Мощная вч и свч транзисторная структура

 

Использование: конструкции мощных ВЧ- и СВЧ- полупроводниковых приборов, обеспечивающих равномерность распределенного тепла. Сущность изобретения: контакты эмиттерных полосок с металлизацией сформированы на противоположных краях полосок, а поверхностное сопротивление RS эмиттерных полосок удовлетворяет определенному условию. 1 ил.

Изобретение относится к полупроводниковой электронике, в частности к конструкции мощных СВЧ-полупроводниковых приборов. Цель изобретения - увеличение выходной мощности, коэффициента усиления по мощности и КПД транзисторной структуры за счет повышения равномерности тепловыделения. Изобретение поясняется чертежом. На чертеже представлена ВЧ (СВЧ) транзисторная структура, которая включает в себя полупроводниковую подложку 1, являющуюся телом коллектора. На подложке сформированы базовые и эмиттерные области (соответственно 2 и 3). Базовые области котактируют с базовой металлизацией 4. Контакты эмиттерных областей, выполненных в виде полосок длиной l и шириной h, с эмиттерной металлизацией 5 расположены на противоположных по длине краях полосок. Последовательно с контактами к эмиттерным областям подключены балластные резисторы 6. Базовые области 2 и сгруппированные в их пределах эмиттерные области 3 образуют транзисторные ячейки 7. Поверхностное сопротивление Rs эмиттерных полосок удовлетворяет условию Rs , (1) где h - усредненная ширина полосок; l - длина полоски, находящаяся между контактами полоски с металлизацией или удвоенная длина между контактом и разрывом посередине полоски при наличии последнего, k=1 Ом/. В случае, если эмиттерные полоски соединены одна с другой перемычками и образуют сетку, h = где lihi - соответственно длина и ширина i-го участка (из общего числа N), элементарного фрагмента эмиттерной технологии длиной l. Расположение контактов к эмиттерным полоскам 3 на их противоположных по длине краях позволяет перераспределить эмиттерный ток и выделяющуюся тепловую мощность в транзисторной ячейке 7 за счет оптимального выбора распределенного сопротивления эмиттерных полосок путем изменения их поверхностного сопротивления Rs, в пределах неравенства (1). Выполнение условия (1) приводит к тому, что Rs с одной стороны, достаточно мало, чтобы обеспечить растение эмиттерного тока от краев полоски 3 к ее середине, а с другой стороны, достаточно велико, чтобы уменьшить плотность тока в середине полоски по сравнению с краями и тем самым максимально приблизить температуру разогрева центра транзисторной ячейки к температуре разогрева ее периферии. Повышение однородности разогрева каждой транзисторной ячейки 7 приводит к повышению энергетических параметров транзисторной структуры в целом. П р и м е р. Транзисторная структура содержит 20 ячеек с размерами базовых областей 400х46 мкм2, внутри каждой из которых сформирован ряд эмиттерных полосок с размерами 30х3 мкм2. Балластные резисторы клиновидной формы, имеющие длину в центре 10 мкм и на краях 6 мкм, расположены в разрывах эмиттерной металлизации с двух противоположных сторон каждой ячейки. Поверхностное сопротивление эмиттерных областей Rs=3 0,2 Ом/ (за счет формирования на поверхности эмиттеров слоя PtSi). В схеме с общим эмиттером на частоте 600 МГц при напряжении питания Ек=40 В такая транзисторная структура имеет выходную мощность Рвых=66 Вт, коэффициент усиления по мощности Кур=6,5 и КПД=56%. Для сравнения, аналогичная транзисторная стpуктура, отличающаяся тем, что эмиттерная и базовая металлизации каждой ячейки представляют собой две вложенные друг в друга гребенки с основаниями из противоположных сторон ячейки, а балластные резисторы, расположенные со стороны эмиттерной металлизации, имеют вдвое больший номинал, при тех же условиях измерения имеем Рвых=60 Вт, Кур=5,8 и КПД=49%. Использование изобретения позволяет на 5-10% повысить выходную мощность, коэффициент усиления по мощности и КПД мощных СВЧ-транзисторов.

Формула изобретения

МОЩНАЯ ВЧ И СВЧ ТРАНЗИСТОРНАЯ СТРУКТУРА, содержащая полупроводниковую подложку с коллекторными и базовыми областями, в пределах каждой из базовых областей размещены расположенные в ряд эмиттерные области, сформированные в виде непрерывных или имеющих посередине разрывы полосок, включающие области контактов с металлизацией, отличающаяся тем, что, с целью увеличения выходной мощности, коэффициента усиления по мощности и КПД за счет повышения равномерности тепловыделения, области контактов с металлизацией каждой эмиттерной полости расположены на противоположных по длине полоски краях, а поверхностное сопротивление Rs полосок удовлетворяет условию Rs , , где h - усредненная ширина полосок; l - длина полоски, находящаяся между контактами с металлизацией данной полоски или удвоенная длина между контактом и разрывом при наличии последнего, k = 1 Ом/.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой микроэлектронике, в частности к полупроводниковым структурам, выполненным по планарно-эпитаксиальной технологии, и может быть использовано при изготовлении биполярных полупроводниковых приборов и интегральных схем

Изобретение относится к радиотехнике и преобразовательной технике и мохет быть использовано для управления ключевым режимом биполярных фанзисторор

Изобретение относится к полупроводниковой технике

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в вычислительной технике и технике СВЧ

Изобретение относится к области полупроводников электроники и может быть использовано при производстве полупроводниковых приборов, в мощных ВЧ- и СВЧ-транзисторах и др

Изобретение относится к элекг роииой технике, в частности к конструкции мосщых биполярных генератор иых СВЧ-траняисторов, Целью иэобрете ния является увеличение выходной мост ности путем обеспечения равномерного распределения выходной мощности между кристаллами

Изобретение относится к производству полупроводниковых приборов, в частности к изготовлению мощных планарных транзисторов, работающих в ВЧ- и СВЧ-диапазонах

Изобретение относится к производству полупроводниковых приборов, в частности к изготовлению мощных планарных транзисторов, работающих в ВЧ- и СВЧ-диапазонах

Изобретение относится к полупроводниковой электронике

Изобретение относится к конструированию и производству мощных СВЧ-транзисторов

Изобретение относится к области полупроводниковой технологии

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к области создания интегральных схем (ИС) с использованием биполярных транзисторов

Изобретение относится к силовым полупроводниковым приборам

Изобретение относится к полупроводниковой электронике

Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к конструкции мощных биполярных транзисторов с увеличенной областью безопасной работы

Изобретение относится к области конструирования и производства мощных СВЧ транзисторов

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано при создании запираемых и комбинированно-выключаемых тиристоров, а также биполярных транзисторов
Наверх