Способ матирования поверхности кварца

 

263045

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

CONs Соевтских

Сониолиоуичвоких

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 22Л11.1968 (М 1226971/26-25) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 04.11.1970. Бюллетень № 7

Кл. 21@, 11/02

МПК, Н Oll

УДК 535.561 (088.8) Комитет оо делам изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

Да уа опубликозания описания 9Л I.! 970

1 б к, Н. Т. Васина, Б. Е. Раснецова и Г. Я. Колмакова .-,;, у с; ь,. 1

Авторы изобретения

Заявитель ьйЬ. ;.," :

СПОСОБ МАТИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ КВАРЦА

Изобретение относится к способам обработки поверхности кварца, используемого в радиоэлектронной промышленности при изготовлении пленочных фотоэлектрических лучеприемников.

Кварц матируют с целью получения широкоразвитой поверхности для увеличения прочности сцепления с подложкой контактного металлического покрытия.

Матирование поверхности кварца производят путем пескоструйной обработки, при этом на м атиров анной поверхности образуются микротрещины, и большое количество пластин бракуется вследствие сквозного пробоя. Процесс обработки трудно регулируется, нетехнологичен и вреден для здоровья.

Стекла типа С-90-1 по составу матируются химическим путем при помощи плавиковой кислоты и щелочно-фтористых солей.

Однако растворы, рекомендуемые для матирования стекла, непригодны для матирования кварца, ввиду неравномерности, точечности матирования и наличия большого числа непроматированных участков.

Целью изобретения является получение стабильной равномерно матированной по всему полю поверхности с определенным классом чистоты, исключение образования микротрещин на матированной .юверхности кварца, устранение микрошумов и повышение порога чувствительности пленочных фотоэлектрических лучеприемников, увеличение выхода годных изделий.

Сущность изобретения заключается в обработке подлежащей матированию поверхности кварца в смеси двух насыщенных растворов следующих составов:

1-й раствор фторид калия 160 †1 г

1о азотная кислота 70% -ная 100 мл

2-й раствор фторид аммония 120 г азотная кислота 70%-ная 100 ил

Раствор для матирования поверхности квар15 ца приготовляют путем смешения насыщенных растворов в соотношении 1: 1,2. Оптимальное время травления и число обработок определяются в каждом случае в зависимости от требуемого класса чистоты. Лучшие результаты дает двухразовая обработка по 10 мин с промежуточной промывкой и сушкой, Описываемый способ матирования полированной поверхности кварца (14-го класса чистоты) обеспечивает стабильное, равномерное по всей площади получепие матированной поверхности 8 — 10-го классов чистоты.

Предмет изобретения

Способ матирования поверхности кварца

30 путем химической обработки, отличающийся

263045

Составитель А. С. Томсон

Редактор Т. 3. Орловская Тсхрсд Л. В. Куклина Корректор А. А. Березуева

Заказ 1313, 1 Тираж 50п Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 тем, что, с целью повышения равномерности матирования поверхности пластин, матирование производят в смеси насыщенных растворов фторида калия в азотной кислоте и фторида аммония в азотной кислоте, взятых в соотношении 1: 1,2.

Способ матирования поверхности кварца Способ матирования поверхности кварца 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области полупроводникового материаловедения, преимущественно к технологии обработки теллурида кадмия и ртути, и может быть использовано в полупроводниковой технике

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов на основе CdHgTe, в частности к улучшению параметров приборов, их однородности по пластине и стабильности во времени и может найти применение для создания матриц, например, n-p-переходов или других полупроводниковых приборов

Изобретение относится к твердотельной электронике и может быть использовано для предэпитаксиальной обработки подложек из дифторида бария BaF2 при изготовлении фотоприемных устройств
Изобретение относится к полупроводниковой технике, а именно к технологии химической обработки и пассивации поверхности полупроводников, и может быть использовано при изготовлении фотоприемников ИК-диапазона на основе твердых растворов

 // 415897
Наверх