Способ изготовления растровых фотоформ

 

ОЛИ(АНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (и) 477386

Свез Советских

Социапистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 11.06.73 (21) 1934744/28-12 с присоединением заявки № (32) Приоритет (51) М. Кл. G 03b 27/02

Государственный комитет

Совета Министров СССР об енин Опубликовано 15.07.75. Бюллетень № 26 по делам изобретений (53) УДК 771 318(088 8) и открытий

Дата опубликования описания 16.10.75 (72) Лвторы изобретения

В. В. Иванов, Г. С. Мазо и Н. И. Синяков (7! ) Заявитель

Московский полиграфический институт (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РАСТРОВЪ|Х ФОТОФОРМ

Предмет изобретения

Изобретение относится к технике изготовления растровых фотоформ, например, в полиграфической промышленности для использования в репродукционном процессе.

Известен способ изготовления растровых фотоформ, заключающийся в комплектовке элементов копируемого блока, например, в такой последовательности: трафаретка, корректирующее изображение, основное тоновое изображение, контактный растр и фототехническая пленка, укладка его на рабочую поверхность, создание вакуума между поверхностями блока, экспонирование и последующая фотохимическая обработка. Известный способ характеризуется пятнообразованием уже при линиатурах 40 — 48 лин/см, а прн достаточно распространенных иллюстрационных линиатурах — порядка 54 — 60 лин/см представляет серьезную технологическую трудность. Попытка устранить эффект пятнообразования увеличением степени разрежения, подбором дополнительных эластичных прокладок и прочими малоэффективна.

Для повышения качества получаемых растровых изображений предлагается в процессе комплектовки на поверхностях элементов копируемого блока нейтрализовать электростатические заряды и производить пылеочистку, а укладку блока осуществлять на рабочей поверхности с антистатическим покрытием, Элементы копируемого блока, особенно контактный растр (или первичное растровое изображение) и фототехническую пленку перед комплектовкой в блок подвергают нейтрализации и пылеочнстке. Сам копируемый блок подбирают на рабочей поверхности, характеризующейся полупроводящимп свойствами (например, материал типа полупроводящей резины с удельным объемным сопротивлением

10 106 10т oM M)

Возможно и использование в качестве стола для подборки блоков зеркального стекла контактно-копировального станка с антистатическим покрытием.

15 Полупроводящие материалы нли поверхностный антистатик облегчают условия комплектовки копируемого блока без повторного наведения зарядов в процессе этой операции.

В дальнейшем технологические операции

20 осуществляют известным способом.

25 Способ изготовления растровых фотоформ, заключающийся в комплектовке коппруемого блока, укладке его на рабочую поверхность, создании вакуума между контактирующими поверхностями блока, экспонировании и по30 следующей фотохимической обработке, отл и