Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления



Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления
Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления
Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления
Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления
Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления
Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления

 


Владельцы патента RU 2519872:

ОАО "Научно-производственное предприятие космического приборостроения "КВАНТ" (ОАО "НППКП "КВАНТ") (RU)

Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и предназначено для нанесения фотолитографического рисунка на рабочую поверхность цилиндрических диафрагм оптико-механического блока в сканирующем устройстве для выработки кодового сигнала управления ориентацией по Солнцу космических аппаратов. Способ и устройство для реализации способа включает этапы нанесения хромового покрытия на подложку, имеющую заданный радиус кривизны R, из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника УФ-излучения.

Технический результат - обеспечение возможности равномерного нанесения слоя фоторезиста на рабочую поверхность подложки из оптического стекла с заданным радиусом кривизны, обеспечение точного совмещения и фиксации рабочей поверхности, полученной после нанесения фоторезиста заготовки оптической детали с последующей равномерной засветкой слоя фоторезиста источником УФ-излучения. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 ил.

 

Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали и приспособление для контактного экспонирования изображения для его осуществления.

Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и предназначено для нанесения фотолитографического рисунка на рабочую поверхность цилиндрических диафрагм оптико-механического блока в сканирующем устройстве для выработки кодового сигнала управления ориентацией по Солнцу космических аппаратов (КА).

Узел диафрагмы вращается вокруг оси прибора, который ориентирован по Солнцу. При прохождении излучения через прозрачный рисунок диафрагмы на фотоприемном устройстве формируется кодовый управляющий сигнал, который служит для точной ориентации КА.

В оптико-электронной промышленности широко используются оптические детали в виде сеток, шкал и масок с прозрачными и непрозрачными рисунками. На поверхность оптических деталей наносится рисунок методом фотолитографии. Такого рода оптические детали используются в качестве модуляторов светового потока, сеток в плоскости изображения, выполняют другие функции. Современная оптическая фотолитография ориентирована исключительно на изготовление оптических деталей с плоской рабочей поверхностью. Современные устройства, такие как система безмасковой лазерной фотолитографии DWL-66FS (Heidelberg, Germany), в режиме 3D могут реализовать только незначительный рельеф, но никак не поверхность с большим параметром кривизны.

Высокие требования к оптическим деталям (сеткам, шкалам и лимбам и др.) по разрешающей способности, прочности, радиационной и коррозионной стойкости и оптическим характеристикам в связи с их использованием в разных климатических условиях - в вакууме, космосе и т.д. способствовали разработке способов их изготовления, основанных на применении метода фотолитографии. В качестве металла, формирующего изображение сетки, миры или шкалы чаще всего используются хром и серебро, благодаря их стабильным размерным характеристикам при травлении, которые обычно наносятся на заготовку путем термического испарения в вакууме. Стандартными методами фотолитографии рисунок фотошаблона переносится в рельефообразующий материал (как правило, фоторезист) и производится сухое или жидкостное травление подложки на определенную глубину. Шкалы и сетки изготавливают путем нанесения на подложку светочувствительного слоя, его экспонирования, нанесения металлического рисунка и пленок из оксида титана и оксида кремния. (РТМ 3-520-74. Шкалы и сетки фотографические. Технологический процесс изготовления с применением фоторезисторов к основе диазосоединений/1/.

Согласно известному способу изготовления шкал и сеток (SU 834399, 3 МПК G01D 13/06, опубликовано 30.05.1981) 12/ светочувствительный слой экспонируют УФ-излучением через фотошаблон, изготовленный на кварцевом стекле.

Развитием типовой технологии является способ изготовления прецизионных оптических шкал методом обратной фотолитографии (RU 2370799, МПК G02B 27/00, опубликовано: 20.10.2009) /3/, который включает следующие операции: нанесение слоя хрома на подложку из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение фоторезиста на подложку первую термообработку, экспонирование, проявление, вторую термообработку, подготовку рельефного фотоизображения. Операции способа осуществляются в соответствии с отраслевым стандартом (ОСТ3-6209-86, «Шкалы и сетки фотографические. Типовые технологические процессы получения с применением позитивных фоторезистов на основе диазосоединений») /4/. Нанесение фоторезиста на основе диазосоединений производят на вращающуюся заготовку при помощи стеклянной трубочки, капельницы или шприца (частота вращения центрифуги от 800 до 4000 об/мин, допускаемое отклонение частоты вращения от ±40 об/мин до ±200 об/мин).

Первую термообработку заготовки с нанесенным слоем фоторезиста производят в сушильном шкафу СНОЛ (конвекционный способ) и в установке ИК-сушки УОФ-700. Экспонирование производят с использованием установки контактного копирования ИФ-50М и установки проекционного копирования JuBPM S80, предназначенных для изготовления элементов топологии не менее 5 мкм, и заготовку подвергают излучению ртутно-кварцевой лампы.

Наиболее близким по последовательности операций к заявляемому изобретению является способ изготовления прецизионных оптических шкал методом фотолитографии с запуском (варианты) (RU 2430391 6 МПК G02B 27/32, G03F 7/004) /5/, принимаемый за прототип настоящего изобретения.

Способ-прототип включают следующие технологические операции:

- нанесение хромового покрытия на полированную подложку из оптического стекла методом вакуумного напыления;

- нанесение на рабочую поверхность подложки, размещенной в центрифуге тонкого и однородного слоя позитивного фоторезиста капельной подачей при вращении центрифуги;

- сушку и термообработку полученной заготовки оптической детали до полной полимеризации фоторезиста;

- контактное экспонирование на установке, содержащей средство для фиксации и совмещения стеклянного фотошаблона и плоской поверхности заготовки оптической детали и источник УФ-излучения, предназначенный для засветки слоя фоторезиста, расположенный над поверхностью фотошаблона.

Известный способ фотолитографии использован в производстве круговых оптических шкал на производственном объединении «Уральский оптико-механический завод имени Э.С. Яламова», г.Екатеринбург (Д.Ю.Кручинин, журнал «Практические проблемы производства» поступил в редакцию 29.01.2007) /6/. Промышленно освоено производство широкой номенклатуры прецизионных оптических плоских деталей, изготовленных методом фотолитографии.

Однако описанные выше способы предназначены для нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на плоские подложки из оптического стекла и не позволяют нанести фотолитографический рисунок на фрагмент цилиндрической поверхности оптической детали с заданным радиусом кривизны.

Задачей настоящего изобретения является разработка способа нанесения прецизионного фотолитографического рисунка контактным экспонированием изображения с фотошаблона на цилиндрическую поверхность оптической детали.

Техническим результатом настоящего изобретения является обеспечение возможности равномерного нанесения слоя фоторезиста на рабочую поверхность подложки из оптического стекла с заданным радиусом кривизны, обеспечения точного совмещения и фиксации рабочей поверхности полученной после нанесения фоторезиста заготовки оптической детали с последующей равномерной засветкой слоя фоторезиста источником УФ-излучения.

Указанный технический результат достигается тем, что способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали включает нанесение хромового покрытия на подложку из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника ультрафиолетового излучения.

Согласно изобретению, подложки, имеющие заданный радиус кривизны R, для нанесения на их рабочие поверхности слоя фоторезиста устанавливают симметрично в оправе центрифуги путем совмещения рабочей поверхности каждой подложки с внутренней боковой поверхностью оправы и затем при экспонировании изображения на рабочую поверхность полученной заготовки оптической детали используют фотошаблон, изготовленный из гибкого полимерного материала, которому при изгибании придают форму заготовки, а засветку слоя фоторезиста осуществляют диафрагмированным световым потоком от экранированного источника ультрафиолетового излучения цилиндрической формы, который располагают соосно с рабочей поверхностью заготовки.

В частных случаях осуществления способа:

- фотошаблон изготавливают из полиэтилентерефталата;

- диафрагмирование светового потока осуществляют под углом 120° относительно центральной оси источника УФ-излучения;

- сушку и термообработку заготовки оптической детали проводят в термостате при температуре 90°С в течение 30 мин;

- засветку рабочей поверхности заготовки от источника ультрафиолетового излучения проводят в течение 30 минут при мощности источника 8 Вт.

Для осуществления способа нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали использовано приспособление для контактного экспонирования изображения, включающее средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали и источник УФ-излучения, расположенный над фотошаблоном для засветки фоторезистивного слоя заготовки.

Согласно изобретению, средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали содержит металлический корпус, в верхней части которого выполнен ложемент для размещения на нем заготовки оптической детали с заданным радиусом кривизны, совмещенной и зафиксированной вместе с фотошаблоном из полимерного гибкого материала радиальным прижимом, в котором вдоль его продольной оси выполнено окно для засветки слоя фоторезиста, а в нижней боковой части радиальный прижим снабжен с обеих сторон бобышками с отверстиями для его закрепления с боковыми стенками корпуса, который в верхней части снабжен для фиксации заготовки оптической детали двумя съемными упорами, имеющими винтовые крепления с корпусом, а источник УФ-излучения имеет цилиндрическую форму, снабжен экраном, в котором выполнена по всей его длине диафрагма с апертурой 120° и расположен соосно с ложементом корпуса.

В частных случаях выполнения приспособления:

- источник УФ-излучения закреплен на штативе, установленном на корпусе;

- источник УФ-излучения имеет мощность 8 Вт;

- радиальный прижим выполнен из фторопласта.

Использование гибкого фотошаблона позволяет совместить его при изгибании с цилиндрической рабочей поверхностью подложки и зафиксировать сборку в ложементе корпуса. Размещение двух подложек в оправе центрифуги путем совмещения рабочей поверхности подложки с внутренней поверхностью оправы центрифуги при вращении центрифуги и капельной подачей фоторезиста обеспечивает получение равномерного слоя фоторезиста на рабочей поверхности заготовки оптической детали. Совмещение и фиксация рабочей поверхности заготовки с поверхностью гибкого фотошаблона в ложементе корпуса с использованием радиального прижима и упоров обеспечивает возможность контактного экспонирования изображения с фотошаблона на рабочую поверхность заготовки оптической детали с заданным радиусом кривизны. При этом, так как боковая поверхность фотошаблона опирается на боковую поверхность ложемента, устраняется синусоидальное искажение формы рисунка при контактном экспонировании с фотошаблона на рабочую поверхность заготовки оптической детали. Использование экранированного диафрагмированного под углом 120° источника УФ-излучения цилиндрической формы обеспечивает при засветке слоя фоторезиста равномерность светового потока и исключает боковые засветки слоя фоторезиста, ведущие к параллаксу изображения.

Сущность изобретения поясняется фигурами чертежей

На фиг.1 приведен чертеж развертки гибкого фотошаблона с прозрачной продольной щелью, где а - вид спереди, 6 - вид сверху.

На фиг.2 представлен чертеж стеклянного мастер-шаблона с непрозрачной щелью, предназначенный для изготовления гибкого фотошаблона, где а - вид спереди, б - вид сверху.

На фиг.3 приведен чертеж подложки оптической детали с радиусом кривизны R, где а - вид спереди, б - вид сверху.

На фиг.4 изображена в аксонометрии центрифуга для нанесения слоя фоторезиста на рабочую поверхность заготовки с заданным радиусом кривизны R.

На фиг.5 приведен сборочный чертеж приспособления для экспонирования изображения с фотошаблона на слой фоторезиста заготовки оптической детали с заданным радиусом кривизны R, вид спереди.

Заготовка для фотошаблона (фиг.1) содержит подложку 1, выполненную из полимерного материала, в частности из полиэтилентерефталата, на поверхность которой нанесен фотоэмульсионный слой 2, в котором выполнен прозрачный рисунок 3.

Мастер-шаблон (фиг.2) содержит стеклянную пластину 4, на поверхности которой нанесен слой непрозрачный слой хрома 5, в котором после травления хрома остается негативный непрозрачный рисунок 6.

Подложка 7 оптической детали (фиг.3) выполнена из оптического стекла марки К208ОСТ 3-3677-8, на рабочей полированной поверхности которой имеет непрозрачный слой хрома 8 толщиной 1 мкм, нанесенный вакуумным напылением.

Из стеклянной пластины алмазными кольцевыми сверлами на вертикально-сверлильном станке высверливают подложку заданного радиуса R. На кругло-шлифовальном станке алмазными кругами шлифуют и полируют рабочую поверхность заготовки подложки до шероховатости Rz 0,05, из которой на распиловочном станке алмазным отрезным кругом выпиливают две подложки оптической детали и на рабочую полированную поверхность подложки наносят вакуумным напылением непрозрачный слой хрома толщиной 1 мкм.

Центрифуга (фиг.4) для нанесения капельного фоторезиста на рабочую поверхность подложки с заданным радиусом кривизны R имеет оправу, на внутренней боковой поверхности 9 которой в горизонтальных симметрично расположенных пазах 10, 10а размещены две подложки оптической детали. Глубина пазов 10, 10а обеспечивает совмещение рабочей поверхности каждой подложки с внутренней боковой поверхностью оправы 9. Корпус центрифуги имеет прижимное кольцо 11 для фиксирования подложек.

В приспособлении для контактного экспонирования изображения (фиг.5) средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали содержит металлический корпус 12, в верхней части которого выполнен ложемент 13, на котором установлена заготовка оптической детали 7,8, совмещенная с фотошаблоном 2, выполненным из полимерного гибкого материала с помощью радиального прижима 14, в котором вдоль его продольной оси выполнено окно 21 (фиг.6) для засветки слоя фоторезиста на рабочей поверхности заготовки оптической детали. Радиальный прижим 14 выполнен из фторопласта и снабжен с обеих сторон в центральной части бобышками 15 с отверстиями 16 для его закрепления с боковой стенкой корпуса 12, в котором в верхней части ложемента 13 по краям корпуса 12 имеются съемные упоры 17,18, соединенные с корпусом 12 крепежными элементами (болтами) 19,20. Радиальный прижим 14 выполнен из фторопласта.

Источник УФ-излучения 22 мощность 8 Вт закреплен на штативе на корпусе 12 (на чертеже не показано) соосно с ложементом 13, имеет цилиндрическую форму и снабжен по всей длине экраном 23, в котором выполнена вдоль продольной оси диафрагма 24 с апертурой 120°.

Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали осуществляется следующим образом.

1. На плоскую подложку 1 из гибкого полимерного материала методом фотолитографии с использованием контактного экспонирования на плоскую подложку изображения от мастер-шаблона (фиг.2) наносят рисунок в виде узкой щели 3 шириной 0,25 мм с точностью 3 мкм (фиг.1). Такие размеры рисунка необходимы для модуляции светового потока в готовом приборе.

2. Изготавливают подложки (диафрагмы) 7 из оптического стекла с заданным радиусом кривизны R и полируют рабочие поверхности подложек до шероховатости 0,03 мкм.

3. На рабочую поверхность подложки 7 вакуумным напылением наносят непрозрачный слой хрома 8, толщиной 1 мкм (фиг.3).

4. На поверхность слоя хрома 8 капельным методом в центрифуге (фиг.4) наносят при вращении на каждую из двух размещенных в пазах 10, 10а на боковой поверхности оправы центрифуги подложек оптической детали равномерный слой позитивного фоторезиста ПФ - 0,5, толщиной 1 мкм, которую контролируют визуально по равномерности интерференционной окраски в соответствии с отраслевым стандартом (ОСТ3-253783. Детали оптические, просветленные двухслойными и трехслойными покрытиями из растворов. Технические требования и методы контроля) /7/.

5. Полученные заготовки подвергают сушке и термообработке в термостате при температуре 90°С в течение 30 минут.

6. Заготовку оптической детали совмещают с гибким фотошаблоном 2 путем его изгибания, и помещают на ложемент 13 приспособления, и фиксируют прижимом 14 (фиг.5), закрепляя его к корпусу 12 винтами в крепежных отверстиях 16 в бобышках 15 для контактного экспонирования изображения с фотошаблона 2 через окно 15 в радиальном прижиме 14 (фиг.6). При этом, так как боковая поверхность фотошаблона 2 опирается на боковую поверхность ложемента 13, устраняется синусоидальное искажение формы рисунка при контактном экспонировании с фотошаблона 2 на рабочую поверхность заготовки оптической детали.

7. Засветку слоя фоторезиста на рабочей поверхности заготовки оптической детали осуществляют от источника УФ-излучения 22 для обеспечения одинаковых условий экспонирования направленным перпендикулярно равномерным световым потоком, прошедшим через диафрагму 24 с апертурой 120°, выполненную в экране 23.

Далее проводят стандартными методами, принятыми в фотолитографии следующие операции.

8. Проявление рисунка.

9. Контроль проявленного рисунка.

10. Ретушь проявленного рисунка, укрытие пробоев фоторезиста.

11. Травление слоя хрома 8 осуществляют в соответствии со стандартными операциями, не допуская перетравов на отдельных участках рисунка.

12. Контроль качества фотолитографического рисунка проводят под микроскопом и при необходимости ретушируют дефекты фоторезистом. Поперечное смещение рисунка гибкого фотошаблона не должно превышать 2-3 мкм и лежать в плоскости, образованной границей рисунка в пространстве.

Точность фотолитографического рисунка обеспечивается точностью исходного рисунка, полученного с мастер-шаблона (фиг.2), точностью базирования фотошаблона 2 в ложементе 13 и привязкой края фотошаблона 2 к рисунку на фотошаблоне.

Заявляемый способ обеспечивает разнотолщинность рисунка на рабочей поверхности оптической детали не более 0,003 и отклонение границ рисунка щели от плоскостей, в которых они расположены не более 0,003 для каждой границы. Изготовлены опытные образцы оптико-механического блока изделия, в котором сканирующее кодирующее устройство выполнено из цилиндрических оптических деталей с фотолитографическим рисунком, полученным заявляемым способом и устройством для его осуществления.

Источники информации

1.РТМ 3-520-74. Шкалы и сетки фотографические. Технологический процесс изготовления с применением фоторезисторов к основе диазосоединений.

2. SU 834399, МПК3 G01D 13/06, опубликовано 30.05.1981.

3. RU 2370799, МПК G02B 27/00, опубликовано: 20.10.2009.

4. ОСТ3-6209-86, «Шкалы и сетки фотографические. Типовые технологические процессы получения с применением позитивных фоторезистов на основе диазосоединений».

5. RU 2430391, МПК6 G02B 27/32, G03F 7/004 - прототип.

6. Фотолитография в производстве круговых оптических шкал на Уральском оптико-механическом заводе, г. Екатеринбург. Д.Ю.Кручинин, журнал «Практические проблемы производства», поступила в редакцию 29.01.2007.

7. ОСТ3-253783. Детали оптические, просветленные двухслойными и трехслойными покрытиями из растворов. Технические требования и методы контроля.

1. Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали, включающий нанесение хромового покрытия на подложку из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника ультрафиолетового излучения до полной полимеризации слоя фоторезиста, отличающийся тем, что подложки, имеющие заданный радиус кривизны устанавливают симметрично в оправе центрифуги путем совмещения рабочей поверхности каждой подложки с внутренней боковой поверхностью оправы и при экспонировании изображения на рабочую поверхность полученной заготовки оптической детали используют фотошаблон, изготовленный из гибкого полимерного материала, которому при изгибании придают форму заготовки, а засветку слоя фоторезиста осуществляют диафрагмированным световым потоком от экранированного источника ультрафиолетового излучения цилиндрической формы, который располагают соосно с рабочей поверхностью заготовки.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что фотошаблон изготавливают из полиэтилентерефталата.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что диафрагмирование светового потока осуществляют под углом 120° относительно центральной оси источника УФ-излучения.

4. Способ по п.1, отличающийся тем, что сушку и термообработку заготовки оптической детали проводят в термостате при температуре 90°С в течение 30 мин.

5. Способ по п.1, отличающийся тем, что засветку рабочей поверхности заготовки от источника ультрафиолетового излучения проводят в течение 30 минут при мощности источника 8 Вт.

6. Приспособление для контактного экспонирования изображения для осуществления способа по п.1, включающее средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали и источник УФ-излучения, расположенный над фотошаблоном для засветки фоторезистивного слоя заготовки, отличающийся тем, что средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали содержит металлический корпус, в верхней части которого выполнен ложемент для размещения на нем заготовки оптической детали с заданным радиусом кривизны, совмещенной и зафиксированной вместе с фотошаблоном из полимерного гибкого материала радиальным прижимом, в котором вдоль его продольной оси выполнено окно для засветки слоя фоторезиста, а в нижней боковой части радиальный прижим снабжен с обеих сторон бобышками с отверстиями для его закрепления с боковыми стенками корпуса, который в верхней части снабжен для фиксации заготовки оптической детали двумя съемными упорами, имеющими винтовые крепления с корпусом, а источник УФ-излучения имеет цилиндрическую форму, снабжен экраном, в котором выполнена по всей его длине диафрагма с апертурой 120° и расположен соосно с ложементом корпуса.

7. Приспособление по п.6, отличающееся тем, что источник УФ-излучения закреплен на штативе, установленном на корпусе.

8. Приспособление по п.6 или 7, отличающееся тем, что источник УФ-излучения имеет мощность 8 Вт.

9. Приспособление по п.6, отличающееся тем, что радиальный прижим выполнен из фторопласта.



 

Похожие патенты:

Настоящее изобретение относится к полиуретановому составу для получения голографических сред. Данный состав включает: A) полиизоцианатный компонент; B) изоцианат-реакционно-способный компонент, включающий, по меньшей мере, 50 вес.% в расчете на общую смесь B) полиэфирполиолов В1) со среднечисленными молекулярными весами больше 1000 г/моль, которые имеют показатель преломления nD 20<1,55 и содержат одно или несколько оксиалкильных звеньев формул (I)-(III): -СН2-СН2-О- (I) -CH2-CH(R)-O- (II) -СН2-СН2-СН2О- (III), при этом R является алкильным или арильным остатком, который может быть замещен или прерван гетероатомами; C) соединения, которые имеют показатель преломления nD 20>1,55 и содержат группы, реагирующие при действии актиничного излучения с этилен-ненасыщенными соединениями с полимеризацией (отверждаемые излучением группы), и сами не содержат NCO-групп; D) стабилизаторы радикалов; E) фотоинициаторы; F) при необходимости катализаторы; G) при необходимости вспомогательные вещества и добавки.

Изобретение относится к способу формирования рисунка электронного или фотонного материала на подложке, применению фторполимера в приготовлении снабженного рисунком электронного или фотонного материала на подложке, способу изготовления электронного прибора на подложке, а также к электронному или фотонному прибору.

Настоящее изобретение относится к фотополимерной композиции для изготовления голографических сред, включающей трехмерно-сшитые органические полимеры A) или их предшественники в качестве матрицы, а также соединения B), содержащие группы, которые при действии актиничного излучения реагируют с ненасыщенными соединениями с этиленовыми фрагментами с образованием полимеров (радиационно-отверждаемые группы), и которые растворены в этой матрице или находятся в ней в распределенном состоянии, а также компонент C), представляющий собой, по меньшей мере, один фотоинициатор, при этом плотность полимерной сшивки органического полимера, выраженная через среднюю молекулярную массу MC двух сегментов, соединенных полимерными мостиками, составляет величину от 2685 г/моль до 55000 г/моль.

Настоящее изобретение относится к полиуретановой композиции для изготовления голографических сред. Композиция содержит: (A) полиизоцианатный компонент, содержащий по меньшей мере один полиуретановый форполимер с терминальными NCO-группами исключительно на основе олигомерных или полимерных дифункциональных соединений, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, со среднечисленными молекулярными массами от 200 до 10000 г/моль, у которого NCO-группы являются связанными с первичными остатками, (B) полимеры, реакционноспособные по отношению к изоцианатам, (C) соединения, содержащие группы, которые при действии актиничного излучения реагируют с этиленненасыщенными соединениями с полимеризацией (радиационно отверждаемые группы), а сами не содержат NCO-групп, (D) стабилизаторы радикалов и (Е) фотоинициаторы, причем соединения, используемые в компоненте С), имеют показатель преломления nD 20>1,55.

Настоящее изобретение относится к полиуретановому составу для получения голографических сред. Данный состав включает: A) полиизоцианатный компонент; B) изоцианатреакционноспособный компонент, включающий гидроксифункциональные мультиблочные сополимеры В1) типа Y(Xi-Н)n с i=от 1 до 10 и n=от 2 до 8 и среднечисленными молекулярными весами более 1000 г/моль, при этом сегменты Xi построены соответственно из алкиленоксидных звеньев формулы (I): -CH2-CH(R)-O- формула (I), при этом R представляет собой водород, алкильный или арильный остаток, который может быть замещен или прерван гетероатомом (например, эфирными кислородами), Y лежащий в основе стартер и доля сегментов Хi относительно общего количества сегментов Xi и Y составляет, по меньшей мере, 50 вес.%; C) соединения, которые имеют показатель преломления nD 20>1,55 и содержат группы, реагирующие при действии актиничного излучения с этилен-ненасыщенными соединениями с полимеризацией (отверждаемые излучением группы) и сами не содержат NСО-групп; D) стабилизаторы радикалов; Е) фотоинициаторы; F) при необходимости, катализаторы; G) при необходимости, вспомогательные вещества и добавки.

Изобретение относится к способу изготовления многослойной металлической структуры с помощью ультрафиолетовой литографии и гальванического осаждения. Согласно способу проводящую поверхность подложки покрывают первым слоем фоточувствительной смолы и обрабатывают с помощью излучения через маску, которая согласуется с требуемой фасонной выемкой.

Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости.

Изобретение относится к области радиационной физики и химии полимеров и может быть использовано в электронно-лучевой литографии, дифракционной оптике, в области создания метаматериалов и ряде других областей техники.
Изобретение относится к области микроэлектроники, а точнее к способам изготовления фотошаблонов для контактной фотолитографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами, и может быть использовано при изготовлении фотошаблонов для технологии изготовления акустоэлектронных устройств на поверхностных и объемных акустических волнах.

Изобретение относится к LIGA-технологии, а точнее к конструкции и способу изготовления рентгенолитографических шаблонов, включая переходные рентгеношаблоны и LIGA-шаблоны (ЛИГА-шаблоны), имеющих периодическую сеточную структуру, которые могут быть использованы для получения, в частности, широко известных металлических сеточных структур (МСС), применяемых для частотной и пространственной селекции электромагнитного излучения.

Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, пригодной для получения различных микроустройств для микроэлектромеханических систем и других систем, а также к способу получения структуры и к головке для подачи жидкости. Полимерная композиция содержит следующие компоненты: (a) эпоксидную смолу, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; (b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2), и (d) одно из дифенильного, нафталенового и антраценового соединений, содержащих один из следующих заместителей: Компонент (b) поглощает, по меньшей мере, 50% количества света с длиной волны 365 нм, поглощенного светочувствительной полимерной композицией. Способ получения структуры заключается в том, что берут субстрат, содержащий слой вышеуказанной светочувствительной полимерной композиции и облучают слой светом. Далее отверждают облученную часть и удаляют неотвержденную часть. Затем нагревают отвержденную часть при температуре, по меньшей мере, 140 градусов Цельсия для получения структуры. Головка для подачи жидкости содержит элемент отверстия для подачи, содержащий отверстие для подачи, сконструированное для подачи жидкости. Элемент отверстия для подачи получают из продукта отверждения вышеуказанной светочувствительной полимерной композиции. Изобретение позволяет получить структуру с высокой чувствительностью и высокой правильностью формы. 3 н. и 6 з.п. ф-лы, 9 ил., 4 табл., 9 пр.

Изобретение относится к области нанотехнологии, описывает способ электрохимического структурирования поверхности материалов и может быть использовано при изготовлении элементов микроэлектроники, однослойных и многослойных печатных плат, оптических элементов, а также других тонкопленочных структур. Сущность изобретения заключается в проведении гальванической обработки материала при одновременном облучении поверхности рабочего электрода рентгеновским излучением. Технический результат - возможность локального (с точностью до 10 нм) ускорения/замедления процессов, протекающих на интерфейсе электрод/электролит. 8 з.п. ф-лы, 5 ил.

Настоящее изобретение относится к полиуретановому составу для получения голографических сред, включающему: (A) полиизоцианатную компоненту, содержащую по крайней мере один полиуретановый форполимер с концевой изоцианатной группой с функциональностью по изоцианатным группам от 1,9 до 5,0, у которого изоцианатная группа связана с первичным алифатическим остатком и который основан на соединениях с гидроксильными функциональными группами с функциональностью по гидроксильным группам от 1,6 до 2,05, (Б) реагирующие с изоцианатами простые полиэфирные полиолы, (B) уретановые акрилаты и/или уретановые метакрилаты с по меньшей мере одной ароматической структурной единицей и с коэффициентом преломления более 1,50 при 405 нм, которые свободны от изоцианатных групп и гидроксильных групп, (Г) радикальные стабилизаторы, (Д) фотоинициаторы на основе сочетаний боратных солей и одного или нескольких красителей с полосами поглощения, которые по крайней мере частично покрывают область спектра от 400 до 800 нм, (Е) в случае необходимости катализаторы и (Ж) в случае необходимости вспомогательные вещества и добавки. Также описаны способ получения сред для записи визуальных голограмм, среда для записи визуальных голограмм, применение среды и способ записи голограммы. Технический результат - разработка полиуретановых составов для получения голографических сред, обладающих высоким качеством поверхности, хорошими технологическими показателями и хорошей контрастностью в отношении показателя преломления. 5 н. и 9 з.п. ф-лы, 2 ил., 4 пр.

Изобретение относится к светочувствительным негативным полимерным композициям, подходящим для образования тонкой структуры фотолитографическим способом. Предложена светочувствительная негативная полимерная композиция, содержащая (a) содержащее эпоксидные группы соединение, (b) первую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2), и (c) вторую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (c1), и структуру анионной части, представленную формулой (c2). Предложены также полученная из указанной композиции тонкая структура и способ ее получения, а также жидкостная эжекторная головка, в которой использована упомянутая тонкая структура. Технический результат - предложенная композиция обеспечивает меньшую изменчивость и превосходную воспроизводимость трехмерной формы при использовании фотолитографического процесса. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл., 12 пр.

Изобретение относится к носителям информации. Предложен носитель информации, последовательно включающий в себя подложку, выбранную из покрытой полимером бумаги, синтетической бумаги и пластмассовых пленок, первый краскоприемный слой и второй краскоприемный слой, причем первый краскоприемный слой содержит по меньшей мере одно вещество, выбранное из оксида алюминия, гидрата оксида алюминия и высокодисперсного диоксида кремния, поливиниловый спирт и борную кислоту, причем массовое соотношение содержания борной кислоты и поливинилового спирта в первом краскоприемном слое составляет 2,0% масс. или более и 7,0% масс. или менее, причем второй краскоприемный слой содержит высокодисперсный диоксид кремния, поливиниловый спирт и борную кислоту, и массовое соотношение содержания борной кислоты и поливинилового спирта во втором краскоприемном слое составляет 10,0% масс. или более и 30,0% масс. или менее. Технический результат - предложенный носитель позволяет предотвратить растрескивание после нанесения краскоприемных слоев, обладает высокой способностью абсорбировать краску и сопротивлением растрескиванию при сгибании. 5 з.п. ф-лы, 4 табл., 68 пр.

Изобретение относится к области оптического приборостроения и касается способа записи изображений. Способ включает в себя формирование на подложке светочувствительного слоя из наноалмазной пленки и облучение наноалмазной пленки сфокусированным излучением лазера по заданной программе с целью получения нужного изображения. Изображение на наноалмазной пленке возникает за счет почернения облученных участков пленки в результате превращения наноалмазных частиц в аморфный углерод в поле сфокусированного излучения лазера. Технический результат заключается в упрощении способа записи и уменьшении энергозатрат. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к области радиоэлектроники и касается способа формирования канала для передачи оптического сигнала между электронными модулями на одной печатной плате. Способ заключается в том, что берут заготовку, в состав которой входит прозрачный полимер, над соответствующим местом заготовки располагают фоторезист и воздействуют на него штампом. Через прозрачную маску штампа осуществляют экспозицию УФ-излучением и покрывают внешнюю поверхность оптического тракта из отвердевшего фоторезиста светоотражающим металлическим слоем путем напыления. Технический результат заключается в упрощении способа формировании канала и улучшении эксплуатационных характеристик изделий. 5 ил.
Изобретение относится к области микролитографии. Рисунок преобразуют в растр в цифровой форме и записывают информацию об амплитуде и фазе, характеризующих каждую точку растра. Рассчитывают необходимые параметры элементов голограммы, для чего переводят элементы цифрового растра изображения рисунка в цифровой растр будущей голограммы. В каждой точке будущей голограммы рассчитывают картину дифракции. Рассчитывают интерференционную картину, полученную от взаимодействия расчетной картины дифракции с расчетным волновым фронтом от виртуального опорного источника излучения. Определяют функцию пропускания голограммы и выделяют в ней области, которые после бинаризации дадут прозрачные элементы недопустимо малого размера, физически не пропускающие свет, после чего изменяют функцию пропускания, обеспечивая увеличение размера этих элементов. Полученный результат используют для формирования дифракционной структуры голограммы на носителе и создают голограмму в виде набора прозрачных дискретных элементов в непрозрачном слое, нанесенном на прозрачную подложку. Проводят оптическую коррекцию увеличенных элементов, обеспечивающую пропускание этими увеличенными элементами количества света в соответствии с первичной функцией пропускания. Коррекцию осуществляют путем размещения на непрозрачном слое слоя поглощающего вещества с известным коэффициентом поглощения для восстанавливающего изображения излучения, а области над неувеличенными элементами выполняют в нем прозрачными. Технический результат - получение рисунка с высокими технологическими параметрами, повышение контраста получаемого рисунка и снижение уровня шума. 12 з.п. ф-лы.

Использование: для изготовления рельефных поверхностей. Сущность изобретения заключается в том, что фотолитографический интерференционный способ включает в себя формирование трех когерентных пучков света и получение их двумерно-периодической картины интерференции, первые два когерентных пучка формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, интенсивность первых двух пучков одинаковая, а интенсивность третьего пучка в два раза больше, чем интенсивность первого пучка. Технический результат: обеспечение возможности получения бездефектных наноразмерных двумерно-периодических структур. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к области литографии и касается опорной структуры подложки. Прижатие подложки к поверхности опорной структуры осуществляется посредством капиллярного слоя жидкости. Поверхность опорной структуры имеет внешнюю кромку и включает в себя опорные элементы, предназначенные для приема прижимаемой подложки в нескольких опорных местоположениях. Опорная структура подложки дополнительно включает в себя герметизирующую структуру, которая ограничивает поверхность и имеет кромку, образующую герметизирующий обод. Расстояние между внешней кромкой поверхности и самым внешним из опорных местоположений является большим, чем расстояние между внешней кромкой поверхности и герметизирующим ободом. Расстояние между герметизирующим ободом и самым внешним местоположением опоры больше, чем максимальное расстояние между соседними опорными местоположениями. Технический результат заключается в увеличении прижимного усилия, уменьшении загрязнения вакуумной среды и увеличении срока службы устройства. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 30 ил.
Наверх