Способ определения концентрации элемента в веществе сложного химического состава

 

Изобретение относится к аналитической химии. Способ включает облучение пробы анализируемого вещества гамма- или рентгеновским излучением, регистрацию интенсивностей характеристической линии определяемого элемента и рассеянного пробой первичного излучения. Затем, используя впервые полученное аналитическое выражение, связывающее оптимальную поверхностную плотность дополнительного поглотителя из анализируемого вещества и измеренные интенсивности, рассчитывают точное значение оптимальной поверхностной плотности поглотителя, при котором происходит наиболее полный учет матричного эффекта. Затем дополнительный поглотитель рассчитанной поверхностной плотности помещают между анализируемой пробой и детектором и регистрируют интенсивность характеристической линии определяемого элемента в прямом измерении и интенсивность рассеянного пробой первичного излучения, прошедшего через дополнительный поглотитель. Концентрацию определяемого элемента в анализируемой пробе рассчитывают по аналитическому сигналу, представляющему собой отношение вышеуказанных интенсивностей. Техническим результатом изобретения является повышенная точность измерений. 3 ил.

Таблицыр

Формула изобретения

Способ определения концентрации элемента в веществе сложного химического состава, включающий облучение пробы анализируемого вещества гамма- или рентгеновским излучением, отличающийся тем, что предварительно регистрируют интенсивности характеристической линии определяемого элемента и интенсивности некогерентно рассеянного пробой первичного излучения в прямом измерении, затем по значениям измеренных интенсивностей определяют оптимальное значение поверхностной плотности дополнительного поглотителя из анализируемого вещества, при котором происходит максимальный учет матричного эффекта по выражению

где Is - интенсивность некогерентно рассеянного пробой первичного излучения в прямом измерении;

Ii - интенсивность анализируемой линии определяемого элемента в прямом измерении;

Кi, Кs - коэффициенты пропорциональности, не зависящие от химического состава пробы;

М0a - массовый коэффициент поглощения первичного излучения в анализируемом элементе;

Е0 и Еi - энергии первичного и характеристического излучения;

- угол между пучком первичного излучения и поверхностью пробы;

- угол между поверхностью пробы и вторичным излучением (включающим характеристическое и рассеянное), испускаемым веществом пробы в направлении детектора;

Sk - скачок поглощения для анализируемой линии,

затем регистрируют интенсивности характеристической линии определяемого элемента в прямом измерении и некогерентно рассеянного пробой первичного излучения, прошедшего через поглотитель оптимальной поверхностной плотности, а содержание концентрации элемента устанавливают по отношению указанных интенсивностей.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7, Рисунок 8, Рисунок 9



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области спектрометрических измерений состава веществ

Изобретение относится к трансмиссионной вычислительной томографии, а именно к способам восстановления структур отдельных слоев объекта контроля по набору многоракурсных проекций каждого исследуемого слоя
Изобретение относится к измерительной технике, предназначено для измерения концентрации солей в нефти

Изобретение относится к области неразрушающего контроля материалов и изделий, а именно к устройствам рентгеновской и изотопной дефектоскопии объектов, находящихся в труднодоступных полостях

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для контроля толщины лент, полотен и т.п

Изобретение относится к области исследования химических и физических свойств веществ, в частности, при проведении рентгеноспектрального анализа руд после их кислотного разложения и экстракции определяемых элементов

Изобретение относится к рентгеновским поляризационным спектрометрам (РПС) для рентгенофлуоресцентного анализа веществ

Изобретение относится к области рентгеноспектрального анализа сырьевых и других материалов и может быть использовано для определения количественного состава материалов и контроля их качества, в том числе для определения незначительных количеств примесных элементов, в условиях промышленных и научных лабораторий

Изобретение относится к области аналитической химии, в частности к рентгеноспектральным методам анализа элементного состава вещества, и может быть использовано для определения количественного содержания элементов с порядковым номером более 25 (Мn и более тяжелых элементов) при анализе в аналитических лабораториях с использованием рентгеновских спектрометров материалов сложного химического состава (одноэлементных и комплексных руд, продуктов их переработки, порошков, сплавов, пульп, растворов), а также при контроле непрерывных технологических процессов на предприятиях металлургической, химической промышленности, а также при геолого-разведочных работах

Изобретение относится к области химического и биологического анализа и может быть использовано для создания высокочувствительных аналитических приборов для качественного и количественного анализа водных и органических растворов, а именно природных вод и техногенных растворов, содержащих низкие концентрации определяемых неорганических и органических компонентов, а также растворов, содержащих биологически активные соединения

Изобретение относится к области контроля процессов обогащения и гидрометаллургии и может быть использовано для определения состава вещества и его плотности, в частности к устройствам для рентгенофлуоресцентного анализа состава пульп, растворов, промывочных кислот и т.п

Изобретение относится к области аналитической химии, в частности к способам анализа гетеробиметаллических соединений
Наверх