Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы

 

Изобретение относится к получению покрытий. Цель изобретения - повышение равномерности и однородности покрытия, а также расширение эксплуатационных возможностей. Внутрикамерная система откачки установлена . по периметру камеры соосно подложкодержателю с возможностью вертикального перемещения и охватьшает внутрикамерную парораспределительную систему, расположенную над подложкодержателем и снабженную инжекторами 17, установленньми на ней с возможностью поворота . Минимальное расстояние от оси инжектора 17 до обрабатываемой им зоны поверхности изделия 18 определяется из формулы 5 (0,5-4) ,где ci,H - минимальная величина выходного канала инжектора. Покрытия на деталях сложной формы обладают высокой равномерностью и однородностью на значительной протяженности поверхности изделия за счет обеспечения равномерной подачи исходного соединения в зону обработки и равномерного вывода продуктов разложения из зоны обработки. 9 ил. со СО с

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (5Н 4 С 23 С 16/54

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 4201005/23-02 (22) 27.02.87 (46) 30.08.88. Бюл. 1Ф 32 (71) Научно-исследовательский и экспериментальный институт автомобильного электрооборудования и автбприборов (72) О.И.Севостьянов, А.Б.Димант, Г.И.Сапежинский, В.А.Скулкин, В.Л.Котлов,М.Б.Гаркуль-Гуревич, Ю.А.Феофанов и Э.М.Подгорнова (53) 621.793.1 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

9 494223, кл. В 22 F 1/00, 1974.

Авторское свидетельство СССР

В 699031, кл. С 21 D 9/00, 1976. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ (57) Изобретение относится к получению покрытий. Цель изобретения — повышение равномерности и однородности покрытия, а также расширение экспÄÄSUÄÄ 1420068 А 1 луатационных возможностей. Внутрикамерная система откачки установлена, по периметру камеры соосно подложкодержателю с возможностью вертикального перемещения и охватывает внутрикамерную парораспределительную систему, расположенную над подложкодержателем и снабженную инжекторами 17, установленными на ней с возможностью поворота. Минимальное расстояние от оси инжектора 17 до обрабатываемой им зоны поверхности изделия 18 определяется из формулы h =(0,5-4)с1,„„,,где

4 „ - минимальная величина выходного канала инжектора. Покрытия на деталях сложной формы обладают высокой равномерностью и однородностью на значительной протяженности поверхности изделия за счет обеспечения равномерной подачи исходного соединения в зону обработки и равномерного вывода продуктов разложения из зоны обработки. 9 ил.

1420068

Изобретение относится к получению покрытий, в частности к устройствам для нанесения покрытий из газовой фазы.

Цель изобретения - повышение равномерности и однородности покрытия, а также расширение эксплуатационных возможностей устройства.

На фиг. 1 изображено предлагаемое устройство; на фиг. 2 — узел I на

Фиг.i- на фиг. 3 — схема размещения инжектора и обрабатываемого изделия, имеющего форму квадрата; на фиг. 4— то же, форма изделия - эллипс; на. 15

i фиг. 5 — то же, Форма изделия — ци-!.линдр; на фиг. 6 — то же, форма изделия — параллелограмм: на фиг. 7—, то же, форма изделия — прямоугольник; на фиг.,8 — взаимное расположение щ

:изделия сложной формы и инжектора; на фиг. 9 — то же, вид сверху.

Устройство содержит рабочую каме .ру 1, включающую:обечайку 2, верхний 3 и нижний 4 фланцы, патрубки для по- 25 дачи паров исходного соединения 5 и отвода газообразных продуктов реакции 6. Внутри рабочей камеры размещена система равномерной откачки продуктов разложения, выполненная в виде 30 кольцевого трубопровода 7 с отверстиями 8 и соединенным патрубкам 9, ко" тарый может перемещаться по высоте камеры 1 в.патрубке б отвода продуктов разложения и фиксироваться на определенной высоте штифтами 10. На нижнем фланце 4 камеры 1 размещен подложкодержатель 11, который оснащен нагревателем 12 и приводом 13 враще ния. На верхнем фланце 3 камерь1 1 . размещен коллектор 14 для разводки пара, совмещенный с приводом 15 вращения. Коллектор 14 связан с патрубком 5 подачи паров исходного соединения и внутрикамерной парораспредели- 4

5 тельной системой, выполненной. в виде по крайней мере одного трубопровода

16, оснащенного инжекторами пара 17.

Инжекторы 17 за счет, например, шарнирного соединения„, установлены с возможностью их поворота в обеих плоскостях и фиксации, например, за счет трения в шарнире в определенном положении. Трубопровод 16 размещен над изделием 18 и между изделием 18 и трубопроводом 7.

На рабочую поверхность подложкодержателя 11 нанесена координатная сетка для повышения точности устанава издепия так, чтобы середина изделия 18 в плоскости подложкодержателя

11 была совмещена с вертикальной осью камеры 1 (фиг.8). Изделие, на которое наносится покрытие, может иметь форму квадрата (фиг.2), эллипса (фиг.3), цилиндра (фиг.4), параллелограмма (фиг ° 5), прямоугольника (фиг.б).

На подложкодержатель 11 устанавливают обрабатываемое изделие,18 таким образом, чтобы середина изделия в плоскости подложкодержателя 11 была совмещена с вертикальной осью камеры 1. К коллектору 14 прикрепляют сменную парораспределительную оснастку с трубопроводом 16 такого типоразмера, чтобы закрепленные на ней инжекторы 17 отстояли от обрабатываемой детали по крайней мере на расстояние L = 0,02А+1,5 Р =0,2А+

+(0,75+6)d„„„, где А -максимальный габаритный размер обрабатываемой детали в плоскости подложкодержателя;

d,„ — наименьшая величина выходного

1 канала инжектора.

Выходные каналы инжекторов 17 с помощью шаблонов ориентируют относительно обрабатываемой поверхности таким образом, чтобы минимальное расстояние от оси инжектора 17 до обра- . батываемой-им зоны поверхности составляло 8 =(0,5-4)d„, (фиг. 2-6).

Устанавливают кольцевой трубопровод

7 на полувысоте изделия и фиксируют его положение с помощью штифтов 10.

Устройства работает следунщим образом.

Камеру 1 с установленными инжекторами ";7 и изделием 18 закрывают и создают в ней разрежение через патрубок 6. Включают нагреватель 12 изде лия и привод 15 вращения парораспределительной системы или изделия 18.

По достижении на изделии 18 заданной температуры в камеру 1 подают пары исходного соединения через патрубак

5, коллектор 14, трубопровод 16. Через выходные каналы инжекторов 17 пары исходного соединения попадают на обрабатываемую поверхность изделия

18, где располагаются с образованием. твердого осадка вЂ,покрытия и гаэоабразных продуктов реакции, которые под действием струи более тяжелых молекул исходного соединения выносятся за пределы зоны раслажения в направ20 Ф о р м у л а и э обретения

3 142006 ленни кольцевого трубопровода 7 и через патрубок 6 выводятся из камеры.

По истечении заданного времени подачу паров исходного соединения прекращают, выключают вращение и на- грев, деталь 18 извлекают из вакуумной камеры 1.

Получаемые покрытия на деталях сложной формы обладают высокими рав- 10 номерностью и однородностью на значительной протяженности поверхности изделия за счет обеспечения равномерной подачи исходного соединения в зону обработки и равномерного вывода продуктов разложения из зоны обработки.

Как показали экспериментальные данные, при о 0,5 d „„„ ввиду возможных погрешностей установка изделий 18 на подложкодержателе 11 при совмещении середины максимального габаритного размера А и вертикальной оси камеры 1 и при выставлении зазора наблюдается неравномерность и неоднородность получаемых покрытий, обусловленные неравномерностью выноса продуктов разложения из зоны обработки. При 3 ) 4 d „„ в условиях низких разрежений в рабочей камере (давление в камере более 5 10 мм рт.ст.) на изделиях- 18 сложной формы с существенной разностью габаритных размеров (напр. прямоугольных) наблюдается значительная неравномер- З5 ность покрытий, а в отдельных зонах отсутствует покрытие. При установке. инжекторов на расстояние, меньшее, чем определяемое формулой L=0,2А+

+I,5 3, резко снижается величина зоны 40 обработки поверхностииэделий,что ведет к ухудшению равномерности подачи паров исходного соединения в зону обработки, ухудшая равномерность покрытия.

Это характерно для низких разрежений 45 в рабочей камере (давление в камере аФ

5 10 мм рт. ст. ) . При более высо" ких разрежениях в камере (5-1 10 мм рт.ст.) возрастает вероятность ухудшения равномерности и однородности 50

4 покрытий вследствие ухудшения равномерности выноса продуктов разложения иэ эоны обработки.

Пример. На стальную деталь ф300 мм, высотой 120 мм наносили хромовое покрытие путем пиролиза бисареновых соединений хрома при 420+5 С.

Нанесение покрытия осуществлялось из трех инжекторов. Полученная толщина покрытия составляет по длине окружности 12+1 мкм, по высоте изделия12+1 мкм. l

Использование изобретения позволя" ет повысить качество покрытий за счет повьппения их равномерности и однородности

Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы, содержащее вакуумную камеру с патрубками подачи исходного соединения и отвода газообразных продуктов разложения, внутрикамерную парораспределительную систему, подложкадержатель, нагреватель иэделий, механизм относительного перемещения подложкодержателя и парараспределительной системы, внутрикамерную систему откачки, о т л и ч аю щ е е с я тем, что, с целью повышения равномерности и однородности покрытия, а также расширения эксплуатационных воэможностей путем равно мерной подачи исходного соединения в рабочую зону и равномерного вывода продуктов разложения при обработке изделий сложного профиля, внутрикамерная система откачки смонтирована по периметру камеры соосно с подложкодержателем с воэможностью вертикального перемещения и охватывает внутрикамерную парораспределительную систему, причем внутрикамерная парораспределительная система расположена над падложкадержателем и имеет инжекторы, установленные с возможностью поворота.

1420068

1420068

Фиг.б

Фиг. 7

1420068

Составитель Л. Груднева

Техред М.Ходанич Корректор М.Максимишинед

Редактор Т.Лазоренко

Заказ 4293/27

Тираж 992 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для получения покрытий химическим осаждением из газовой (паровой) фазы, в частности к устройствам для пиролитического нанесения покрытий на внутреннюю поверхность длинномерных изделий (например труб)

Изобретение относится к области получения неорганических покрытий осаждением из газовой (паровой) фазы при пиролизе химических соединений, например, металлоорганических

Изобретение относится к области цветной металлургии, в частности к формированию защитных покрытий из газовой фазы на изделиях сложной конфигурации при термическом разложении паров тетракарбонила никеля на защищаемой поверхности, и может найти применение для металлизации как металлических, так и неметаллических деталей с повышенной хрупкостью

Изобретение относится к области цветной металлургии, в частности к формированию защитных покрытий, и может найти применение для металлизации деталей, полученных как с помощью металлообработки, так и порошковой металлургией

Изобретение относится к области металлургии, в частности к способу эксплуатации вакуумной установки с изменениями давления между рабочим и окружающим пространством

Изобретение относится к устройству и способу вакуумного осаждения для образования осажденных в вакууме пленок на несущей пленке и может найти использование в различных отраслях машиностроения

Изобретение относится к устройству и способу для нанесения покрытия методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) и может найти использование при изготовлении пластмассовых контейнеров с защитным покрытием

Изобретение относится к простой системе химического осаждения из паров и, в частности, к простой системе химического осаждения из паров, оснащенной для создания защитного слоя на деталях реактивного двигателя

Изобретение относится к устройству плазмохимического осаждения из паровой фазы намоточного типа для образования слоя покрытия на пленке

Изобретение относится к источнику твердого или жидкого материала для реакторов для осаждения из газовой фазы, устройству для установки источника в реакторе для осаждения из газовой фазы и способу установки источника в реакторе

Реактор // 2405063
Изобретение относится к реактору для послойного атомного осаждения

Изобретение относится к устройству для плазменного химического парофазного осаждения пленки на поверхности полосообразной подложки и может найти применение при изготовлении дисплеев
Наверх