Способ получения полупроводникового алмаза

 

(19)SU(11)803323(13)A1(51)  МПК 5    C01B31/06(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.12.2012 - прекратил действиеПошлина:

(54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО АЛМАЗА

Изобретение относится к получению полупроводниковых материалов и может быть использовано в полупроводниковой технике, преимущественно в электронике. Известен способ получения полупроводникового алмаза (прототип), включающий приготовление реакционной шихты, состоящей из углеродсодержащего материала, металла-катализатора и легирующей добавки: фосфора циркония или мышьяка в количестве до 5% от веса углеродсодержащего материала, и последующее воздействие на шихту давлений до 40-50 кбар при температурах 1200-1400оС [1]. Целью изобретения является повышение энергии активации проводимости алмаза n-типа. Поставленная цель достигается тем, что готовят реакционную шихту, состоящую из углеродсодержащего материала металла-катализатора и легирующей добавки-политетрафторэтилена, фторида никеля, селена или селенида железа и воздействуют на шихту давлением высоким при нагревании. Основное отличие предложенного способа от прототипа заключается в использовании в качестве легирующей добавки политетрафторэтилена, фторида никеля, селена или селенида железа. Дополнительное отличие заключается в использовании политетрафторэтилена или фторида никеля в количестве 0,5-0,15 мас. % углеродсодержащего материала в пересчете на фтор и селена или селенида железа в количестве 0,5-25 мас.% углеродсодержащего материала в пересчете на селен. При содержании фтора и селена в реакционной смеси ниже 0,5 мас.% получают кристаллы алмаза, полупроводниковые свойства которых не обеспечивают потребности техники. При содержании фтора более 15 мас.%, а селена - более 25 мас. % не получают кристаллы полупроводникового алмаза необходимых размеров с требуемыми свойствами. Сущность способа заключается в том, что при воздействии высоких давлений и температур на исходную смесь, которая состоит из углеродсодержащих материалов, катализаторов и легирующих фторсодержащих и селеносодержащих добавок, в области термодинамической стабильности алмаза происходит рост кристаллов алмаза и их объемное легирование. Способ обеспечивает получение кристаллов полупроводниковых алмазов, имеющих n-тип проводимости и сохраняющих полупроводниковые свойства вплоть до высоких температур (1200 К). П р и м е р 1. Прессуют заготовку из графита (57 мас.%), в центр заготовки помещают таблетку из смеси порошков катализатора (сплав Mn-Ni - 22,9 мас. % ) и политетрафторэтилена 20,2 мас.%, что соответствует содержанию 15 мас.% фтора по отношению к углеродсодержащему материалу. Заготовку помещают в контейнер камеры высокого давления типа "тороид" и подвергают воздействию давления 45 кбар при 1400оС в течение 8 мин. Кристаллы алмаза выделяют из продукта синтеза обработкой пека кипящей хлорной кислотой. Кристаллы имеют размеры до 500 мкм и преимущественно желто-зеленую окраску. Измерение сопротивления кристаллов алмаза проводят с помощью серебряных электродов в интервале температур от 300 до 700 К. Определяют значения энергии активации проводимости, которые для различных кристаллов составляют 0,30-0,65 эв. Тип проводимости кристаллов алмаза определяют двумя способами: с помощью термозонда и по эффекту выпрямления на точечном контакте металл-полупроводник. Эти измерения показывают, что полупроводниковые алмазы имеют n-тип проводимости. Содержание фтора в указанных кристаллах алмаза, по данным масс-спектрального анализа, составляет 210-3-110-2 ат.%, сопротивление кристаллов при 25оС составляет 2 104-1 105 (ом. см). П р и м е р 2. В камеру высокого давления аналогично примеру 1 помещают исходные материалы: графит 66 вес.%, катализатор (Mn-Ni-Ti) 33,35 мас.% и политетрафторэтилен 0,66 мас.% (содержание фтора - 0,51 мас.%). При параметрах синтеза аналогичных примеру получают кристаллы алмаза, которые имеют n-тип проводимости. Кристаллы обладают удельным сопротивлением при комнатной температуре на 2 порядка выше, чем в примере 1. П р и м е р 3. В камеру высокого давления аналогично примеру 1 помещают исходные материалы: графит 61 вес.%, катализатор (Mn-Ni-Ti) 30 мас.% и политетрафторэтилен 9 вес. % (в пересчете на фтор 6,8 мас.%). Параметры синтеза: давление 50 кбар, температура 1300оС, время выдержки 15 мин. Получают кристаллы алмаза с размерами до 650 мкм, преимущественно серо-зеленого цвета. При комнатной температуре кристаллы имеют сопротивление от 3 104 до 1 106 ом.см. Зависимость сопротивления от температуры определяли в интервале температур до 300 до 750 К. Значения энергии активации проводимости для различных кристаллов составляют 0,2-0,5 эв. Полученные полупроводниковые алмазы имеют n-тип проводимости. Содержание фтора в кристаллах алмаза составляло 3 10-3-1,4 10-2 ат.%. П р и м е р 4. В камеру высокого давления аналогично примеру 1 помещают исходные материалы: графит 59 мас.%, катализатор (Mn-Ni-Ti) 16 мас.% и селен в количестве 25 мас.%. Синтез кристаллов алмаза проводят при давлении 48 кбар, температуре 1300оС, время синтеза составляет 12 мин. Полученные кристаллы алмаза преимущественно черного цвета, имеют размеры до 400 мкм. Сопротивление кристаллов при комнатной температуре составляет 1 105-5 107 ом. см. Энергия активации проводимости кристаллов составляет 0,2-0,4 эв. Полученные полупроводниковые кристаллы алмаза имеют n-тип проводимости. Содержание селена в кристаллах 910-2-310-1 ат.%. П р и м е р 5. В камеру высокого давления аналогично примеру 1, помещают исходные материалы: графит (60 мас.%), катализатор (Mn-Ni) 18,5 мас.% и селенид железа 21,5 мас.%. При параметрах синтеза аналогичных примеру 4, получены кристаллы полупроводникового алмаза, имеющие n-тип проводимости. Удельное сопротивление кристаллов составляет 1 104-0,3 107 ом.см.. Энергия активации проводимости составляет 0,22-0,70 эв. П р и м е р 6. В камеру высокого давления аналогично примеру 1 помещают исходные материалы: графит 66 мас. %, катализатор (Mn-Ni-Ti) 25 мас.% и смесь легирующих добавок: селен 3 мас.%, политетрафторэтилен 2 мас.%, фторид никеля 4 мас.%. Синтез кристаллов алмаза осуществляют при давлении 48 кбар, температуре 1300оС в течение 15 мин. Кристаллы алмаза имеют размеры до 600 мкм, сопротивление при комнатной температуре не превышает 1 106 ом. см. Кристаллы алмаза являются полупроводниками n-типа проводимости. Таким образом, предлагаемый способ обеспечивает получение полупроводниковых алмазов n-типа. Используя в качестве легирующих добавок фторсодержащие или селенсодержащие соединения или их смеси, получают полупроводниковые алмазы n-типа с сопротивлением при комнатной температуре от 2 104 до 5 107 ом.см. и с энергиями активации проводимости от 0,3 до 0,7 эв, что позволяет использовать их в значительно более широком диапазоне температур (до 1200 К) по сравнению с полупроводниковыми алмазами n-типа, получаемыми по противопоставляемому способу, значения энергии активации проводимости которых находятся в пределах 0,03-0,20 эв. Кроме того, температурный диапазон использования получаемых полупроводниковых алмазов n-типа значительно превосходит температурный диапазон неалмазных полупроводниковых материалов. Получаемые по предлагаемому способу полупроводниковые алмазы n-типа значительно расширяют использования полупроводниковых элементов, применяемых в электронике и приведут к созданию новых полупроводниковых приборов. (56) Доклады АН СССР, 1976, т.226, N 2, с. 328, Бутузов В.П., Лаптев В.А., Преснов В. А. . , Ротнер Ю.М. Получение и исследование синтетических полупроводниковых алмазов с различным типом проводимости.

Формула изобретения

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО АЛМАЗА, включающий приготовление шихты, состоящей из углеродсодержащего материала, металла-катализатора и легирующей добавки, и последующее воздействие на шихту высоких давлений при высоких температурах, отличающийся тем, что, с целью повышения энергии активации проводимости алмаза n - типа, в качестве легирующей добавки используют политетрафторэтилен, фторид никеля, селен и/или селенид железа. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют политетрафторэтилен или фторид никеля в количестве 0,5 - 15% от веса углеродсодержащего материала в пересчете на фтор, селен или селенид железа в количестве 0,5 - 25% от веса углеродсодержащего материала в пересчете на селен.

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 29-2002

Извещение опубликовано: 20.10.2002        




 

Похожие патенты:
Изобретение относится к области получения сверхтвердых материалов в аппаратах высокого давления и температуры и может найти применение в машиностроении в качестве конструкционного материала и абразивно-режущего инструмента
Изобретение относится к области получения сверхтвердых материалов в аппаратах высокого давления и температуры и может найти применение в машиностроении в качестве конструкционного материала и абразивно-режущего инструмента

Изобретение относится к взрывному синтезу алмазов и может быть использовано для синтеза алмаза непосредственно в процессе детонации углеродсодержащего взрывчатого вещества с отрицательным кислородным балансом (BB) и дальнейшего разлета продуктов взрыва

Изобретение относится к технологии приготовления шихты в процессе производства сверхтвердых материалов (СТМ), в частности алмаза, и может быть использовано на предприятиях, производящих и/или применяющих искусственные алмазы и алмазный инструмент из них

Изобретение относится к способам синтеза монокристаллов алмаза (МКА), в том числе с полупроводниковыми свойствами

Изобретение относится к технике для производства сверхтвердых материалов (СТМ), например алмазов, путем синтеза

Изобретение относится к полиморфным соединениям углерода и может быть использовано в качестве молекулярного углеродного соединения при производстве новых конструкционных и химических материалов
Изобретение относится к получению кристаллов алмаза и других сверхтвердых материалов

Изобретение относится к технологии получения синтетических алмазов, конкретно к способам выделения синтетических алмазов, полученных в детонационной волне
Изобретение относится к технологии кристаллов на полиморфной основе и может быть использовано для промышленного производства кристаллов большой плотности в ювелирной промышленности, а также других областях техники

Изобретение относится к гидрометаллургии цветных металлов
Наверх