя добротность генератора;
l толщина активного слоя диодной структуры, мкм;
I ток через диодную структуру А;
D диаметр диодной структуры, мкм;
n концентрация примесей в активном слое диодной структуры, см-3.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано для проведения контроля качества полупроводниковых структур при производстве интегральных схем

Изобретение относится к полупроводниковой технике может быть использовано для определения кристаллографической неоднородности тонких пластин сульфида кадмия

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к электронной технике

Изобретение относится к устройствам для коррекции характеристик управления полевых транзисторов, варикапов и других нелинейньпс элементов (НЭ) с повьпленной нелинейностью и температурной стабильностью в широком динамическом диапазоне коррекции и может быть использовано в качестве образцовых, управляемых электронным путем проводимостей при автоматизации измерений и других технологических процессов

Изобретение относится к технике измерения на СВЧ

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх