Способ удаления слоев фоторезистов

 

33373I

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Соеетскиз

Социалистическиз

Респуолик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Заявлено 23.VI.1970 (Xo 1456424/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 21.1ll.1972. Бюллетень ¹ 11

Дата опубликования описания 26.IV.1972

М. Кл. Н 05k 3 00

С 23g 1/00

Комитет по делам изооретеиий и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.3.049.7 (088.8) Авторы изобретения

Э. И. Матусевич, В. К. Рець и Д. Г. Дмитраков

Заявитель

СПОСОБ УДАЛЕНИЯ СЛОЕВ ФОТОРЕЗИСТОВ

Изобретение относится к области изготовления различных приборов и схем методом фотолитографии, в частности к удалению слоев фоторезистов.

Известен способ удаления слоев фоторезистов путем травления.

Предложенный способ отличается от известного тем, что слой фоторезиста предварительно нитруют в смеси концентрированных серной и азотной кислот. Это позволяет повысить скорость процесса.

По описываемому способу термообработанные (задубленные) слои фоторезистов предварительно нитруют в смеси, содержащей концентрированные серную и азотную кислоты в соотношении 1: 1, при температуре 50 — 60 С, после чего слой фоторезиста стравливают, например, 5 — 10%-ным водным раствором соды или органическим растворителем, например ацетоном и т. д.

Пример. Для удаления позитивного фоторезиста ФП-383, нанесенного на пленку из тантала и термообработанного при температуре 200 С в течение 40 мин, готовят нитрующую смесь из равных весовых частей концентрированных кислот — серной (уд. вес.

1,84 г/смз) и азотной (уд. вес. 1,41 гlсм ).

Подложку с фоторезистом погружают в указанную смесь и выдерживают в ней до тех пор, пока фоторезист не изменит цвет (коричневый переходит в желтый). Время нитрования 20 — 40 сек.

После нитрования подложку промывают в проточной воде, после чего помещают в 5—

10%-ный водный раствор соды и выдерживают в нем в течение 20 — 60 сек с последую10 щей промывкой в проточной воде.

В случае удаления слоев фоторезистов с малогабаритных подложек удобно готовить нитрующую смесь непосредственно перед удалением фоторезиста, так как в этом случае

15 для осуществления процесса нитрования достаточно тепла, выделяющегося при сливании кислот.

Предмет изобретения

Способ удаления слоев фоторезистов путем травления, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости процесса, слой фоторезиста предварительно нитруют в смеси, содер25 жащей концентрированные серную и азотную кислоты в соотношении 1: 1, при температуре

50 — 60 С.

Способ удаления слоев фоторезистов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электролитическим способам изготовления печатных схем и заключается в избирательном электрохимическом травлении фольгированного диэлектрика при его движении относительно линейного секционного электрод-инструмента

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и их конструкции и может быть использовано в приборостроении, радиоэлектронике и других областях техники

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при формировании структур методом обратной литографии
Изобретение относится к радиоэлектронике
Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано в производстве газоразрядных индикаторных панелей (ГИП)
Изобретение относится к различным областям микроэлектроники и изготовлению печатных плат, в частности к изготовлению многослойных печатных плат

Изобретение относится к электрохимическим способам изготовления печатных плат и может быть использовано также для электрохимического маркирования токопроводящих поверхностей
Изобретение относится к радиоэлектронике и может быть использовано при изготовлении гибких печатных плат, применяемых при изготовлении радиоэлектронной техники
Изобретение относится к радиоэлектронике и может быть использовано при изготовлении печатных плат, применяемых при изготовлении радиоэлектронной техники
Изобретение относится к радиоэлектронике и может быть использовано при изготовлении гибких печатных плат, применяемых при изготовлении радиоэлектронной техники
Наверх