Контейнер для получения заготовок из халькогенидов цинка и кадмия методом сублимации

 

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых кристаллов из газовой фазы. Цель - получение слоистых структур и снижение испарения подложки. Контейнер включает камеру с исходным материалом и подложкой, разделенными пористой перегородкой. Подложка размещена на внутреннем выступе втулки. В выступах выполнены сквозные каналы для подачи паров исходного материала к подложке. Подложка снабжена экраном из жаропрочного и инертного к ней материала. Получена двухслойная заготовка ZnS/ZnSe диаметром 350 мм. Толщина защитного слоя составляет 1,5 - 3 мм. Поверхности подложки не имеют следов испарения. 1 ил.

Изобретение относится к устройствам для выращивания материалов из газовой фазы и может быть использовано при получении слоистых структур, в частности для элементов, работающих в инфракрасной области спектра. Наиболее близким техническим решением является контейнер, конструкция которого описана в авт.св. СССР N 1047227, кл. C 30 B 23/00, 1981. Контейнер состоит из загрузочной камеры, технологической пористой прокладки и съемной крышки, на которой происходит осаждение вещества. В данном контейнере выращивали поликристаллические диски из селенида цинка толщиной 8 15 мм, диаметром до 100 150 мм с однородной структурой по толщине и сечению. Недостатком известной конструкции контейнера является следующее: при нанесении защитного слоя сульфида цинка на подложку из селенида цинка температура, при которой наносится слой, составляет 650 850oC. При этих температурах селенид цинка имеет достаточную упругость пара, что приводит к испарению исходной заготовки (подложки) как с торцовой, так и обратной стороны, что в конечном итоге ведет к большой потере исходного материала и последующему браку изделия в целом. Целью предлагаемого изобретения является получение слоистых структур и снижение испарения подложки. Поставленная цель достигается тем, что контейнер для получения заготовок из халькогенидов цинка и кадмия методом сублимации, включающий загрузочную камеру и подложку с крышкой, разделенные пористой перегородкой, снабжен втулкой с внутренним выступом, на котором установлена подложка, и экраном из жаропрочного и инертного к получаемой заготовке материала, расположенным на верхнем торце втулки, а в выступах втулки выполнены сквозные каналы для подачи паров исходного материала к торцовой поверхности подложки. Новым в конструкции контейнера является втулка с внутренним выступом, в котором выполнены сквозные каналы для подачи паров исходного материала к торцовой поверхности подложки и экран из жаропрочного и инертного к получаемой заготовке материала. На чертеже представлена схема контейнера для получения заготовок из халькогенидов цинка и кадмия методом сублимации. Контейнер включает камеру 1 роста, исходный материал 2, отделенный пористой перегородкой 3 от подложки 4 из селенида цинка, установленной на внутреннем выступе втулки 5, имеющей сквозные каналы для подачи паров исходного материала к подложке. Подложка закрыта экраном 6 из жаропрочного и инертного к получаемой заготовке материала и прижата крышкой 7. Исходный сульфид цинка испаряется и конденсируется на нижней и боковых поверхностях подложки 4, образуя защитный слой 8. Контейнер работает следующим образом. В камеру 1 засыпают исходный материал 2 (сырье), устанавливают пористую перегородку 3. Во втулку 5 на внутренний выступ помещают подложку 4 из поликристаллического селенида цинка. Втулку 5 с подложкой 4 устанавливают в камеру 1. Наружную и боковые поверхности подложки 4 закрывают экраном 6 и прижимают крышкой 7. После загрузки и сборки контейнера его устанавливают в вакуумную печь. После достижения в печи остаточного давления 1,3(10-2 - 10-3) Па производят нагрев контейнера с градиентом температуры по его высоте. Например, при нанесении защитного слоя из сульфида цинка температура испарения сульфида цинка составляет 1000 1080oC, температура осаждения составляет 650 850oC. Пары сульфида цинка проходят через пористую перегородку 3, которая препятствует улету твердых частиц испаряемого сырья и присутствующих в ней примесей, и конденсируются на поверхности заготовки селенида цинка, при этом пар проходит через сквозные каналы в выступе втулки 5 и конденсируется на торцовой поверхности подложки 4 из селенида цинка, что предотвращает ее испарение. Боковые поверхности подложки 4 защищает от испарения экран 6 (металлическая фольга, например, из титана толщиной 0,05 мм), который плотно прижимают к поверхности подложки 4 крышкой 7 контейнера. При использовании контейнера без экрана 6 в процессе нанесения покрытия (слоя 8) происходит следующее: графитовые детали после их шлифовки и полировки имеют шероховатость, так как структура графита пористая. Поэтому в процессе нанесения покрытия (слоя 8) обратная поверхность подложки 4 из селенида цинка начинает испаряться. Перенос материала (испарение) осуществляется на шероховатую поверхность крышки 7 (в поры), а также в печь через зазор между крышкой 7 и подложкой 4. Образовавшийся пористый слой в подложке 4 из селенида цинка в процессе нанесения перемещается в глубь материала, что приводит к его браку. При использовании контейнера без графитовой втулки 5 с внутренним выступом и сквозными каналами доступ пара к боковым поверхностям подложки 4 закрыт. Температура осаждения слоя 8 сульфида цинка составляет 650 - 850oC, поэтому подложка 4 из селенида цинка начинает испаряться, что также ведет к браку. Предлагаемая конструкция контейнеров изготовлена и испытана при выращивании двухслойных заготовок диаметром 350 мм. Толщина защитного слоя после нанесения составляет 1,5 3 мм. После механической обработки толщина защитного слоя составляет 0,5 1 мм. Боковые и обратная стороны исходной пластины не имеют следов испарения. Пластины с нанесенным защитным слоем из сульфида цинка удовлетворяют техническим требованиям и использованы для изготовления входного люка изделия Ю-605.

Формула изобретения

Контейнер для получения заготовок из халькогенидов цинка и кадмия методом сублимации, включающий камеру роста, в которой размещена подложка, и исходный материал, разделенные пористой перегородкой, отличающийся тем, что, с целью получения слоистых структур и снижения испарения подложки, контейнер снабжен втулкой с внутренним выступом, на котором установлена подложка, в выступах выполнены сквозные каналы для подачи паров исходного материала к боковым поверхностям подложки, снабжен экраном из жаропрочного и инертного к получаемой заготовке материала, расположенным на верхнем торце втулки.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к техноло ии полупроводниковых материалов, в частно сти к технологии выращивания многокомпонентных тонкопленочных структур методом молекулярно-лучевой эпитаксии в соер вы соком вакууме

Изобретение относится к технологии выращивания монокристаллов твердых растворов на основе ZnTe - ZnSe, которые могут быть использованы в приборах оптоэлектроники

Изобретение относится к технологии получения оптических материалов и может быть использовано в ИК-технике

Изобретение относится к способам выращивания кристаллов из паровой фазы и может быть использовано для выращивания относительно крупных объемных кристаллов карбида кремния α-модификации

Изобретение относится к получению тонких пленок методом молекулярно-лучевой эпитаксии

Изобретение относится к микроэлектронике, оптике, физике тонких пленок, может быть использовано, например, для получения защитных покрытий зеркал, обеспечивает получение однофазных, бездефектных пленок, стойких к лазерному излучению

Изобретение относится к получению высокотемпературных сверхпроводниковых пленочных материалов на основе металлоксидов и может быть использовано при разY-Ba-Cu-0 Super Films prepareted by 1988, работке новых устройств микроэлектроники и полупроводниковой электроники

Изобретение относится к кристаллизации алмаза из газовой фазы, и может быть использовано в электронике, приборостроении, лазерной и рентгеновской технике и обеспечивает повышение скорости роста слоев

Изобретение относится к технике нанесения эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений и обеспечивает повышение производительности и качества выращиваемых структур

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в технологии получения тонкопленочных многослойных покрытий

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых соединений типа А3N и может быть использовано при изготовлении эпитаксиальных структур различного назначения

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к способу и устройству для изготовления монокристаллов карбида кремния

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и приборов

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и приборов

Изобретение относится к синтетическим драгоценным камням из полупрозрачного монокристаллического карбида кремния и может быть использовано в ювелирной промышленности

Изобретение относится к оборудованию для производства элементов полупроводниковой техники и, в частности, предназначено для создания полупроводниковых соединений азота с металлами группы A3
Наверх