Способ изготовления фотополимерной печатной формы

 

Изобретение относится к полиграфической промышленности и позволяет улучшить качество поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы . На поверхность фотополимеризующейся пластины на основе ацетосукцината. целлюлозы наносят слой жидкого полисилоксана толщиной 0,5-5 мкм, экспонируют через негатив, вымывают пробелы, промывают и сушат. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)ю G 03 F 7/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 4710404/12 (22) 26.06.89 (46) 23.11.91. Бюл. bh 43 (71) Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промышленности с экспериментальным производством и вычислительным центром (72) А,В.Вайнер, О.А.Белицкий и В.M.Êîâàлишин (53) 655.229(088,8) (56) Авторское свидетельство СССР

f4 1094017, кл. 6 03 F 7/00, 1982.

Изобретение относится к полиграфической промышленности, к способам изготовления фотополимерных печатных форм для печатания продукции высоким и высоким офсетным способами, Целью изобретения является улучшеwe качества поверхности печатающих элементов.

Реализация предлагаемого способа изготовления фотополимерных печатных форм осуществляется следующим образом, Из фотополимеризующейся пластины

Целлофот-4, включающей ацетосукцинат целлюлозы, триэтиленгликольдиметакрилат, глицидилметакрилат, полиэтиленгликоль, глицерин, 1-хлорантрахинон, вырезают образец формата 200х200 мм. На поверхность пластины при помощи тампона наносят слой жидкого полисилоксана. Затем на поверхность пластины накладывают тест-фотоформу, содержащую повторяющиеся участки, помещают на вакуумную плиту экспонирующей установки, закатывают полиэтилентерефталатной пленкой и включают вакуум, обеспечивающий прижим фотоформы.

„„SU „, 1693584 (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРНОЙ ПЕЧАТНОЙ ФОРМЫ (57) Изобретение относится к полиграфической промышленности и позволяет улучшить качество поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы. На поверхность фотополимеризующейся пластины на основе ацетосукцината, целлюлозы наносят слой жидкого полисилоксана толщиной 0,5-5 мкм, экспонируют через негатив, вымывают пробелы, промывают и сушат, 1 табо.

Дальнейшие испытания проводят следующим образам.

Для определения оптимального времени экспонирования облучают образец через тест-фотоформу УФ-светом (лампы ЛУФ-80, расположенные на расстоянии 6 см от фотополимеризующегося слоя) в течение различного времени, перекрывая отдельные участки пластины светонепроницаемой бумагой. Вымывают пробелы 0,3-ным водным раствором гидроокиси натрия при 40 С, контролируя время вымывания подложки, затем промывают водой и сушат в естественных условиях. Полученную тест-форму . рассматривают через лупу с увеличением (х10. За оптимальное время экспонйрования принимают минимальное время, в течение .которого образуются печатающие эламенты, профиль которых у основания имеет угол

65 — 750

За оптимальное время вымывания принимают минимальное время, в течение которого пробелы на тест-форме, полученной при оптимальном времени экспонирования, вымываются до подложки.

С1

О $1 СЯ5

1 с 3

СН

I, ЗС

СР олши- Покезетели кз акте

Жидкий полиси1оксан татны - P8! слоя, мкм мальное время вымыСПО но

1 нирОва- I ния мин вания, мити

СНз О э 1

0-Si-CgHqL< 1

Снк

12

1 1

1 1

1е, 2

4

6

Известный

СНз

CzH5

С6Н 4С1

CzH5

С6Н5

1Q

CzН

С6Н

С6Н

СН т

Разрешающую способность определяют, рассматривая через лупу с увеличением х1О миру разрешающей способности на тест-форме, полученной при оптимальном времени экспонирования и вымывания, Аналогичным способом готовят тестформу для определения удельного сопротивления печатающих элементов сдвигу, экспонируя образец через соответствующую тест-фотоформу и вымывая его в течение оптимального времени, удельное сопротивление. печатающих элементов сдвигу Определяют на разрывной машине

Характер пОверхности печзта1ощих эле" ментов определяют, рассматривая тестформу в отраженном свете.

Использование предлагаемого способа показывает, что нанесение на Г1оверхность фотополимеризующейся пластины тонкого слоя жидкого полисилоксана позволяет значительно улучшить качество поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы, исключить на ней наличие выщербин и, наплывов при сохранении других показателей качества фотополимерной печатнОй фОрмы, Использование изобретения позволит повысить качество печатной продукции.

Формул изобретения

Способ изготовления фотополимерной печатной формы, включающий экспониро5 вание фотополимеризующейся пластины на основе ацетосукцината целлюлозы через негатив, вымывание пробелов, промывку, дозкспонирование, сушку и нанесение слоя жидкого полисилоксана формулы

1О где R> — H>, С -1з, С2Н5, С6Н5, С6Н4С1;

RZ CHg С2 15, С6 15, С6Н4С1, Mg

O-51-С Н„И, n=1 — 9, СН отличающийся тем, что, с целью улучшения качества поверхности печатаю25 щих элементов, нанесение слоя жидкого пОлисилОксана на поверхность фотОПОлимеризующейся пластины осуществляют

nepep, .Понированием толщиной

О,5„,5,0 мкм.

Способ изготовления фотополимерной печатной формы Способ изготовления фотополимерной печатной формы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полиграфической промышленности, используется для изготовления цилиндрических фотополимерных форм глубокой печати и позволяет повысить качество форм

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к электротехнике и технологии изготовления прецизионных индуктивных элементов со сложной конфигурацией

Изобретение относится к способу изготовления мелкорельефных фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции
Изобретение относится к технологии микроэлектроники

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано при создании устройств на основе сверхпроводящих материалов

Изобретение относится к способам изготовления рельефных фотополимерных печатных форм

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов и может быть использовано на завершающей стадии фотолитографии при удалении задубленного слоя фоторезиста с поверхности полупроводниковых пластин и фотошаблонных заготовок

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх