Установка для нанесения покрытий в вакууме v

 

ОПИСАЙИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

3292ИСоюз Советских

Социалистическим

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 21.1Ъ .1970 (¹ 1424860/22-1) .

Ч. Кл. С 23с 13/08 с присоединением заявки №

Приоритет

06иитет ае ювао ивсбретвиий и открытий при Совете Мииистрцв

СССР

УДК 621.793.14.002,52 (088.8) Опубликовано 0911.1972. Бюллетень ¹ 7

Дата опубликования описания б.IV.1972

Авторы изобретения А. А. Акберов, В. М. Вайнштейн, Е. А. Жуковская, И. М.-А. Мусаев, Р. Х. Сайфуллин, И. С. Смышляев, Н. Х. Фахрутдинов, Д. И. Черников и И. М. Чистополов

Заявитель

УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИИ В ВАКУУМЕ

15 Предмет изобретения

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.

Известна установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая камеру, внутри которой расположены источник распыляемого металла и вращающийся держатель подложек. Однако в этой установке не полностью используется рабочий объем камеры.

Целью данного изобретения является создаяие такой установки, в которой был бы повышен коэффициент рабочего объема камеры. Эта цель достигается тем, что камера выполнена в виде тороида с неоткачиваемой внутренней полостью.

На чертеже представлена описываемая установка, общий вид.

Установка содержит камеру 1 в виде тороида, внутри которой расположены источник 2 распыляемого металла и вращающийся держатель 8 подложек. Герметизация камеры обеспечивается крышкой 4, которая передвигается совместно с тележкой б; герметизация вращающегося вала — манжетным уплотнителем. Держатель подложек вращается отэлектродвпгателя 6 через шкнвную передачу 7 и червячный редуктор 8.

Источник распыляемого металла расположен на внутренней стенке камеры и изолирован с помощью изоляторов 9. Подвод тока к источнику распыляемого металла осуществляется через герметичный электрический ввод

10. В процессе нанесения покрытия на подложку 11, закрепленную в держателе, элект10 родвигатель передает вращение через шкивную передачу и червячный редуктор держателю подложек, что обеспечивает равномерное покрытие.

Установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая камеру, внутри которой расположены источник распылчемого металла и

20 вращающийся держатель подложек, отличаюитийся тем, что,! с целью повышения коэффициента рабочего объема камеры, последняя выполнена в виде тороида с неоткачиваемой внутренней полостью., 329251

Корректор И. Штатов»

Редактор Л. Жаворонкова

Заказ 858/16 Изд. М 239 Тираж 448 Подписное

Ц11ИИПИ Кол<итста по деда<и изобретений ii открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Рву<нская паб., д. 4/5

Типогра<1<ип, пр. Сап иова, 2

h источиику аугпакил

Составитель И. Резник

Тскрсд 3. TBp<

Установка для нанесения покрытий в вакууме v Установка для нанесения покрытий в вакууме v 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к нанесению тонкопленочных покрытий в вакууме, в частности защитных, износостойких и декоративных покрытий на изделия из различных материалов

Изобретение относится к машиностроению, в частности к нанесению покрытий в вакууме, и может быть использовано при нанесении покрытий на режущий инструмент, изготовленный из сталей, твердых сплавов и керамических материалов

Изобретение относится к микроэлектронике и направлено на обеспечение минимальной неравномерности покрытия подложки тонкой пленкой распыляемого материала

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом ультрадисперсных порошков и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия

Изобретение относится к области получения высокотемпературных материалов, используемых для защиты от окисления и газовой коррозии и в качестве защитных покрытий термонагруженных деталей газовых турбин и двигателей внутреннего сгорания

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для получения толстых пленок металлов при изготовлении, например, разводки коммутационных плат

Изобретение относится к материаловедению, а именно к способам изготовления преимущественно износостойких, прочных и жаропрочных материалов на металлической, металлокерамической или полимерной основе, а также изделий из этих материалов

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к устройствам взрывного испарения с резистивным нагревом для испарения металлов
Наверх