Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности и материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты и устройства, специально приспособленные для этих целей (G03F7)
G Физика(403185)
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография (воспроизведение изображений или образов путем развертки и преобразования в электрический сигнал H04N)
(10965)
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G03C; электрография, чувствительные слои или процессы G03G)
(960)
G03F7 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B44C,H01L, а также рубрики, например H01L21,H05K)(566)
G03F7/004 - Светочувствительные материалы ( G03F7/12,G03F7/14 имеют преимущество)(4)
G03F7/012 - Полиазиды; высокомолекулярные добавки, например связующие(1)
G03F7/016 - Соли или соединения диазония ( G03F7/075 имеет преимущество)(2)
G03F7/022 - Хинондиазиды ( G03F7/075 имеет преимущество)(11)
G03F7/025 - Невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие тройные углерод-углеродные связи, например ацетиленовые соединения ( G03F7/075 имеет преимущество)(4)
G03F7/027 - Невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие двойные углерод-углеродные связи, например этиленовые соединения ( G03F7/075 имеет преимущество)(10)
G03F7/029 - Неорганические соединения; ониевые соединения; органические соединения, содержащие гетероатомы кроме кислорода, азота или серы(1)
G03F7/031 - Органические соединения, не отнесенные к рубрике G03F7/029(9)
G03F7/032 - Со связующими(5)
G03F7/033 - Полимерами, получаемыми реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей, например виниловыми полимерами(8)
G03F7/035 - Полиуретанами(3)
G03F7/037 - Полиамидами или полиимидами(3)
G03F7/038 - Высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости ( G03F7/075 имеет преимущество; полиазиды G03F7/012; соединения полидиазония G03F7/021)(6)
G03F7/039 - Высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты ( G03F7/075 имеет преимущество; полихинондиазиды G03F7/023)(12)
G03F7/06 - Соли серебра ( G03F7/075 имеет преимущество)(8)
G03F7/07 - Используемые для процессов с диффузионным переносом(12)
G03F7/075 - Кремнийсодержащие соединения(9)
G03F7/085 - Светочувствительные составы, отличающиеся высокомолекулярными добавками, придающими адгезионные свойства ( G03F7/075 имеет преимущество)(4)
G03F7/09 - Отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, вспомогательными слоями (подложки для печатных форм вообще B41N)(10)
G03F7/095 - Имеющие более одного светочувствительного слоя ( G03F7/075 имеет преимущество)(2)
G03F7/12 - Изготовление форм для трафаретной печати или подобных печатных форм, например шаблонов(37)
G03F7/16 - Процессы нанесения покрытий; устройства для этих целей (нанесение покрытий на основной материал вообще B05; нанесение светочувствительных составов на подложку для фотографических целей G03C1/74)(32)
G03F7/18 - Нанесение покрытий на неплоские поверхности(2)
G03F7/20 - Экспонирование устройства для этой цели (устройства фотопечатания для изготовления копий G03B27)(60)
G03F7/207 - Средства для фокусировки, например автоматические (в комбинации с размещением и фиксацией G03F9/02; системы для автоматического генерирования сигналов фокусировки вообще G02B7/28; средства для автоматической фокусировки устройств фотопечатания G03B27/34)(1)
G03F7/22 - Последовательное экспонирование с различных участков одного и того же негатива одной и той же поверхности ( G03F7/207 имеет преимущество)(4)
G03F7/23 - Автоматические средства для этой цели(1)
G03F7/24 - Неплоских поверхностей(3)
G03F7/26 - Обработка светочувствительных материалов; устройства для этой цели ( G03F7/12-G03F7/24 имеют преимущество)(53)
G03F7/28 - Для получения порошкового изображения ( G03F3/10 имеет преимущество)(2)
G03F7/32 - Жидкие составы для этих целей, например проявители(8)
G03F7/36 - Способы удаления изображения, не отнесенные к рубрикам G03F7/30-G03F7/34, например использующие газовые струи или плазму(2)
G03F7/42 - Снятие покрытия или агенты для этой цели(9)
Изобретение относится к фоточувствительным композициям и может быть использовано для изготовления термостойких механически прочных трехмерных объектов методом DLP 3D-печати. Фоточувствительные композиции состоят из термостойкого полимера - N-аллил-функционализированного поли-2,2’-(п-оксидифенилен)-5,5’-дибензимидазола со степенью функционализации 50-100% и молекулярной массой 50-120 кДа; тиольного компонента, в качестве которого выступают тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрит, бис-меркаптоацетат этиленгликоля, 1,3-димеркаптобензол или 1,4-димеркаптобензол; фотоинициатора - бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида; гидрохинона и растворителя - N-метил-2-пирролидона.
Устройство для электронно-лучевой литографии // 2791181
Изобретение относится к оборудованию для создания устройств микроэлектроники с помощью технологии электронно-лучевой литографии. Устройство для электронно-лучевой литографии (фиг.1) содержит: электронно-оптическую систему 1 с блоком контроля интенсивности электронного луча 2; координатный столик 3 с электроприводом 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5; управляющий компьютер 6; генератор изображений 7; драйвер координатного столика 8; драйвер генератора изображений 9, при этом входы управления параметрами электронного луча электронно-оптической системы 1 подключены к соответствующим выходам генератора изображений 7, вход которого соединён с выходом блока контроля интенсивности электронного луча 2, а порт обмена данными связан по оптоволоконной линии связи через драйвер генератора изображений 9 с управляющим компьютером 6, который другим своим портом обмена данными через драйвер координатного столика 8 соединён с электроприводом координатного столика 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5.
Антиотражающее покрытие // 2784314
Изобретение относится к получению антиотражающих покрытий полупроводниковой подложки в процессах формирования топологических элементов микроэлектронных устройств с использованием фотолитографии. Антиотражающее покрытие для фотолитографии включает пленкообразующий полимер, сшивающий агент, термический генератор кислоты и органический растворитель.
Изобретение относится к устройствам лазерного наноструктурирования поверхности с использованием массива упорядоченных диэлектрических мезомасштабных фокусирующих устройств, формирующих максимумы распределения интенсивности лазерного поля, где происходит формирование структур с масштабами, меньшими длины волны исходного используемого излучения, и может быть использовано для создания материалов с новыми свойствами и представляет собой устройство обработки поверхности твердого материала с получением на этой поверхности структур с чешуйками субмикронной толщины и микронными размерами и/или с субмикронными трещинами и щелями между упомянутыми чешуйками и/или участками поверхности с характерными субмикронными перепадами по высоте рельефа.
Изобретение относится к материалам для генетического секвенирования. Предложена смоляная композиция для получения проточной ячейки для генетического секвенирования, включающая отверждаемую свободнорадикальную смоляную матрицу, включающую замещенный акрилокси- или метакрилокси-группами полисилоксан или акрил-замещенный полиэдрический олигомерный силсесквиоксан, свободнорадикальный фотоинициатор, матрицу из эпоксидной смолы и генератор фотокислоты.
Изобретение относится к области оптического приборостроения и касается способа изготовления волоконно-оптического датчика температуры на базе кремниевого оптического резонатора Фабри – Перо. Способ включает создание маски на верхней стороне полированной кремниевой подложки, закрепляемой на удерживающем основании нижней стороной, травление кремниевой подложки на всю глубину по маске с получением кремниевых оптических резонаторов Фабри - Перо нужной формы, закрепленных на удерживающем основании, отделение каждого оптического резонатора Фабри - Перо от удерживающего основания и его соединение с оптическим волокном.
Изобретение относится к области создания материалов для биологических исследований и касается смоляной композиции. Смоляная композиция включает матрицу из эпоксидной смолы, свободнорадикальный фотоинициатор, выбранный из группы, состоящей из 2-этил-9,10-диметоксиантрацена, 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона, 2-этокси-2-фенилацетофенона и фосфиноксида, и генератор фотокислоты.
Изобретение относится к литографическим шаблонам. Активный литографический шаблон характеризуется тем, что он содержит элементы в виде островков и окон, причем элементы в виде островков выполнены с возможностью совершать микромеханическое движение на расстояния от 1 нм до 500 мкм на этапе формирования шаблона и/или на этапе нанесения слоя/слоев целевого материала через данный шаблон, причем указанное движение обусловлено релаксацией механических напряжений в островках шаблона, механические напряжения, в свою очередь, вызваны протеканием физической и/или химической реакции в веществе островков шаблона, инициируемой внешним физическим и/или химическим воздействием.
Изобретение относится к рентгенолитографии. Способ изготовления самонесущего рентгеношаблона включает процессы формирования литографическими способами на одной из поверхностей металлической фольги защитной маски из металла, имеющего малую по сравнению с металлом фольги скорость травления в соответствующем составе химически активной плазмы, травящей металл фольги, процессы предварительного принудительного распрямления фольги и ее фиксации посредством клеящего вещества на металлической шайбе, устанавливаемой на рабочем столике установки плазмохимического травления, процесс сквозного травления фольги через защитную маску в установке плазмохимического травления, при этом согласно изобретению в качестве клеящего вещества фиксирующего фольгу на металлической шайбе используют жидкий металл галлий с последующим его отвердеванием при охлаждении сборки: фольга, металл галлий, металлическая шайба - до температуры ниже температуры плавления галлия (Тпл.=29,78°С).
Изобретение относится к области нанотехнологий, а именно к способам формирования наноматериалов в виде нанолитографических рисунков с упорядоченной структурой со сверхразвитой поверхностью, и может быть использовано для получения устройств нано- и микроэлектроники нового поколения.
Изобретение относится к головке для обработки, системе для обработки и способу обработки локальной области поверхности подложки с использованием плазмы. Головка для обработки области поверхности подложки содержит корпус, имеющий основную поверхность, выполненную с возможностью размещения рядом с подлежащей обработке областью поверхности подложки и обращенную к этой области; вытяжное отверстие, выполненное в основной поверхности корпуса, способное соединяться с вытяжным устройством посредством канала для вытягивания газа, образованного по меньшей мере в части корпуса; радиационный нагреватель, размещенный в корпусе, предназначенный для испускания теплового излучения через отверстие для выхода излучения, выполненное в основной поверхности; источник плазмы, размещенный в корпусе, для выпуска струи плазмы через отверстие для выхода плазмы, выполненное в основной поверхности; выпускное отверстие в основной поверхности корпуса, способное соединяться с источником газа посредством газового канала, образованного по меньшей мере в части корпуса.
Изобретение относится к области радиоэлектроники, в частности к радиочастотной (РЧ) системе, включающей в себя планарные РЧ устройства, связанные друг с другом посредством негальванического соединения. Техническим результатом является снижение сложности и уменьшение размеров, а также повышение надежности и технологичности соединения между элементами РЧ системы.
Устройство для выдавливания рельефа // 2753172
Использование: для выдавливания рельефа. Сущность изобретения заключается в том, что устройство для выдавливания рельефа включает кремниевый эталон, который содержит совокупность элементов нанорельефа.
Подложка с наноотпечатком // 2748273
Подложки с наноотпечатком часто используются при изготовлении миниатюризованных устройств для применения в электрических, оптических и биохимических приложениях. Технологии формирования таких отпечатков, например нанопечатная литография, могут оставлять на поверхности подложек остатки материала, что оказывает влияние на технологию соединения и снижает качество готовых устройств.
Изобретение относится к области органических светочувствительных регистрирующих сред и касается жидкой композиции для фотополимеризационноспособной пленки для оптической записи, которая формирует изображение за счет модуляции показателя преломления при экспозиции активирующим облучением с длиной волны в диапазоне 500-550 нм.
Изобретение относится к держателю для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, к способу очистки стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной, а также к устройству для открывания и закрывания держателя ранее указанного типа.
Изобретение относится к композиции краски для впечатывания, пригодной для впечатывания в структурированную поверхность эластомерного штампа. Композиция краски для впечатывания содержит наночастицы оксида переходного металла.
Изобретение относится к штампу для способа импринт-литографии, к способам изготовления такого штампа и к способам импринтинга, использующим штамп, или к использованию такого штампа в способе импринтинга.
Изобретение относится к области микро- и нанотехнологии, в частности к применению полисахарида хитозана и его соединений в качестве резистов для электронно-лучевой литографии и фотолитографии для изготовления микро- и нано- электронных и оптических компонентов.
Способ создания трехмерного предмета // 2726524
Изобретение относится к способу создания трехмерного предмета. В стереолитографическом процессе во временной последовательности отверждается множество слоев (30), так что их совокупность образует трехмерный предмет.
Изобретение относится к способу изготовления рентгеношаблона. Способ изготовления рентгеношаблона включает в себя процессы формирования топологического маскирующего рентгенопоглощающего слоя путем перфорации металлической фольги и ее фиксации в опорном кольце.
Настоящее изобретение относится к способу создания трехмерного объекта, пригодной для печати композиции и к стереолитографическому устройству. Указанный способ включает стадии, на которых а) обеспечивают пригодную для печати композицию; b) селективно отверждают пригодную для печати композицию с образованием изделия, представляющего форму трехмерного объекта; с) удаляют значительное количество временного растворителя из изделия; и d) необязательно отверждают незаполимеризованный полимеризуемый компонент, оставшийся до или после стадии с).
Светоизлучающее устройство // 2713080
Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и касается светоизлучающего устройства. Светоизлучающее устройство содержит светоизлучающую структуру, слой обработки и оптическую структуру.
Лазерный рентгеновский излучатель // 2707174
Лазерный рентгеновский излучатель относится к радиационной физике, а именно к области лазерных рентгеновских излучателей, и может быть использован в научных исследованиях в физике, химии, биологии, применен в различных областях промышленности и медицины.
Изобретение относится к области микро- и нанотехнологий и может быть использовано для изготовления упорядоченного массива субмикронных отверстий в тонких металлических пленках, предназначенных для создания устройств микроэлектроники, фотоники, наноплазмоники, а также квантовых вычислительных устройств.
Вакуумный держатель для подложек // 2702995
Изобретение относится к технологической оснастке. Вакуумный держатель для подложек выполнен в виде стола, на поверхности которого выполнены сквозные отверстия, соединенные с камерой низкого давления.
Способ относится к оптическому приборостроению и может быть использован для создания дифракционных оптических элементов видимого и ультрафиолетового диапазона - линз Френеля, корректоров и др. Способ изготовления фазовых дифракционных решеток, микроструктур и контактных масок включает в себя магнетронное осаждение пленки молибдена на поверхность диэлектрической подложки, формирование топологического рисунка оптического элемента с последующей выдержкой в муфельной печи при температуре 500°С в течение 0,5-3,5 мин.
Изобретение относится к микросистемной технике и технологии, а именно к изготовлению высокоаспектных микроструктур, и может быть использовано для изготовления структурированных сцинтилляционных экранов.
Способ переноса, а также устройство и компьютерный программный продукт для его осуществления // 2701780
Настоящее изобретение относится к способу механического контактирования гибкого штампа с подложкой при их точном совмещении, а также к способу, в котором используют указанный способ контактирования для впечатывания шаблона на гибком штампе в слой на подложке, в который выполняют впечатывание.
Изобретение относится к отверждаемым полимерным композициям, включающим фотополимеризующиеся компоненты, отверждаемые под действием излучения ультрафиолетового диапазона с образованием отвержденных продуктов.
Изобретение относится к способу обжига покрытия подложки печатной формы. Способ обжига покрытия подложки печатной формы, выполненной из алюминия или алюминиевого сплава, включает нагрев до температуры отжига подложки, выдержку при этой температуре в течение заданного времени и охлаждение, при этом по меньшей мере, в диапазоне температур от 150°C до температуры обжига разница температур металла печатной формы, измеренная вдоль линии в продольном направлении печатной формы во время нагрева и во время охлаждения, составляет максимум 40°C на длине 40 см, а разница температур металла печатной формы, измеренная вдоль линии перпендикулярной продольному направлению, составляет менее 10°C во время нагрева и во время охлаждения.
Изобретение относится к способу изготовления печатающего штампа для формирования рисунка на профилированной поверхности, печатающему штампу как таковому и использованию печатающего штампа для печати. Раскрыт способ изготовления штампа с рисунком (100) для формирования рисунка на профилированной поверхности (10).
Изобретение относится к фоторезистивным композициям и может быть использовано в электроннолучевой литографии, в рентгеновской литографии при производстве интегральных схем с субмикронными размерами элементов.
Изобретение относится к способу стереолитографического производства. Жидкая фотоотверждаемая смоляная композиция для стереолитографии, содержащая (i) по меньшей мере одно радикально полимеризуемое соединение (А), представленное следующей общей формулой (I): R4O-CO-NH-R2-NH-CO-O-R1-O-CO-NH-R3-NH-CO-OR4 (I), где R1 представляет собой остаток линейного или разветвленного политетраметиленгликоля со средней молекулярной массой от 200 до 3000 г/моль; R2 представляет собой остаток диизоцианатного соединения; R3 представляет собой остаток диизоцианатного соединения, такой же как или отличный от R2; a R4 выбран из AcrO-CH2-CH2-; (AcrO-CH2)2CH-; (AcrO-CH2)3C-CH2-; AcrO-CH2-CHCH3-; AcrO-СН2-СНС2Н5- и (AcrO-СН2)2С(С2Н5)СН2-, предпочтительно из AcrO-СН2-СН2 и более предпочтительно AcrO-СН2-СН2-; где Acr представляет собой CH2=C(R)-CO- и R представляет собой атом водорода или метильную группу; (ii) по меньшей мере одно радикально полимеризуемое органическое соединение (В), отличное от соединения (А); и (iii) фоточувствительный инициатор радикальной полимеризации (С), причем содержание радикально полимеризуемого соединения (А) варьируется от 5 до 70 мас.% от общего количества соединений (А) и (В).
Изобретение относится к жидкой фотополимеризующейся композиции (ФПК) для лазерной стереолитографии. Композиция содержит 96-98 вес.% смеси ди(мет)-акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера и 2-4 вес.% фотоинициатора 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенона.
Устройство относится к средствам формирования однократных высоковольтных микросекундных импульсов на низкоомных нагрузках и может быть использовано для запуска управляемых вакуумных разрядников, входящих в состав батареи магнитного поля (БМП) мощных лилейных индукционных ускорителей.
Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии // 2684387
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях быстрого получения термостойких изделий методом лазерной стереолитографии. Описывается фотополимерная композиция, включающая акриламидные компоненты, фотоинициатор - 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1 и поли-м-фениленизофталамид в качестве термостойкой матрицы.
Настоящее изобретение относится к светочувствительной смоляной композиции для оригинальной формы для высокой печати, а также к полученной из нее оригинальной формы для высокой печати. Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати содержит в качестве основных компонентов растворимый в воде или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет от 30 до 90 мол.%, при этом среди алициклических структурных звеньев полиамида содержание алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 мол.% или более, а также оригинальная форма для высокой печати с использованием указанной композиции.
Изобретение относится к способам обработки подложек. Способы включают этап обеспечения протекания водосодержащей жидкой среды через канал для потока и по меньшей мере одну выпускную щель на подложку, подлежащую обработке, а также облучение водосодержащей жидкой среды ультрафиолетовым излучением с заданной длиной волны по меньшей мере на участке канала для потока, непосредственно прилегающем к по меньшей мере одной выпускной щели, и после прохождения водосодержащей жидкой среды через выпускное отверстие в направлении подложки и, таким образом, перед нанесением и во время нанесения водосодержащей жидкой среды на поверхность подложки, подлежащей обработке.
Изобретение относится к способу изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента. Техническим результатом является улучшение отверждения поверхности элементов для цифровой печати рельефных изображений.
Изобретение относится к пленкообразующим для фоторезистов на основе алкилфенолоформальдегидных смол. Пленкообразующую составляющую для фоторезистов на основе алкилфенолоформальдегидной смолы получают конденсацией смеси алкилфенола и формальдегида в присутствии бензолсульфокислоты в качестве кислотного катализатора в среде уксусной кислоты в качестве органического растворителя при нагревании с последующим выделением смолы на охлажденную до 5-10°С дистиллированную воду, в качестве мономеров используются коксохимические фракции дикрезол и трикрезол, мольное соотношение мономер/формальдегид составляет 1/(0,57-1).
Изобретение относится к технологии получения оптических полимерных материалов и может быть использовано для формирования оптических элементов методом трехмерной (3D) печати. Люминесцентная фотополимерная композиция состоит из эпоксиакрилатной композиции (84,0-97,0 масс.
Изобретение может быть использовано для формирования фоторезистивных пленок, однородных по толщине и пригодных для проведения операций фотолитографии для формирования интегральных микросхем, МЭМС и СВЧ-структур на подложках, в том числе со сложным рельефом, где перепад высот существенно больше толщины формируемой пленки фоторезиста.
Способ получения структурированных покрытий // 2660664
Изобретение относится к способу получения структурированных покрытий. Способ получения структурированных покрытий включает нанесение на подложку композиции, содержащей одно неорганическое связующее вещество с общей формулой SiaR1bOc(OR2)d, при этом а≥2, b≥0, c≥1, d≥5, и R1 и R2 представляют собой органический радикал; по меньшей мере один оксидный пигмент, который после добавления смеси, включающей 15 мл 1 М щавелевой кислоты и 15 мл 20% водной хлористоводородной кислоты в пересчете на 1 г оксидного пигмента, при стандартных условиях приводит к повышению температуры по меньшей мере на 4°C, и по меньшей мере один растворитель.
Изобретение относится к области литографии и касается системы для определения положения подложки в системе литографии. Система содержит оптическую колонну, чувствительный элемент оптического совмещения и подложку, содержащую оптическую отметку положения.
Изобретение относится к устройствам защиты рабочих элементов литографического оборудования от потоков пылевых частиц, в которых запыление элементов оптики продуктами распыления мишени при ее облучении лазерным излучением является критическим.
Изобретение относится к области литографии и касается способа получения фоторезистивного слоя. Фоторезистивный слой получают аэрозольным распылением из раствора фоторезистивного материала.
Устройство для создания мультимодальной структуры методом лазерной интерференционной литографии // 2654318
Изобретение относится к области фотомеханического изготовления текстурированных поверхностей и касается устройства для получения мультимодальной структуры на поверхности образца методом лазерной интерференционной литографии.
Устройство выравнивания подложки для высокопроизводительной установки совмещения фотошаблонов // 2650724
Заявленные изобретения относятся к области фотолитографии и предназначены для выравнивания подложки высокопроизводительной установки совмещения фотошаблонов. Техническим результатом является улучшение процесса выравнивания подложки и, в частности, разработка новой технологии предотвращения проблем выравнивания путем надежной фиксации полностью выровненной подложки пластины.
Изобретение относится к негативным фоторезистам для процессов формирования топологических элементов микроэлектронных устройств с использованием «взрывной» фотолитографии. Предложена композиция негативного фоторезиста для «взрывной» фотолитографии, содержащая (мас.%) фенолоформальдегидную смолу (25,0-40,0), гексаметоксиметилмеламин (5,0-8,0), α-(4-тозилоксимино)-4-метоксибензилцианид (1,0-2,0), органическое основание (0,04-0,20), фторалифатический эфир (0,1-2,0), Тинувин 1130 (1,0-10,0) и органические растворители (50,0-66,0).
