Раствор для удаления фоторезиста

 

Союз Советскик

Социалистических

Республик

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

«Ä790379 (61) Дополнительное к авт. сеид-ву(22) Заявлено 090878 (21) 2653316/18-21 с присоединением заявки Мо (23) Приоритет

Опубликовано 2312,,80. Бюллетень Мо47

Дата опубликования описания 231",80 (5f)N. Кл.

Н 05 К 3/06

Государственный комитет

СССР ио делам изобретений и открытий (53) УДК 621. 396. 6..049.75.002 (088.8) (72) Авторы изобретения

Ю. С. Гусар, К. А. Курбатова и Е. И. Яковлев (71) Заявитель (54 ) РАСТВОР ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и может быть использовано для удаления задубленного слоя фоторезиста с поверхности печатных плат.

Известен раствор для удаления фоторезиста на основе азотной и серной кислот (1) .

Недостатком этого раствора является его агрессивность к меди, олову, 10 свинцу, кадмию, никелю и другим металлам. Поэтому обработка в нем печатных плат приводит к разрушению как металла покрытия, так и медной фольги на поверхности платы. 15

Известен также раствор для удаления фоторезиста, содержащий моноэтаноламин, сульфанол и воду (21.

Данный раствор используется при изготовлении микросхем на полупро- 20 водниковой подложке. Его использование в технологии изготовления печатных плат невозможно из-за длительности процесса удаления фотореэиста и низкого качества его удаления. 25

Цель изобретения — повышение качества удаления фоторезиста и ускорение процесса его удаления.

Поставленная цель достигается тем, что раствор для удаления фото- 30 резиста, содержащий органический растворитель и воду, дополнительно содержит борфтористоводородную кислоту и трилон "Б", а в качестве органического растворителя - этиленгликоль при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ

Борфтористоводородная кислота 5 — 9

Этиленгликоль 2,2 — 4

Трилон "Б" 0,1 — 0,2

Вода Остальное

Выбор состава для удаления задубленного слоя фоторезиста обусловлен тем, что борфтористоводная кислота, не разрушая гальванические покрытия оловосодержащими сплавами, отслаивает фоторезист от медной фольги. Но нри этом необходим растворитель фоторезиста в связи с тем, что сильная адгезия остатков фоторезиста к поверхности фольги и гальванического покрытия к фоторезисту затрудняют "набухание" и отслоение фоторезиста по краям проводников и контак. тных площадок.

Таким растворителем, обеспечиваю-. щим доступ раствора к краям провод790379

Формула изобретения

20

5 — 9

2,2 — 4

0,1 — 0,2

Остальное.

Составитель О. Павлова

Редактор E. Лушникова Техред И,Асталош

Корректор E. Папп

Заказ 9079/70 Тираж 885

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 ников и контактных площадок, является этиленгликоль.

Поскольку в растворе накапливаются ионы металлов, такие как свинец медь, олово, в его состав введена стабилизирующая добавка — трилон "Б" (этилендиаминтетраацетат натрия), да щий комплексы с этими металлами. По лученные комплексы имеют высокую стабильность при повышенных температурах, поэтому трилон Б обеспечивает стабильность раствора вплоть до 1000Ñ.

Удаление фоторезиста на поливиниловой основе с печатных плат, покрытых оловосодержащими сплавами, осуще ствляют при 80-90 C эа 3-5 минут в растворе со следующим соотношением компонентов, г/л

Пример1.

Кислота борфтористо- водородная 5,5

Этиленгликоль 2,5

Трилон "Б" 0,1

Вода Остальное

Пример 2.

Кислота борфтористоводородная 9,0

Этиленгликоль 4,5

Трилон "Б" 0,2

Вода Остальное

ПримерЗ.

Кислота борфтористоводородная 7,25

Этиленгликоль 3 5

Трилон "Б" 0,15

Вода Остальное

Технико-экономический эффект, полученный при использовании раствора в производстве, заключается в том, что он полностью удаляет фоторезист с поверхности печатных плат, практически не действует на гальванические покрытия оловосодержащими сплавами, качество печатной платы после удаления задубленного слоя фотореэиста соответствует требованиям фотолитографии и техническим условиям на печатные платы. Применение раствора снижает трудоемкость изготовления печатных плат и в процессе его использования позволяет получить экономию, которая составит 2500 рублей на годовую программу.

Раствор для удаления фоторезиста, содержащий органический растворитель и воду, отличающийся тем, что, с целью повышения качества удаления фоторезиста и ускорения процесса его удаления, он дополнительно содержит борфтористоводородную кислоту и трилон "Б", а в качестве органического растворителя — этиленгликоль при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ

Борфтористоводородная кислота

Этиленгликоль

Трилон "Б"

Вода

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1..Авторское свидетельство СССР

Р 350871, кл. G 23 F 1/00, 1972.

2. Авторское свидетельство СССР 9 664477998888, кл. Н 01 L 21/312,,10.03.77 (прототип).