Способ изготовления форм высокой печати из предварительно очувствленных пластин

Авторы патента:

G03F7 - Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B44C,H01L, а также рубрики, например H01L 21/00,H05K)

О П И C А Н И Е I7I263

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Кл. 57d, 201

Заявлено 23.1Ч.1962 (№ 775122/23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 11.Ч.1965. Бюллетень № 10

Дата опубликования описания 11 VI.1965

МПК G 031

УДК 655.223 (088.8) Государственный комитет по делам изобретений и открьпий СССР

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОРМ ВЫСОКОЙ ПЕЧАТИ

ИЗ ПРЕДВАРИТЕЛЬНО ОЧУВСТВЛЕННЫХ ПЛАСТИН

Подписная группа № 288

Известен способ обрабожи слоев из хроматированного поливинилового спирта после экспонирования с помощью водорастворимых фенолформальдегидных смол. Однако при изготовлении форм из предварительно очувствленных пластин применение этих смол не дает положительных результатов и эмйль под действием кислоты разрушается.

Предлагаемый способ изготовления форм высокой печати из предварительно очувствленных пластин отличается от известного тем, что пластины после экспонирования и проявления обрабатывают раствором крезолформальдегидной смолы и красителем кислотным синим 3, благодаря чему копия приобретает кислотоустойчивость и одновременно окрашивается.

Сущность предлагаемого способа заключается в следующем. Предварительно очувствленные пластины после копировки и проявления обрабатывают в течение 3 вЂ” 5 мин в кювете 10 вЂ” 15%-ным раствором крезолформальдегидной смолы, содержащим для окрашивания копии 3 вЂ” 5% красителя кислотного си него 3, затем ополаскивают водой и нагре5 вают в шкафу при 230 вЂ” 240 С.

Полученное изобра кение обладает высокой кислотоустойчивостью и не разрушается да>ке при длительном травлении до полного растворения металла в пробельных участках.

10 Травят 6 вЂ” 10",,,-ной азотной кислотой обычным способом.

Предмет изобретения

Способ изготовления форм высокой печати

15 пз предварительно очувствленных пластин, отяича>оиьийся тем, 1ТО, с целью, придания копии кислотоустойчпвости и одновременного окрашивания, пластины после экспонирования и проявления обрабатывают раствором кре20 золформальдегидной смолы и красителем кислотным синим 3.

Способ изготовления рельефных матриц для гидротипной печати // 169397

Ая способ изготовления печатных формб^'ь"иотг:;ду--^-^> & -<•4^1 nil ш^ ^ // 167893

Способ изготовления печатных форм // 166931

Фотографический способ изготовления на непрозрачной основе, например металлизированном стекле, прозрачных шкал и сеток // 166236

Способ получения кислотоупорного защитного // 165644

Патент 165081 // 165081

Способ получения изображений, поляризующихсвет // 164528

Патент 161235 // 161235

Патент 160428 // 160428

Позитивный фоторезист // 2100835

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Динатриевая соль 2,2-бис-(3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона как фотоинициатор радикальной полимеризации // 2109732

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления эластичных фотополимерных печатных форм // 2114454

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Полиорганосиланы и двухслойная позитивная маска для фотолитографии на основе полиорганосилана // 2118964

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Полиорганосиланы и двухслойная позитивная маска для фотолитографии на основе полиорганосилана // 2118964

Состав разбавителя для смывания ненужного фоторезиста на пластине в процессе изготовления полупроводниковых устройств (варианты) и способ смывания ненужного фоторезиста (варианты) // 2126567

Фотополимеризующаяся композиция // 2127444

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Фотополимеризующаяся композиция // 2127444

Способ изготовления элементов световода // 2129722

Способ получения рельефа на поверхности // 2129960

Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий