Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов

 

О П И С А Н И Е („, 574174

ИЗОБРЕТЕНИЯ

С0103 Советских

Социалистнмескнх

Республик

К ПАТЕНТУ (61) Дополнительный к патенту (22) Заявлено 03.08.73 (21) 1956704/21 (23) Приоритет (32) 04.08.72. (31) P 2238557.5 (33) ФРГ (43) Опубликовано 25.09.77. Бюллетень № З5 (45) Дата опубликования описания 01.08.77 (51) Я Кл Н 01 С 17/22

Государственный комитет

Соаата Миннотроа СССР оо делам изобретений и отиро тий (53) УДК 621.396:69 (088.8) (72) Авторы изобретения

Иностранцы

Альфред Энгл и Курт Март (ФРГ) Иностранная фирма

"Сименс АГ (ФРГ) (71) Заявитель (54) УСГРОЙСТВО ДЛЯ НАРЕЗАНИЯ СПИРАЛЬНОЙ

КАНАВКИ НА ЗАГОТОВКАХ ПЛЕНОЧНЫХ

РЕЗИСТОРОВ

Изобретение относится к технологии изготовления пленочных резисторов.

Известно устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащее лазер, оптическое средство для расщепления лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде наклонного полупрозрачного зеркала, оптические средства для отклонения и средства для фокусирования лучей на поверхности заготовки резистора, включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства для вращения резистора вокруг его продольной оси (1) .

Однако при нарезании спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов при помотци такого устройства возникают отдельные точки, отде-ленные необработанными поверхностями.

Цель из бретения — обеспечение непрерывности обработки.

Для достижения цели в устройстве для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащем лазер, оптическое средство для расщепления лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде наклонного полупрозрачного зеркала„оптические средства для отклонен".я и средства для фокусирования лучей на поверхности заготовки резистора, включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства для вращения резистора вокруг его продольной оси, зеркала оптических средств для отклонения расщепленных лучей установлены так, что по ходу одного иэ расщепленных лучей расположено подвижное зеркало, а по ходу другого последовательно расположены неподвижное и подвижное зеркала, причем подвижные зеркала установлеlp ны с воэможностью поворота вокруг своих осей, соосных с направлениями лучей, исходящих от неподвижных зеркал, и с обеспечением смещения места попадания лучей на поверхность заготовки резистора.

l5 На чертеже представлена принципиальная схема устройства.

Устройство содержит лазер l, полупрозрачное зеркало 2, которое расщепляет лазерный луч на два частичных луча 3 и 4, неподвижное зеркало 5, 2о подвижные зеркала б и 7, проводящий слой 8, сферические линзы 9, 10 и устройство 11 для вращения резистора вокруг его оси.

Луч энергии, излучаемый лазером 1, расщепляется полупрозрачным зеркалом 2 на лва частичных луча 3 и 4 одинаковой интенсивности. Оба частич574174

Составитель В. Лякишев

Те"ред И. Асталош

Корректор А. Кравченко

Редактор Т. Иванова

Тираж 976 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д 4/5

Заказ 2422/47

Филиал ППП " Патент ", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 ных луча после этого переводятся неподвижным 5 и подвижным 6 зеркалами примерно на 90 .,Пругое подвижное зеркало 7 еще раз переводит частичный луч 3 так, что оба частичных луча 3 и 4 образуют вместе подобие прямоугольника, Оба частичных луча 3 и 4 сходятся иэ противоположных направлений на поверхности спирального проводящего слоя 8, этот слой приводится во вращение механическими средствами вокруг оси, перпендикулярной к плоскости чертежа. При повороте зеркал би 7 вокруг своей оси пятно падения данного луча энергии 3, соответственно луча 4, смещается на проводящем слое 8 параллельно его оси вращения. Для получения точечного пятна, падения обоих частичных лучей 3, 4 установлены сферические линзы 9, 10.

Они вызывают появление пунктирного пятна падения на проводящем слое 8 и линейную выемку, описываемую частичными лучами энергии 3 и 4 на проводящем слое. Интенсивность лучей 3 и 4 регулируется так, чтобы материал слоя 8 на данном месте падения и только на:нем по возможности немедленно испарился. По мере необходимости во время спиралеобоазования проводящего. слоя следят за тем, чтобы последний, а также несущий его сердечник не слишком нагревались и чтобы сохранялся проводящий, слой во всех местах, к которым не могут непосредственно проходить лучи энергии 3 и4..

Формула изобретения

Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащее лазер, оптическое средство для расщепления лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде наклонного полупрозрачного зеркала, оптические средства для отклонения и средства для фокусирования лучей на поверхности заготовки резисто1О ра, включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства для вращения резистора вокрут его продольной оси, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью обеспечения непрерывности обработки, зеркала оптических средств для

15 отклонения расщепленных лучей установлены так, что по ходу одного из расщепленных лучей расположено подвижное зеркало, а по ходу другого последовательно расположены неподвижное и подвижное зеркала, причем подвижные зеркала установлены с оп возможностью поворота вокруг осей, соосных с направлениями лучей, исходящих от неподвижных зеркал, и с обеспечением смещения места попадания лучей на поверхность заготовки резистора.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1. Заявка Франции N 2090020, МКИ G 02 в 27/00, опубл. 18.02.72.