Стекло для покрытия металла

 

Изобретение позволяет повысить устойчивость к реагентам в фотолитографии путем введения в стекло для покрытия металла следующих компонентов , мас.%: PjOy 61,4-67,2, БаО 17,6- 27,1, 8,2-12,1, F 0,6-7,6. Стекло имеет водостойкость 0,05 - 0,11 мг/г после. 3 ч кипячения, КЛТ

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

А1 (19) (11) (51) 4 С 03 С 8 08

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 3491416/29-33 (22) 24.09.82 (46) 23.01.87. Бюл. В 3 (71) Львовский государственный институт прикладного и декоративного искусства (72) И.О. Стернюк, О.В. Бобицкая, Г.М. Сачко и Б.Я. Яковлев (53) 666.112.92:546. 18(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

И-" 513945, кл. С 03 С 3/17, 1974.

Авторское свидетельство СССР

1(833611 кл. С 03 С 8/08, 1979. (54) СТЕКЛО ДЛЯ IIOKPHTHH ИЕТАЛЛА (57) Изобретение позволяет повысить устойчивость к реагентам в фотолитографии путем введения в стекло для покрытия металла следующих компонентов, мас.Ж: Р20 61,4-67,2, ВаО 17,627,1, ?,а,О, 8,2-12,1, F 0,6-7,6.

Стекло имеет водостойкость 0,05—

0 11 мг/г после 3 ч кипячения, КЛТР (92,8-111) 10 1/град, температуру рагмягчения 576-590 С, устойчивы к воздействию реагентов, применяемых в фотолитографическом процессе. Стекло позволяет получать качественное изолирую)цее покрытие по титану.2 табл.

f f284960 г

Изобретение относится к техноло- фии, оно дополнительно содержит

I гии спаивания стекла с металлом и Ьа О, и F при следующем соотношеможет быть использовано для получения нии компонентов, мас.7.: изолирующих покрытий по металлам,при2

61,4-67,2 меняемых в различных областях промьпп- 5 ВаО 17,6-27, 1 ленности. ьа2 Оз 8,2-12,1

Целью изобретения является повьппе- F! 0,6-7,6 ние устойчивости к реагентам в фотолитографии.

Составы стекла даны в табл. 1.

Свойства стекла предлагаемых составов приведены в табл. 2. .Стекло позволяет получать качественное изолирующее покрытие по титану.

Таблица 1

Содержание компонентов,мас.Ж, в стекле состава ненты

f г

61,4 67,2

25,6 20,1

8,2 12 1

4,8 0,6

62,1 64,4

27,1 - 17,6

Р,О

ВаО

Формула изобретения

10,1 10,4

0,7 7,6

Стекло для покрытия металла, включающее Р205 Вао о т л и ч а ю щ е е ?О с я тем,.что, с целью повышения устойчивости к реагентам в фотолитогра1

La Од

Таблица 2

Свойства стекла

Химическая устойчивость к воде (потери веса в мг/г после 3 ч кипячения в воде) 0,10 0,11

111,0 98,0

0,05 О, 10

КЛТР (20-400 С)х 10 град

92,8

Дилатометрическая температура размягчения, град

590

576

586

588 устойчивость к воздействию реагентов, применяемых в фотолитографическом процессе (HF, Н 02, СгОз Н 804, Н,РО4) после 2-х часовой выдержки

Paspyшений

Разрушений

Разрушений

Разрушений нет нет нет нет

Составитель С. Белобокова

Техред А.Кравчук Корректор М. Самборская

Редактор Н. Егорова

Тираж 428 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб,, д. 4/5

Заказ 7552/25

Производственно-полиграфическое предприятие, г.,ужгород, ул, Проектная, 4