Способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали

 

пц 526768

ОП ИСАН И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских,Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 05.07.74 (21) 2044945/28 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 30.08.76. Бюллетень № 32

Дата опубликования описания 02.11.76 (51) М. Кл.з G 01В 11/06

Государственный комитет

Совета Министров СССР (53) УДК 531.717.521 (088.8) по делам изобретений и открытий (72) Авторы изобретения

Л. Б. Кацнельсон и Ш. А. Фурман (71) Заявитель (54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИН СЛОЕВ ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ

ОПТИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ НА ДЕТАЛИ

Изобретение относится к измерительной технике, предназначено для контроля толщин слоев при изготовлении покрытий на оптических деталях и может быть использовано в производстве, занятом изготовлением интерференционных фильтров.

Известен способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия, заключающийся в том, что на деталь посылают световой пучок и фотометрическим прибором определяют экстремальные значения фототока приемника фотометрического прибора.

Однако такой способ контроля не обеспечивает получения хороших спектральных характеристик в области высокого светопропускания, так как невозможно выделить узкий спектральный интервал без применения каки;— либо дополнительных средств.

Наиболее близким по технической сущности к предложенному способу является способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали, заключающийся в том, что на деталь направляют световой поток, выделяют из него монохроматором с дифракционной решеткой заданный спектральный интервал и определяют с помощью фотометра в этом интервале светопропускание детали в процессе нанесения на нее интерференционных слоев.

При фотометрировании всех слоев покрытия необходимо, чтобы выделяемый монохроматором спектральный интервал был уже ширины изготавливаемого фильтра, так как в противном случае существенно затрудняется контроль из-за весьма незначительного изменения светопропускания, вызванного осаждением слоя, толщина которого контролируется.

С помощью монохроматора можно также осуществлять контроль толщин слоев и в слу1р чаях, когда ширина фильтра при нанесении последних слоев становится уже выделяемого монохроматором спектрального интервала. Последние слои можно контролировать при почти максимальном раскрытии щелей монохроматора, так что выделяемый им спектральный интервал 5t. становится не менее, чем в

5 раз больше полуширины Я. фильтра.

Существенный недостаток известных способов контроля при изготовлении оптического

23 покрытия заключается в том, что они не позволяют получать хорошие спектральные характеристики в области высокого светопропускания, например, при напылении вакуумным методом полосовых пропускающих фильтров, 25 имеющих полуширину бл=20 — 100 нм и обладающих крутой границей между зонами высокого и низкого пропускания и имеющих прозрачность, близкую к нулю, в области фона.

Указанные характеристики обеспечивают, 30 так называемые, контрастные фильтры. Такие

526768

15 фильтры состоят из двух или более просты: (элементарных) фильтров, соединенных между собой слоем с низким показателем преломления. От точности получения соединительного слоя с заданной расчетной толщиной существенно зависит качество изготавливаемого покрытия.

Контролировать нанесение таких слоев на широких щелях монохроматора при изготовлении рассматриваемых фильтров невозможно, ибо у обычно применяемых монохроматоров

ЛЛ,, 80 нм, т. е. величйны ЛЛ и бЛ соизмеримы, и не выполняется условие, необходимое для обеспечения достаточной точности контроля.

Когда соединительные слои контролируют на узких щелях, то изменение светопропускания, вызванное их нанесением, не превосходит 3—

4 /, что приводит к ошибкам в толщинах до

30 — 50 /ц. Такие большие погрешности обусловливают сильное искажение спектральных параметров покрытия, особенно в области высокого светопропускания, где появляютсяглубокие провалы. 11окрытие становится непригодным к использованию по своему назначению.

Целью изобретения является улучшение спектральных параметров покрытия в области высокого светопропускания.

Это достигается тем, что после нанесения слоев, сформировавших положение зоны высокого светопропускания, расширяют спектральный интервал, выделяемый монохроматором, настраивая его на нулевой порядок дифракционной решетки, и устанавливают в фотометр отрезающие фильтры, подавляющие побочные зоны светопропускания.

Контроль осуществляется в процессе получения оптического покрытия путем термического испарения,в глубоком вакууме веществ, образующих слои покрытия. С помощью фотометрического устройства определяют светопропускание детали с осаждаемой системой пленок. При этом о толщине слоев судят по известной зависимости коэффициента светопропускания от оптической толщины. Контроль производят при напылении слоя на уже готовую систему слоев.

Непосредственно на деталь наносят первый простой диэлектрический пропускающий интерференционный фильтр к-ro порядка, состоящий из двух одинаковых многослойных зеркал, разделенных слоем диэлектрика. Зеркала представляют собой двухкомпонентные системы из чередующихся непоглощающих слоев диэлектриков с высоким и низким показателями преломления, оптические толщины которых равны между собой. Оптическая толщина разделительного слоя в 2к раз больше оптической толщины слоев зеркал.

О том, что оптическая толщина достигла требуемой величины, делают заключение, регистрируя минимумы светопропускания для слоев с высоким показателем преломления и максимумы — для слоев с низким показателем преломления. Контроль производят при фикси20

65,4 рованной длине волны ).„, выделяемой монохроматором с дифракционной решеткой, Л (0,94 — 0,1) Лм»с, где Л„„„; — длина волны максимального светопропускания.

Когда примыкающее к детали зеркало сформировано, наносят разделительный слой первого простого диэлектрического пропускающего интерференционного фильтра. Его напыление прекращают при достижении к-го максимума пропускания, если слой имеет высокий показатель преломления, и к-ro минимума, если слой имеет низкий показатель преломления. Контроль производят при Л вЂ” — Л

Так же, как напыление разделительного слоя, контролируют нанесение пленок, образующих,второе зеркало первого простого фильтра. Только нанесение каждого слоя прекращают при достижении первого экстремума.

После того, как первый простой фильтр изготовлен, зона высокого светопропускания требуемого контрастного фильтра получается уже сформированной. Последующие слои необходимы для обеспечения желаемой крутизны фронтов, ограничивающих рабочую зону высокого светопропускания, и для снижения до нужного предела коэффициента светопропускания в области фона, Наличие сформированной зоны высокого светопропускания позволяет в дальнейшем монохроматизировать контролирующий световой поток с помощью самого изготовляемого фильтра. Препятствием для такого контроля служат побочные полосы светопропускания, которые расположены с обеих сторон от рабочей зоны пропускания простого фильтра на относительно небольшом расстоянии от нее.

Когда диэлектрический полосовой пропускающий интерференционный фильтр используют в оптических,приборах, то для исключения вредного влияния лучистого потока, прошедшего через побочные полосы, применяют специально изготовляемые абсорбционные (цветные стекла), либо интерференционные отрезающие фильтры. Указанные отрезающие фильтры предполагается использовать при контроле рассматриваемым способом.

Перед нанесением соединительного слоя, располагаемого между двумя простыми полосовыми фильтрами, фотометрическую систему, с помощью которой производится контроль, переналаживают. Для этого монохроматор настраивают на нулевой порядок дифракционной решетки и устанавливают по ходу луча в фотометре отрезающие фильтры, предназначенные для подавления лучистого потока, прошедшего через побочные полосы светопропускания уже напыленной системы пленок.

Монохроматор в этом случае не работает как спектральный прибор. Спектральный состав излучения, выходящий через его выходную щель, практически совпадает со спектральным составом излучения, падающим на входную щель монохроматора. Спектральный интервал, 526768

Формула изобретения

Составитель В. Горшков

Техред Е. Подурушина

Корректор О. Тюрина

Редактор О. Юркова

Заказ 2189/10 Изд. № 1630 Тираж 864 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 в котором производится определение свгтопрспускания детали с наносимыми па нее интгерференционными слоями, выделяется уже изготовленной частью контрастного фильтра.

После того, как фотометр перенастроен, наносят соединительный слой из диэлектрика с низким показателем преломления до достижения максимума светопропускания. Затем напыляют второй простой диэлектрический полосовой пропускающий интер ференционный фильтр. Каждый слой второго простого фильтра заканчивают наносить при достижении экстремума светопропускания. Соответствует ли это максимуму либо минимуму, определяется теми же факторами, что и при нанесении слоев, образующих первый простой полосовой фильтр.

Если изготавливаемый контрастный фильтр состоит более, чем из двух простых, то после второго простого фильтра, не перестраивая фотометра, вновь наносят соединительный слой из вещества с низким показателем преломления до достижения максимума светопропускания и т. д.

Способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали, например, диэлектрического полосового пропускающего фильтра, заключающийся,в том, что на де1р таль направляют световой поток, выделяют из него монохроматором с дифракционной решеткой заданный спектральный интервал и определяют с помощью фотометра в этом интервале светопропускание детали в процессе нане15 сения на нее интерференционных слоев,отлич а ю шийся тем, что, с целью улучшения спектральных параметров покрытия, после нанесения слоев, сформировавших положение зоны высокого светопропускания, расширяют

20 спектральный интервал, выделяемый монохроматором, настраивая его на нулевой порядок дифракционной решетки, и устанавливают в фотометр отрезающие фильтры, подавляющие побочные зоны светопропускания.

Способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали Способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали Способ контроля толщин слоев при изготовлении оптического покрытия на детали 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного измерения толщины и показателя преломления прозрачных слоев

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного автоматического измерения толщины прозрачных материалов, например листового стекла, в непрерывном производственном процессе

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к оптическим интерферометрам, и может быть использовано для непрерывного бесконтактного измерения геометрической толщины прозрачных и непрозрачных объектов, например листовых материалов (металлопроката, полимерных пленок), деталей сложной формы из мягких материалов, не допускающих контактных измерений (например, поршневых вкладышей для двигателей внутреннего сгорания), эталонных пластин и подложек в оптической и полупроводниковой промышленности и т.д

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщин слоев прозрачных жидкостей и может быть использован для бесконтактного определения толщин слоев прозрачных жидкостей в лакокрасочной, химической и электронной промышленности, а также в физических и химических приборах

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к интерференционным способам измерения оптической толщины плоскопараллельных объектов и слоев

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано в черной и цветной металлургии для измерения толщины проката в условиях горячего производства без остановки технологического процесса

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщины слоя прозрачной жидкости
Наверх