Способ определения напряжения программирования ячейки памяти на основе пноп-структуры

 

Изобретение относится к способам измерения электрических параметров электрически репрограммируемых запоминающих устройств на основе структуры проводник - нитрид кремния - оксид кремния - полупроводник и может быть использовано для контроля напряжения программирования на этапах разработки и серийного производства. Целью изобретения является повышение производительности способа. Поставленная цель достигается за счет того, что на ПНОП-структуру подают нарастающее напряжение и при этом контролируют величину сквозного тока через ПНОП-структуру, при достижении сквозным током заданного значения определяют соответствующую ему величину приложенного напряжения, которое является напряжением программирования. 4 ил.

Изобретение относится к способам электрических измерений, в частности, электрических параметров электрически репрограммируемых запоминающих устройств на основе структуры проводник-нитрид кремния-оксид кремния-полупроводник и может быть использовано для контроля напряжения программирования на этапах разработки и серийного производства. Целью изобретения является повышение производительности способа. На фиг. 1 приведены типовые графики зависимости сдвига порогового напряжения Uт запоминающего транзистора от длительности t импульса напряжения, приложенного к диэлектрику, при различной амплитуде; на фиг. 2 - зависимость времени программирования от плотности тока j через диэлектрик; на фиг. 3 - принципиальная схема стенда определения напряжения программирования согласно предлагаемому способу; на фиг. 4 - один из вариантов измерительного стенда. Напряжение программирования элемента памяти на основе запоминающего ПНОП-транзистора измеряют в следующей последовательности. Сначала на пластинах, содержащих тестовые ПНОП-транзисторы с толщиной слоев оксида и нитрида кремния 6 и 30 нм соответственно, изготовленные в одном технологическом цикле с ПНОП-элементами памяти ЗУ, измеряют зависимости сдвига порогого напряжения Uт тестовых транзисторов от длительности импульса напряжения, приложенного к их подзатворному диэлектрику, при различной его амплитуде (фиг. 1). Для каждой из полученных кривых в координатах Uт от loq(t) методом линейной экстраполяции крутого и полого участков кривой определяют точку перегиба Т(U), которая и соответствует оптимальной величине времени программирования для данной амплитуды импульса. Для этого же диапазона напряжений измеряют вольт-амперную характеристику диэлектрика тестового ПНОП-транзистора j(U). По этим двум параметрическим зависимостям строится график Т(j) (фиг. 2), дифференцированием которого можно определить калибровочную константу К = dj/d(1/T), равную, например, 6,25 х 10-7 Кл/см2. Вид графика на фиг. 2 показывает, что связь между оптимальным временем программирования Т и плотностью сквозного тока j может быть выражена простым соотношением T(U) = K/j(U). Пусть максимально допустимое время программирования ЗУ составляет Т1 = 1 мс. Для того чтобы определить напряжение программирования, соответствующее такому времени программирования, через тестовый ПНОП-транзистор 1 (фиг. 3) с помощью токоограничительного элемента, например генератора тока 2, пропускают ток плотностью I = K/T1 = 6,25 х 10-7/1 х 10-3 = 6,25 х 10-4 А/см2 и измеряют с помощью вольтметра 3 падение напряжения на структуре, например, 20,8 В. Эту величину можно сравнить с минимально допустимым значением этого параметра, указанным в технической документации на данный тип ЗУ, и произвести отбраковку пластин (или даже отдельных кристаллов) по напряжению программирования. Следует отметить, что при последующем контроле напряжения программирования кристаллов ЗУ на пластинах из других партий, изготовленных по одному и тому же технологическому маршруту, нет необходимости повторно определять калибровочную константу К, поскольку экспериментальная апробация предлагаемого способа на ПНОП-структурах с толщиной подзатворного диэлектрика от 25 до 45 нм, изготовленных в различных технологических процессах, показала, что использование при их контроле одного и того же значения константы К = 6,25 х 10-7 Кл/см2 дает погрешность при определении напряжения программирования не более чем 0,15 В. Определение напряжения программирования в соответствии с предлагаемым способом можно на практике выполнять и с помощью более простой установки (фиг. 4). В этом случае тестовую структуру 1, например ПНОП-конденсатор площадью S = 4 х 104 мкм2, подключают к источнику питания 2, например Б5-45, через вольтметр 3, например ЦУИП, входное сопротивление которого составляет R = 10 МОм. Постепенно увеличивая выходное напряжение источника питания 2, с помощью вольтметра 3 контролируют падение напряжения на его входном сопротивлении R. При плотности тока j = 6,25 х 10-7 А/см2, соответствующей времени программирования 1 мс, вольтметр покажет напряжение U = j S R = 2,5 В. Вычитая это напряжение из величины выходного напряжения источника питания, получаем значение напряжения программирования ПНОП ЗУ на данной пластине. Использование предлагаемого способа определения напряжения программирования обеспечивает по сравнению с известными способами следующие преимущества. 1. Повышение производительности способа не менее чем в 10-30 раз за счет использования менее трудоемкой и простой в практической реализации измерительной операции. 2. Резкое упрощение и удешевление контрольно-измерительной аппаратуры для определения напряжения программирования. 3. Наличие четкого критерия для разбраковки пластин с кристаллами ЗУ, благодаря тому, что определяемый параметр ЗУ измеряется непосредственно. (56) Электронная техника, сер. 3 Микроэлектроника, вып. 4 (100), 1982, с. 17.

Формула изобретения

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ НАПРЯЖЕНИЯ ПРОГРАММИРОВАНИЯ ЯЧЕЙКИ ПАМЯТИ НА ОСНОВЕ ПНОП-СТРУКТУРЫ, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности способа, на ПНОП-структуру подают нарастающее напряжение и при этом контролируют величину сквозного тока через ПНОП-структуру, при достижении сквозным током заданного значения определяют соответствующую ему величину приложенного напряжения, которое является напряжением программирования.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 10-2002

Извещение опубликовано: 10.04.2002        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения режима теплового пробоя полупроводниковых приборов

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано при контроле полупроводниковых диодов

Изобретение относится к электроизмерительной технике и предназначено для определения ширины коллектора высоковольтного транзистора

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для определения типа проводимости и исправности транзисторов

Изобретение относится к электронной технике и предназначено для опред

Изобретение относится к электронике и может быть использовано для испытания изделий электронной техники

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых приборов с лавинным пробоем, в частности для ограничительных диодов

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения активной составляющей проводимости, емкости и добротности варикапов в параллельной схеме замещения, например, при технологическом контроле параметров полупроводниковых приборов и других как нелинейных, так и линейных объектов, а также в подсистемах технической диагностики радиотехнических элементов автоматизированных систем контроля различной радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники и может найти применение в электронной технике для измерения напряжений на диэлектрике и полупроводнике, а также их временного изменения в МДПДМ-структурах

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к электронике и при использовании позволяет повысить точность контроля заданной величины отрицательного дифференциального сопротивления за счет изменения соотношения глубины положительных и отрицательных обратных связей в элементе с регулируемыми напряжениями и токами включения и выключения

Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано при конструировании и производстве тиристоров

Изобретение относится к радиационной испытательной технике и может быть использовано при проведении испытаний полупроводниковых приборов (ППП) и интегральных схем (ИС) на стойкость к воздействию импульсного ионизирующего излучения (ИИИ)

Изобретение относится к области измерения и контроля электрофизических параметров и может быть использовано для оценки качества технологического процесса при производстве твердотельных микросхем и приборов на основе МДП-структур

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин

Изобретение относится к электроизмерительной технике и может быть использовано для контроля полярности выводов светодиодов

Изобретение относится к области теплового неразрушающего контроля силовой электротехники, в частности тиристоров тиристорных преобразователей, и предназначено для своевременного выявления дефектных тиристоров, используемых в тиристорных преобразователях, без вывода изделия в целом в специальный контрольный режим
Наверх