Испаритель для вакуумных установок

 

ОПИС

ИЗОБРЕ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 01.II.1971 (№ 1617708/22-1) М. Кл. С 23с 13, 12 с присоединением заявки №

Приоритет

Гасударственный комитет

Совета Министров СССР ао делам изобретений и открытий

УДК 621.793.14.002.52 (088,8) Опубликовано 17.1Х.1973. Бюллетень ¹ 37

Дата опубликования описания 30.1.1974

Авторы изобретения

Заявитель

Г. Т. Левченко и А. А. Тышко

Киевский ордена Ленина политехнический институт им. 50-летия

Великой Октябрьской социалистической революции

ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК

Предмет изобретения

Изобретение касается нанесения поскрытий в вакууме и |может быть применено .для легирования полупроводниковых .пленок в,процессе их роста.

Известен испаритель для вакуумной уста- 5 новки, содержащий тигель с выходным каналом и излучательный блок. Выходной канал выполнен в виде цилиндра. Недостатком известного испарителя является то, что оп не обеспечивает достаточной интенсивности, на- 10 ,правленности и однородности потока молекул испаряемого вещества.

В предлагаемом испарителе выходной канал тигля выполнен в виде расширяющегося .профилированного сопла 15

На чертеже изображен предлагаемый испаритель.

Испаритель состоит из тигля 1 с выходным каналом 2, выполненным в виде расширяющегося профилированного сопла, излучательного 20 блока 3, в котором ограничителями 4 центрируется верхняя часть тигля. Нижняя часть тигля центрируется на термопаре 5, изолированной от токоподвода 6 керамикой 7. На токоподводе 8 укреплены радиационные экра- 25

:ны 9, 10.

Устройство работает следующим образом.

Испаряемое вещество загружается в тигель

1, который опускается в излучательный блок

3 до упора на термопаре 5. При рабочей температуре поток паров, начиная от минимального сеченпя сопла, сначала интенсивно расширяется, а затем сопло поворачивает поток так, чтобы в выходном сечении он был направлен вдоль оси. Сопло спрофплировано таким образом, что вы-|олняется требование прогрессирующего возрастания скорости теченпя,пара испаряемого вещества вдоль сопла. Экраны 9, 10 снижают радиационные потери.

Испаритель для вакуумных установок„содержащий тигель с выходным каналом и излучательпый блок, отличающийся тем, что, с целью повышения интенсивности, направлен.ности и однородности потока молекул пспаряемого вещества, выходной канаl тигля выполнен в виде расширяющегося профилированно.го сопла. т

397567

6, Составитель Л. Анисимова

Техред Л. Грачева Корректор В. Жолудева

Редактор Л, Ушакова

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ 43/14 Изд. № 31 Тираж 826 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров ОССР по делам изобретений и, открытий

Москва, )K-35, Раушская наб., д. 4!5

Испаритель для вакуумных установок Испаритель для вакуумных установок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх