Устройство контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов

 

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе их изготовления. Целью изобретения является повышение точности контроля отклонений размеров. Устройство для контроля отклонений размеров фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, вьшол-, ненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы , обращенными один к другому своими зубцами. Ширина зубцов электродов не менее чем в 10 раз меньше расстояния между ними. Контроль отклонений линейных размеров фотошаблонов осуществляют в процессе их изготовления по величине емкости тестовой структуры , одновременно формируемой на заготовках с той же диэлектрической проницаемостью , путем сравнения ее с емкостью эталонной тестовой структуры с заданными размерами ее электро- i дов. 2 ил. В (Л

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН (19) (11) А1 (5D 4 G 01 В 7 02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А ВТОРСНОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 3910527/25-28 (22) 17.06.85 (46) 07,04.87. Бюл. N- 13 (72) -С.Д.Кудря, В.Л.Сорокопут и А.И.Черепков (53) 621.317.39: 531. 71(088.8) (56) Патент Великобритании В 2133890, кл. G 01 В 7/00, 1984.

Захаров Н.П. и др. Контроль линейных размеров элементов металлизированных фотошаблонов с помощью емкостных тестовых структур. Сб. тру" дов МИЭТ "Физические основы создания и совершенствования технологического оборудования в микроэлектронике", М., 1981, с. 103-110. (54) УСТРОЙСТВО КОНТРОЛЯ ОТКЛОНЕНИЙ

ЛИНЕЙНЫХ РАЗМЕРОВ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОШАБЛОНОВ (57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе их изготовления. Целью изобретения является повышение точности контроля отклонений размеров.

Устройство для контроля отклонений размеров фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, выпол-, ненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формЫ, обращенными один к другому свои-: ми зубцами. Ширина зубцов электродов не менее чем в 10 раз меньше расстояния между ними. Контроль отклонений линейных размеров фотошаблонов осуществляют в процессе их изготовления по величине емкости тестовой структуры, одновременно формируемой на заготовках с той же диэлектрической проницаемостью, путем сравнения ее с емкостью эталонной тестовой структуры с заданными размерами ее электродов. 2 ил.

1 13021

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе их изготовления, что позволяет оценить стабильность технологических процессов.

Цель изобретения — повышение точности контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов пу- 10 тем повышения чувствительности емкостной тестовой структуры к отклонению размеров фотошаблонов.

На фиг.1 показана тестовая структура в виде конденсатора с компланарными электродами; на фиг.2 - зависимость относительной чувствительности емкостной тестовой структуры от соотношения между шириной зубцов ее гребенчатых электродов и расстоянием 20 между ними.

Устройство для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, выполненную в виде конденсатора с компланарными электродами 1 и 2, имеющими форму гребенок, обращенных одна к другой зубцами 3.

Расстояние d между зубцами не менее чем в 10 раз превышает ширину Ь зубцов. Тестовую структуру выполняют на поле фотошаблонов, заготовки которых имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость, лежащую в определенных пределах. Формирование тестовой стру- 35 ктуры осуществляют в процессе изготовления фотошаблонов. Электроды 1 и 2 тестовой структуры подключают в процессе измерения к какому-либо измерителю емкости. 4G

Устройство для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов работает следующим образом.

38 2

В процессе изготовления фотошаблонов измеряют каким-либо известным методом емкость между электродами 1 и 2 тестовой структуры, формируемой на заготовках одновременно с элементами фотошаблонов.

Сравнивая .полученную величину емкости с величиной емкости другой тестовой структуры, принятой за эталон, размеры элементов которой заранее известны благодаря их измерению, например, с помощью фотоэлектрического координатометра,судят об отклонении размеров элементов фотошаблонов от номинальных значений.

Благодаря тому, что относительное изменение емкости, т.е. чувствительнос-.ь тестовой структуры к отклонению размеров ее зубцов от их номинальных значений повышается с уменьшением отношения Ь/d при практически неизменной длине I взаимного перекрытия зубцов 3 электродов 1 и 2 (фиг.2), обеспечивается повышение точности контроля отклонения линейных размеров фотошаблонов в процессе их изготовления.

Формула изобретения

Устройство контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов, содержащее тестовую структуру, выполненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы, обращенными один к другому зубцами, и выполненную на поле фотошаблонов, заготовки которых имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения точности контроля, ширина зубцов электродов тестовой структуры не менее чем в

10 раз меньше расстояния между ними.

1302138 ие.

2, д

I,2

У м g» gu ою у р s» lа

Фиг. 8

Составитель С.Скрыпник

Техред Н. Глущенко Корректор М. Самборская

Редактор С.Патрушева

Заказ 1207/4 1 Тираж 678 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, E-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород, ул.Проектная, 4