Устройство для лужения погружением

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистимеских

Республик ()i) 565786 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 10,03 75 (21) 2111871/27 (51) М, Кл.е

В 23 К 3/06 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет (43) Опубликовано 25.07.77Бюллетеиь № 27 (45) Дата опубликования описания 19.08.77

Гасударственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.791., 3 (088. 8) (72) Авторы изобретения

10. A. Суслов и Н. И. Муратов (7 >) 3a я ви тел ь (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛУЖЕНИЯ ПОГРУЖЕНИЕМ

Изобретение .относится к пайке.

Известны устройства, применяемые для лужения и пайки погружением. Такие устройства имеют резервуар с расплавленным припоем, в котором находятся приспособления для подачи припоя.

В известном устройстве имеется ванна, извлекаемая из резервуара в момент пайки (lj.

Однако это устройство не обеспечивает очистку припоя в ванне в случае работы устройства без зашитной жидкости, а сам уровень припоя в ванне не стабилен за счет различных условий слива из ванны.

Известно также устройство для пайки деталей погружением, которое имеет подогреваемый резервуар с припоем и ванну для пайки, а также поршневой цттпиндр установленный в резервуаре, с радиальны- О ми отверстиями, расположенными ниже уров ня припоя. Ванна для пайки располагается на рабочем торце поршня, который двигается внутри цилиндра. Забор свежего припоя происходит из внутренних слоев припоя 25 резервуара, что повышает качество паяньпе соединений (2).

Однако при подьеме ванны в верхнее положение, где производится,.пайка или пу-! жение детали, происходит стекание припоя по различным остаклцимся загрязнениям, находящимся на наружной стороне ванны.

Мениск припоя (пиния уровня) находится в неустойчивом положении и достаточно влияния какого-нибудь фактора, например, вибрации, как происходит слив неопределете ной дозы припоя, в результате уровень припоя является непостоянным при работе устройства.

В связи с высокими требованиями к точнссти лужения выводов рчдиоэлементоВ»

4 наттример, интегральных микросхем, огранй ченпю тепловых загрузок.. на выводы и как следствие этого к параметрам технологических процессов монтажа и сборки радиоэлектроаппаратуры в микроиспопнении необходимо иметь устройство с HoBbBIJBHHo) точностью уровня припоя.

Целью изобретения является повышение точности уровня припоя.

565786 з

Это достигается тем, что подвижная ванна снабжена крышкой с прорезью, предназначенной для ввода элементов, подлежа щих лужению, установленной и закрепленной os B&pxHGM торце ванны на расстоянии не более 3,5 мм. При этом крышка имеет свЬйство смачиваться припоем.

Кроме того .крышка имеет отверстия для удаления излишнего припоя с верхней поверхности крышки. 1С

На фиг.,1 изображено устройство в разрезе (ванна находится в нижнем положении1 на фиг, 2 - то же, ванна находится в верх. нем положении.

Устройство для лужения погружением содержит. подогреваемый резервуар 1 с расплавленным-припоем--2, на- --верхнем ypoi не которого находится слоЕ защитной жидкости 3, предохраняющей поверхность-при поя 2 от окисления, го

Ванна 4,расположена внутри резервуара и имеет возможность перемещения вверх и вниз от приводного устройства.

Над верхним торцом ванны (4 установлена на расстоянии не более 3,5 мм крыш ка 5, имеющая свойство смачиваться при-, поем, например, предварительно залуженйая, с прорезью 6 для ввода выводов радио элемента 7 при подъеме ванны 4 в верхнее положение. 30

В резервуаре 1 установлена и закреплена к нему втулка 8, через отверстие в которой проходит вгнна 4. При этом нижний торец втулки 8 находится ниже уровня припоя 2, а верхний - над припоем 2. 35

На крышке 5 имеются отверстия 9 для обеспечения возможности стекания из лишнего припоя с верхней поверхности крышки.

При нижнем положении ванны 4, когда 4О она находится ниже нижнего среза втулки

8,припой 2 заполняет внутреннюю полость втулки. Двигаясь вверх, внутри втулки, ванна выталкивает столб припоя, находящегося

-над ванной, через верхний торец втулки 8. 4>

Избыток припоя сливается в резервуар 1.

В рабочем верхнем положении (см,фиг.2 верхний торец ванны 2 находится выше верхнего торца втулки, При этом оставшийся припой удерживается в ванне нижней поверхностью крышки 5, а излишки припоя удаляются через отверстия 9. Выводы радиоэлемента 7 опускаются в прорезь 6 крышки 5 и выдерживаются необходимое время в припое ванны.

После вьп1олнения операции лужения ра, диоэлемент 7 переносится на другую пози цию обработки, а ванна 2 опускается в исходное положение.

Устройство позволяет в момент лужения иметь поверхность припоя, очищенную от загрязнений и окислов, а также удобно регулировать конечную высоту подъема ванны без нарушения стабильности уровня припоя, что имеет значение при механизи-, рованном лужении выводов радиоэлементоь.

Формула изобретения

Устройство для лужения погружением, содержащее подогреваемый резервуар с припоем, малую подвижную ванну для луже ния, расположенную внутри резервуара, втулку, установленную внутри резервуара, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с це лью повышения точности уровня припоя, подвижная ванна снабжена крышкой, смачиваемой припоем, с прорезью для ввода облуживаемых элементов, закрепленной на верхнем торце. ванны с зазором относительно поверхности ванны.

Источники информации, принятые во вни мание при экспертизе:/

1, Авторское свидетельство СССР, № 222148, N. Кл . В 23 К 3/06, .

1 965.

2. Авторское свидетельство СССР № 288524, М. Кл . В 23 К 3/06, 1968.