Способ полива на гибкую подложку высококонцентрированных эмульсий

 

Ь ll И С А Н И Е,, <>i a

ИЗЬ6РЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Соцналкстмческкх

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 09.05.6l (21)7296 l6/23-04

Я (51) М, Кл, 4 03 С 7/26 с присоединением заявки №

Государствеений кимитет

Свавтв Мииистрав СССР ии делам изобретений и иткрмтий (23) Приоритет (43) Опубликовано 25.03,78. Бюллетень ¹l (45) Дата опубликования описания 23.02.78 (53) УДК 77.021 (088.8) В, М. Уварова, А, А. Панкова, Н, К, Суходрев, О. К. Смирнов, М. P. Шпольский, М. Ю. Деберде

А. Н. Коваиова, А. Ю. Дебердеев и В. А. Мальце (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СПОСОБ ПОЛИВА HA ГИБКУЮ ПОДЛОЖКУ

ВЫСОКОКОНЦЕНТРИРОВАННЫХ ЭМУЛЬСИЙ

По обычному регламенту

0,10-0,12

Имеется

По предпагаемому регламенту

0,05-0,06

Отсутствует

Изобретение относится к ".пособам полива фотографических эмульсий на гибкую подложку с введением поливных добавок.

В отличие от известных по предлагаемому способу изменены условия проведения процесса в направлении времени введения добавочных растворов, увеличения температуры эмульсии, исключения охлаждения слоя и смягчения режима сушки с целью получения высококонцентрированных слоев с новы- щ шенной чувствительностью к коротковолновому улнграфиолетовому излучению.

П р и, м е р . Поливные добавки: стабилизатор, пластифицирукицую смесь и дубитель вводят за 30 мин до конца оптнмаль ного времени. второт о созревания эмульсии.

После введения добавок эмульсия еоэревала о еше 30 мин при температуре 60 C. Полив эмульсии производили при 50-60оС беэ дополнительного охлаждения,и сушка слоев проходила без движения воздуха.

В таблице приведены характеристики свойств фотоматериалов УФ-НИКФИ, полученных при различных условиях полива.

Формуле изобретения

Способ полива на гибкую подложку высококонцентрированных эмульсий на основе желатины и натриевых солей эфиров сульфоянтарной кислоты, о т л и ч а ю ш и и с я тем, что, с целью получения фотографических слоев, чувствительных к коротковолновому ультрафиолетовому излучению с малой оптической вуалью, в эмульсию вводят растворы пластификатора, стабилизатора и дубителя за 30 мин до конца оптимального времени второго созревания эмульсии,и по лив ее на подложку осуществляют при 5060 С без последующего принудительного студенения и циркуляции воздуха при сушке.

Составитель-Б. Бельченко

Редактор Л. Ильина Техред Н. Андрейчук Корректор,А. Лакида

Заказ 1438/1 Тираж 564 Подписное

БНИИПИ Государственного комитета Совета Министров ССС по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушскаа наб„д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгорсд, ул, Проектная, 4

Способ полива на гибкую подложку высококонцентрированных эмульсий Способ полива на гибкую подложку высококонцентрированных эмульсий 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность

Изобретение относится к изготовлению фотобумаги и может быть использовано при нанесении маловодосодержащей фотоэмульсии на фотобумагу

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к области химико-фотографической промышленности и может быть использовано в производстве кинофотопродукции с фотоэмульсионным покрытием с заданными свойствами

Изобретение относится к области химии и может быть использовано для формирования нанокомпозитного покрытия на пористом слое оксида алюминия
Изобретение относится к изготовлению светочувствительных материалов, используемых в голографии и специальной фотографии, предназначенных для изготовления голографических оптических элементов (ГОЭ) сферической формы, требующих высокой оптической точности и чистоты поверхности слоя

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к способу и устройству для формирования тонких пленок, например пленок фоторезиста на полупроводниковых пластинах

 // 180766
Наверх