Способ контроля волнового фронта

 

Изобретение относится к измерительной технике, предназначено для контроля телескопических систем, линз и объективов и может найти применение в производстве, занятом их изготовлением. Цель изобретения - увеличение размера контролируемого волнового фронта за счет исключения влияния размера апертуры объектива на масштаб волнового фронта. Конкретное излучение с контролируемым волновым фронтом пропускают через диффузный рассеиватель и записывают на регистрирующей среде голограмму сфокусированного изображения рассеивателя с помощью коллимированной опорной волны. После этого согласованным образом изменяют угол освещения диффузного рассеивателя и угол падения опорной волны и вновь на ту же регистрирующую среду записывают голограмму сфокусированного изображения. При восстановлении полученной двухэкспозиционной голограммы регистрируют интерферограмму сдвига, по которой осуществляют контроль волнового фронта. 1 ил.

COIO3 СОВЕ ГСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (sI)s G 01 В9/021, 11/24

ГОСУДАРСТВЕ ННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И OTKPbl I VIRM

ПРИ ГКНТ СССР

1Я,",Р

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ о

,V о (л)

00 (21) 4701445/28 (22) 28.04.89 (46) 15.08.91, Бюл, М 30 (71) Сибирский физико-технический институт им, В.Д,Кузнецова при Томском государственном университете им. В.В,Куйбышева (72) В.Г.Гусев (53) 531.717.2(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

М 1512275, кл. G 01 В 11/24, 1989. (54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ВОЛНОВОГО

Ф POHTA (57) Изобретение относится к измерительной технике. предназначено для контроля телескопических систем, линз и объективов и может найти применение в производстве, занятом их изготовлением. Цель изобретения — увеличение размера контролируемого

Изобретение относится к измерительной технике, предназначено для контроля оптики телескопических систем, объективов. линз, однородности стеклянных образцов и может найти применение в производстве, занятом их изготовлением, Целью изобретения является увеличение размера контролируемого волнового фронта за счет исключения влияния размера апертуры объектива на масштаб фронта.

На чертеже изображена одна из возможных схем устройства, реализующего предлагаемый способ, Устройство включает блок 1 формирования контролируемого волнового фронта, матовое стекло (диффуз ион н ы и расс еивател ь)

2, объектив 4 с его апертурной диафрагмой

„„5U ÄÄ 1670378 А1 волнового фронта эа счет исключения влияния размера апертуры объектива на масштаб волнового фронта. Конкретное излучение с контролируемым волновым фронтом пропускают через диффузный рассеиватель и записывают на регистрирующей среде голограмму сфокумированного изображения рассеивателя с помощью коллимированной опорной волны. После этого согласованным образом изменяют угол освещения диффузного рассеивателя и угол падения опорной волны и вновь на ту же регистрирующую среду записывают голограмму сфокусированного изображения.

При восстановлении полученной двухэкспоэиционной голограммы регистрируют интерферограмму сдвига, по которой осуществляют контроль волнового фронта.

1 ил.

3, фотопластинку 5 и блок 6 формирования опорного пучка

Способ реализуется следующим образом.

Излучение с контролируемым волновым фронтом из блока 1 его формирования направляется на матовое стекло 2. На фотопластинке 5 с помощью объектива 4 с апертурной диафрагмой 3, предназначенной для исключения волновых аберраций объектива 4, с внеосевой плоской опорной волной, сформированной в блоке 6, записывается голограмма сфокусированного изображения матового стекла 2 эа время первой экспозиции. Перед второй экспозицией, например, с помощью поворота зеркал, находящихся в блоках 1, 6, изменяется угол освещения матового стекла 2 и угол

1670378

s inc = p(s in 0> — s in@).

Составитель В.Бахтин

Техред М.Моргентал Корректор М.Демчик

Редактор С.Никитина

Заказ 2737 Тираж 374 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 освещения фотопластинки 5, причем угол а освещения матового стекла 2 изменяется в плоскости, совпадающей с плоскостью изменения угла освещения фотопластинки 5, на величину sin а -,и($1ПΠ— в! пб ), где р - Izll > — масштабный коэффициент преобразования изображения; 01и 5 — углы падения опорного пучка перед первой и второй экспозициями соответственно. После закрепления и проявления фотопластинки голограмма восстанавливается исходной опорной волной и регистрируется интерферограмма сдвига контролируемого волнового фронта, локализующаяся в плоскости голограммы, В случае наличия волновых аберраций у объектива 4 регистрация интерферограммы проводится путем проведения пространственной фильтрации.

Формула изобретения

Способ контроля волнового фронта, заключающийся в том, что пропускают когерентное излучение с контролируемым волновым фронтом через диффузный рассеиватель, записывают на регистрирующей среде с помощью объектива голограмму диффузного рассеивателя, изменяют угол падения опорного пучка на регистрирующую среду от значения 01 до значения О, 5 повторно записывают голограмму на ту же регистрирующую среду, восстанавливают записанную двухзкспозиционную голограмму и регистрируют интерферограмму сдвига, по которой осуществляют контроль

10 формы волнового фронта, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью увеличения размеров контролируемого волнового фронта, осуществляют запись голограммы сфокусированного иэображения с коэффициентом

15 увеличения,и диффузного рассеивателя, а перед повторной записью голограммы изменяют угол падения на диффузный рассеиватель когерентного излучения с контролируемым волновым фильтром в пло20 скости изменения угла падения опорного пучка на величину а, удовлетворяющую соотношению

Способ контроля волнового фронта Способ контроля волнового фронта 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерениям модуляционной передаточной функции и ее ориентационной анизотропии электронно-оптической и/или зрительной системы

Изобретение относится к измерению модуляционной передаточной функции и ее равномерности по полю изображения электронно-оптической и/или зрительной системы

Изобретение относится к оптическому приборостроению и предназначено для контроля формы асферических поверхностей линз в процессе их обработки

Изобретение относится к оптическому приборостроению и предназначено для контроля асферических линз в процессе их обработки

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к устройствам для юстировки оптических элементов, и может быть использовано для юстировки плоских зеркал и дифракционных решеток в оптикомеханических приборах

Изобретение относится к оптической измерительной технике и может быть использовано для контроля фокусных расстояний объективов и положительных линз в инфракрасной области спектра

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для определения фокусного расстояния зеркальных оптических , элементов

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для определения фокусного расстояния объективов, линз и других оптических систем при их производстве и испытаниях

Изобретение относится к контролю качества оптических систем и моиспользовано для быстрого контроля качества объективов по их оптической передаточной Функции

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к оптическим измерениям, и предназначено для измерения удаления выходного зрачка телескопических систем„ Цель изобретения повышение точности измерений Объектив 3 формирует широкий пучок лучей, из которого щель экрана 5 вырезает узкий пучок, который при перемещении экрана сканирует по апертурной диафрагме

Изобретение относится к оптическим измерениям и может найти применение при регистрации двухэкспозиционной интерферограммы на фототермопластических носителях

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано, в частности в машиностроении, приборостроении

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к области дефектоскопии с помощью голографичес кой интерферометрии

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения эрозионного износа лопаток последних ступеней частей низкого давления паровых турбин
Наверх