Состав для изготовления активного слоя порогового элемента

 

00 425245

О П И С А Н И Е

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз СоветскиХ

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт, свидетельства (22) Заявлено 23.08.72 (2) ) 1821493/26-9 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 25.04.74. Бюллетень № 15

Дата опубликования описания 24.09.74 (51) М. Кл. Н Oll 7/62

Государствениый комитет

Совета Мииистрав СССР пе делам изооретеиий и открытий (53) УДК 542.91:658.56;

:621.315.592.2 (088.8) (72) Авторы изобретения ст =.;... -;--: -!.", « Й3

В. П, Котенко, С. А. Кутолин, В. Л. Шурман, E. Н. Заливина и Г. Г. Верходанова (71) Заявитель (54) СОСТАВ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АКТИВНОГО СЛОЯ

ПОРОГОВОГО ЭЛ ЕМЕНТА

80 — 98,5

1,5 — 20 пятиокись ванадия бор

Изобретение относится к электронной технике и может применяться при изготовлении пороговых элементов.

Известны составы, применяемые для изготовления активного слоя порогового элемента, — полупроводниковые окислы (аморфные, поликристаллические) .

Однако известные составы характеризуются значительным общим временем переключения пороговых элементов (10 — — 5. 10 — сек), нестабильностью порогового напряжения элементов во времени, малым соотношением сопротивлений порогового элемента в закрытом

1 и открытом состояниях (" Р =2.10 — 2.102

k откр нестабильностью порогового напряжения во времени (старение) активного слоя, малым рабочим током элементов в открытом состоянии (0,3 — 1 ма).

Целью изобретения является увеличение соотношения сопротивлений порогового элемента в закрытом и открытом состояниях, уменьшение общего времени его переключения, увеличение рабочего тока и повышение стабильности порогового напряжения во времени.

Для этого состав дополнительно содержит бор, а в качестве полупроводникового окисла использована пятиокись ванадия при следующем соотношении компонентов, вес. %:

Изобретение позволяет увеличить соотношение сопротивлений порогового элемента в заKPbITOM H OTKPbITOM COCTOIIHHHX gO 10, уменьшить общее время переключения элемента до 10 — — 10 — сек, уменьшить нестабильность порогового напряжения до 2%, 10 т. е. до значений, сравнимых с погрешностью измерительной аппаратуры, уменьшить нестабильность порогового напряжения элемента во времени (старение активного слоя) .

15 Предмет изобретения

Состав для изготовления активного слоя порогового элемента, содержащий полупроводниковый окисел, отличающийся тем, что, с

20 целью увеличения соотношения сопротивлений порогового элемента в закрытом и открытом состояниях, уменьшения общего времени его переключения, увеличения рабочего тока и повышения стабильности порогового напряжения

25 во времени, он дополнительно содержит бор, а в качестве полупроводникового окисла использована пятиокись ванадия при следующем соотношении компонентов, в вес. %:

Пятиокись ванадия 80 — 98,5 зю Бор 1,5 — 20

Состав для изготовления активного слоя порогового элемента 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области полупроводникового материаловедения, преимущественно к технологии обработки теллурида кадмия и ртути, и может быть использовано в полупроводниковой технике

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов на основе CdHgTe, в частности к улучшению параметров приборов, их однородности по пластине и стабильности во времени и может найти применение для создания матриц, например, n-p-переходов или других полупроводниковых приборов

Изобретение относится к твердотельной электронике и может быть использовано для предэпитаксиальной обработки подложек из дифторида бария BaF2 при изготовлении фотоприемных устройств
Изобретение относится к полупроводниковой технике, а именно к технологии химической обработки и пассивации поверхности полупроводников, и может быть использовано при изготовлении фотоприемников ИК-диапазона на основе твердых растворов
Наверх