Изобретение относится к технологии производства изделий радиотехнической и электронной промышленности и может быть использовано при изготовлении методом гальванопластики прецизионных изделий, например цифровых знаков, гребенчатых выводов, выводных рамок интегральных схем и др °

Известна матрица для гальванопластического наращивания, содержащая металлическое основание, на поверхности которого сформирован многослойный копировальный Рельеф, причем нижний слой, прилегающий к основанию, выполнен из несветочувствительного материала вЂ” полиимида tlj .

При Формировании непроводящих участков в матрице подобной конструкции путем химического фреэерования слоя, прилегающего к металлическому основанию, не удается исключить подтравливание верхнего слоя. Верхний фоторезистивный слой используется в этом случае в качестве защитной маски. При следующем наращивании иэделия в одтравленном слое наблюдается разрастание осадка, что способствует сдиранню копиральн >го ре rl ье4 ij .

Известна матрица для гальванопластического наращивания плоских изделий, содержащая металлическое основание с копировальным рельефом, состоящим из двух слоев фоторезистивных материалов на основе циклокаучуков и поливинилциннамата (2f .

Однако копировальный рельеф в этой конструкции матрицы ограничен по толщине, что делает ее непригодной для наращивания толстослойных осадков (до 100 мкм) . При увеличении же толщины рельефа снижается адгезионная прочность слоев и механическая прочность матрицы.

Целью изобретения является ïîâûшение качества матрицы за счет увеличения адгезии между слоями копировального рельефа.

Поставленная цель достигается тем, что в матрице для гальванопластического наращивания плоских изделий, содержащей металлическое основание с копировальным рельефом, включающим слой фоторезиста преимущественно на основе циклокаучуков, прилегающий к металлическому основанию, и основной защитный слой, копировальный рельеф содержит дополнитвльный слои, размещенный между слоем фото-.,

Матрица для гальванопластического наращивания плоских изделий

Похожие патенты:

Способ получения матрицы // 532662

Патент 414328 // 414328

Патент 392158 // 392158

Способ изготовления форм // 378553

Гальванопластический способ изготовления металлической фольги // 377441

Патент 377440 // 377440

Способ изготовления шаблона // 342947

Способ получения металлического шаблона // 336884

Способ изготовления матриц для перфорированной фольги // 262755

Способ гальванопластического изготовления бесшовных цилиндрических гильз // 250781

Способ изготовления металлических тонкостенных изделий с рельефным профилем и перфорацией // 2102536

Изобретение относится к гальванопластике, в частности к гальванопластическому изготовлению перфорированных тонкостенных изделий

Способ изготовления диска с отверстиями // 2149226

Гальванопластический способ изготовления моделей со сложным строением // 2184799

Изобретение относится к области гальванопластики и может быть использовано для изготовления сложных моделей

Гальванопластический способ формообразования сложнопрофилированных деталей и устройство для его осуществления // 2273685

Изобретение относится к области гальванопластики, в частности к электролитическому формообразованию сложнопрофилированных деталей с переменной толщиной стенки

Гальванопластический способ формовки сложнопрофилированных деталей и устройство для его осуществления // 2274683

Изобретение относится к области гальванопластики, в частности к электролитической формовке сложнопрофилированных деталей с переменной толщиной стенки

Способ изготовления литейных форм для многократной отливки изделий // 2294408

Изобретение относится к литейному производству и может быть использовано при изготовлении литейных форм преимущественно для многократной отливки мелкоразмерных изделий со сложным рельефом поверхности

Способ изготовления нано-пресс-форм для контактной пресс-литографии (варианты) // 2308552

Изобретение относится к области нанотехнологии для микроэлектроники

Способ изготовления металлических тонкостенных изделий с отверстиями // 2406789

Изобретение относится к области гальванопластики и может быть использовано в микроэлектронике при изготовлении магнитных и немагнитных масок для напыления тонких слоев органики, металлов и диэлектриков органических светоизлучающих диодов

Электропроводная композиция для гальванопластики // 2463389

Изобретение относится к области гальванотехники и направлено на формирование электропроводящего подслоя на диэлектрических моделях и формах для электрохимического осаждения металлов

Гальванопластический способ изготовления деталей, преимущественно матриц пресс-форм // 2050423

Изобретение относится к гальванопластическому изготовлению матриц пресс-форм