Устройство для нанесения клея

 

Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем . Устройство для нанесения клея содержит .емкость 1 для клея, на которой закреплен магнит 8, Узел очистки 4 снабжен ротором 6 и крышкой 7, имеющими возможность вертикального перемещения в корпусе 3 и взаимодействия с магнитом 8. На роторе 6 в

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

А1, !9> Щ> (594 Н 0

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

К АВТОРСКОМ .Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

i(21) 4011016! 24-21

i(22) 17.01.86 (46) 15.05.88. Бюл. ¹ 18 (72) А.Н. Ильинский, В,Г. Шуваев, 3.M. Славинский, Е.H. Абрамов и В.М. Гамзин (53) 621.396.6.002(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

И 1064489, кл. Н 05 К 3/00, 18.01.82.

Патент ФР! - 3012371 кл. В 05 С 5/02, 29.10 ° 81. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ КЛЕЯ (57} Изобретение может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Устройство для нанесения клея содержит .емкость 1 для клея, на которой закреплен магнит 8. Узел очистки

4 снабжен ротором 6 и крьппкой 7, имеющими возможность вертикального перемещения в корпусе 3 и взаимодействия с магнитом 8. На роторе 6 в

1396297

2. канавке 1О размещен рабочий элемент 5 в виде кольца из фетра, войлока или сукна. Емкость 1 для клея совершает вертикальное возвратно-поступательное перемещение и соединена с систе1

Изобретение относится к производ, ству электрорадиоэлементов," а именно к установкам для изготовления полупро, водниковых приборов и интегральных микросхем.

Целью .изобретения является повы,,шение надежности путем качественной очистки дозирующего наконечника.

На фиг. 1 изображено устройство 10 для нанесения клея, общий вид; на фиг ° 2 — конструкция крепления рото.,ра, разрез А-А на фиг, 1; на фиг. 3 и 4 — последовательность работы устройства; на фиг. 5 — механизм пере- 15 ,мещения емкости для клея в плоскости, параллельной плоскости основания,,разрез Б-Б на фиг. 3. ! Устройство для нанесения клея содержит. установленную с возмож- 20 ностью вертикального возвратно-посту пательного движения емкость 1 для

1 ,клея с дозирующим наконечником 2 и

1 ! корпус 3 узла 4 очистки, который расположен под емкостью 1. Внутри корпу- 25

:са 3 узла очистки размещен пропитан ный моющим раствором, например растворителем, рабочий очищающий элемент 5. Узел 4 очистки снабжен ротором Ь и крышкой 7, которые установле- 30 ны с возможностью вертикального перемещения в корпусе 3 и взаимодействия с магнитом 8. Магнит 8 закреплен на емкости 1 для клея посредством кронштейна 9. Рабочий элемент 5 выполнен

35 в виде кольца из фетра, войлока, сукна и т.п. материала и расположен на роторе 6 в специально сделанной для этой цели канавке 10.

Крышка 7 установлена с возмож- 40 ностью взаимодействия с магнитом 8 через ротор 6. Ротор 6 связан с приводом его вращения посредством шлицево1 о соединения. Взаимодействие ротора

6 с магнитом 8 осуществляется через 45 сердечник 11, размещенный в центре мой сжатого воздуха и с вакуумной системой. Пбвышается надежность работы устройства путем качественной очистки дозирующего наконечника 2, 5 ил. ротора. Подъем ротора 6 и крышки 7 ограничен упором 12. В корпусе 3 узла 4 очистки выполнен паз 13 для перемещения в нем упора 12, Ограничителем упора 12 является гайка 14.

Очищающий элемент 5 дополнительно может быть закрыт плотным материалом

15, например бязью. В крышке 7 выполнено два отверстия: отверстие 16 под сердечник 11 и отверстие 17 под дозирующий наконечник 2.

На роторе 6 выполнен фланец 18, взаимодействуюший с уступом 19 крышки 7, поднимающий крышку.

Дозирующий наконечник 2 представляет собой съемный колпачок с капиллярным отверстием 20, диаметр которого может быть в пределах 0 15-1мм.

Клеевая емкость 1 выполнена в виде ванночки с коническим наконечником внизу, на котором закреплен съемный дозирующий наконечник 2. В ванночку заливается клей в объеме, необходимом для беспрерывной работы устройства в течение одной смены. Сверху ванночка герметично закрывается крышкой 21 с центральным отверстием 22 для подвода вакуума или сжатого воздуха„

Внутренняя полость клеевой емкости 1 поочередно соединяется трубкой

23, имеющей штуцер 24, через электромагнитный клапан с .вакуумной системой или с системой сжатого воздуха.

Клеевая емкость 1 жестко закреплена на одном из плеч 25 двуплечего рычага 26, который выполнен поворотным в горизонтальной плоскости и подвижным в вертикальной плоскости. На другом плече 27 рычага 26, которое расположено перпендикулярно плечу 25, закреплен вакуумный захват 28 кристалла 29.

Корпусы 30 полупроводниковых приборов, к которым необходимо прикле13 ить кристаллы 29, расположены на направляющих транспортного тракта 31.

Конец вала 32 выполнен в виде вилки, охватывающей ось 33 ротора 6, через которую перпендикулярно оси проходит штифт 34.

Поворот рычага 26 с плечами 25,27 в плоскости, параллельной плоскости основания 35 (в горизонтальной плоскости), осуществляется от электродвигателя 36 посредством червячной передачи (червяка 37 и червячного колеса 38) и вала 39. Электродвигатель

36 и червяк 37 размещены на одной оси. Поворот рычага 26 по часовой и против часовой стрелок происходит за счет реверса электродвигателя 36.

Осевое перемещение рычага 26 осуществляется за счет подъема и опускания упора 40, на котором он жестко закреплен. Подъем упора 40 происходит за счет пневмоцилиндра 41, а опускание — за счет собственного веса рычага 26.

96297 ной кристалл 29. Штуцер 24 соединен с системой сжатого воздуха только в момент выдавливания капли клея на корпус 30. После прекращения подачи импульса давления электромагнитный клапан сразу перекрывает систему сжатого воздуха и открывает вакуумную систему. Поэтому в момент повороip та рычага по часовой и против часовой стрелок штуцер 24 всегда соединен с вакуумной системой и подтекание клея на торце дозирующего наконечника отсутствует. По окончании

15 поворота рычага 26 на 90 против часовой стрелки захват 28 опускает кристалл 29 на каплю клея, дозирующий наконечник 2 клеевой емкости 1 в это время .опускается в отверстие

2р 17 узла 4 очистки.

Перемещение транспортного тракта

31 на один шаг вправо осуществляется в тот момент, когда рычаг 26 поворачивается по часовой стрелке. Далее

25 цикл сборки кристалла с корпусом повторяется.

Устройство для нанесения клея работает следующим образом.

В исходном положении рычаг 26 опущен, дозирующий наконечник 2 находится в отверстии 17 узла 4 очистки, штуцер 24 трубки 23 соединен с вакуумной системой, захват 28 опущен,и кристалл 29 положен захватом на каплю клея, предварительно нанесенную дозирующим наконечником 2.

После подачи команды на рычаг 26 он поднимается и поворачивается по о часовой стрелке на 90 . Вместе с ним

О поднимаются и поворачиваются на 90 клеевая емкость 1 и захват 28 до тех пор, пока захват 28 не расположится над кристаллом 29, а клеевая емкость 1 над корпусом 30 полупроводникового прибора, В это время штуцер 24 соединяется с системой сжатого воздуха. Ио команде рычаг 26 (фиг, 4) опускается, в клеевую емкость 1 подается импульс давления сжатым воздухом, капля клея выдавливается на корпус 30, а захват 28 забирает очередФормула изобретения чп Устройство для нанесения клея преимущественно при изготовлении радиодеталей, содержащее размещенную на основании с возможностью возвратно-поступательного перемещения перпендикулярно плоскости основания емкость для клея с дозирующим наконечником и узел очистки, выполненный в виде корпуса с рабочим элементом, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с

40 целью повьш ения надежности, оно снабжено магнитом, закрепленным на емкости для клея, узел очистки снабжен ротором и крышкой, размещенными в корпусе узла очистки с возможностью осевого перемещения и взаимодействия с магнитом, а рабочий элемент выполнен в виде кольца и размещен на роторе, причем емкость для клея установлена с возможностью перемещения в

50 плоскости, параллельной плоскости основания.

1396297

1396297

1Ъгол жг

Юз х Фие. 4 б-б na/åðíóãòòà г мютыи

Составитель А. Цырендондоков

Техред М.Дидык Корректор О.Кравцова

Редактор M.hàíäóðà

Заказ 2506/58 Тираж 832 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, 1"1осква, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Устройство для нанесения клея Устройство для нанесения клея Устройство для нанесения клея Устройство для нанесения клея Устройство для нанесения клея 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к пайке, в частности к способам пайки печатных цлат, и может быть использовано в радиотехнической, электронной и других отраслях промыпотенности

Изобретение относится к радиоэлектронной промьппленности

Изобретение относится к области радиоэлектроники

Изобретение относится к производству печатных плат и может быть использовано для удаления защитной лавсановой пленки, защищающей фоторезист от механических повреждений после операции эжетонирования

Изобретение относится к точному приборостроению
Изобретение относится к области микроэлектроники

Изобретение относится к производству элсктрорадиозлементов н может быть использооано длп нанесения отпечатков на заготовки резисторов

Изобретение относится к области технологии микроэлектроники, в частности, к технологии формирования на подложках тонкопленочных рисунков с помощью лазерного луча и к устройствам, позволяющим реализовать такую технологию

Изобретение относится к электролитическим способам изготовления печатных схем и заключается в избирательном электрохимическом травлении фольгированного диэлектрика при его движении относительно линейного секционного электрод-инструмента
Изобретение относится к радиоприборостроению и может найти применение при изготовлении печатных плат с элементами проводящего рисунка схемы, работающими на размыкание - замыкание и располагаемыми в любом месте поля платы (тастатура номеронабирателя, контакты плоские, разъемы)
Изобретение относится к способу изготовления многослойной платы с печатным монтажом

Изобретение относится к способу изготовления композиционного многослойного материала, предпочтительно материала с перекрестной ориентацией армирующих волокон, в соответствии с которым параллельно расположенные волокна покрываются матричным веществом и вместе с предварительно сформированными нетекучими композициями параллельно расположенных волокон или перекрещивающимися системами параллельно расположенных волокон пропускаются через зону дублирования, причем ориентация волокон в соединяемых слоях имеет по крайней мере два направления

Изобретение относится к созданию трехмерной электронной аппаратуры
Наверх