Устройство для изготовления микрорисун-kob ha изделии

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИ ЕТЕЛЬСТВУ

<п>851555 (61) Дополнительное к авт. свид-ву— р )м. к. (22) Заявлено 05.10.79 (2! ) 2829615/18-21 с присоединением заявки М— (23) Приоритет—

Опубликовано 300781 бюллетень йЯ 28

Дата опубликования описания 300781

Н 01 L 21/302

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621 382 .002 (088. 8) (72) Автор. изобретения

Б.:Н. Васичев (71) Заявитель

1 (54 ) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОРИСУНКОВ

HA ИЗДЕЛИИ

Изобретение относится к области технологии электронной техники, в частности к устройствам для изготовления микрорисуHKQB на изделии с помощью электронного пучка.

Известно устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее электронную пушку с управляющим электродом, формирующую систему, отклоняющую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия и генератор рисунка. f1).

Данное устройство не обеспечивает необходимого качества изготовления микрорисунков, так как из-за рассеяния электрОнов в слое электронорезиста и в подложке, происходит нежелательная засветка электронами участков, не подлежащих обработке, вследствие чего размер получаемого рисунка не совпадает с программируемым, а соседние элементы рисунка, отстоящие друг от друга на расстоянии 1 мкм и менее, сливаются.("эффект близости")е

Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является

-устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее электронную пушку с управляющим электродом, ФормиРующую систему от.клонякщую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия, генератор рисунка и подключенный к его выходу блок для регулировки параметров электронного пучка, выход которого подключен к формирующей системе.

Данное устройство позволяет несколько компенсировать "эффект близости" только на границах элементов рисунка, включающих ряд полос или спиральных линий, поскольку в нем произво- . дится изменение (уменьшение ) диаметра электронного пучка при сканировании внешней границы каждого из элементов рисунка с помощью блока регулировки параметров электронного пучка, подключенного к формирующей системе, по командам от генератора рисунка (21 .

Однако в данном устройстве не компенсируется "эффект близости" на всей площади рисунка, а необходимость усложнения программы обработки и систеж юсткровки из-за изменения диаметра электронного пучка снижает надежность и производительность система@, вследствие чего дан"

851555 ное устройство также не обеспечивает требуемого качества изготовле ия микрорисунков.

Цель изобретения — повышение качества изготовления микрорисунков, Укаэанная цель достигается тем, 5 что в устройстве для изготовления микрорисунков на изделии, содержащем электронную пушку с управляющим электродом, формирующую систему, отклоняющую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия,. генератор рисунка и подключенный к его выходу блок регулировки параметров электронного пучка, блок ре гулиров ки параметров электронного пучка включает пОследовательно соединенные блэк памяти, суммирующий усилитель и интегрирующий блок, выход которого подключен к уп- равляющему электроду электронной пушки. 20

Такое выполнение устройства позволяет повысить качество изготовления ми крорисунков, поскольку в нем из готовление всех элементов микрорисунка производится электронным пучком, ток которого регулируется с учетом засветки обрабатываемого участка рас1 сеянными электронами с соседних элементов рисунка, вследствие чего производится компенсация "эффекта близос ти" — слияние близлежащих элементов рисунка, и обеспечивается совпадение размера экспонированного рисунка с программируемым ° Кроме того, исключается необходимость усложнения программы обраоотки и сис кемы юстировки, так как и зготовление рисунка осуществляется электронным пучком неизменного диаметра, вследствие чего повышается надежность и производительность устройства в целом, 40

На чертеже изображено предлагаемое устройство.

Устройство содержит размещенные соосно электронную пушку 1 с управляющим электродом 2, бланкирующую систему 3, формирующую систему 4, отклоняющую систему 5, подключенную к выходу генератора б разверток, вход которого соединен со входом генератора 7 рисунка, один выход которого соединен с бланкирующей системой 3, а другой — со входом блока 8 регулировки параметров электронного пучка, выполненного в виде последовательно соединенных блока 9 памяти, суммирующего усилителя 10 и интегрирующего блока 11, выход которого подключен к управляющему электроду 2 электронной пушки 1. Обрабатываемое изделие 12 раз мещают на столе 13.

Устройство работает следующим образом.

Электронная пушка 1 двмпфирует электронный пучок, который фокусируется формирующей системой 4 в электдонный зонд малого диаметра на поверхности обрабатываемого иэделия 12.

Сканирование электронным зондом поверхности обрабатываемого иэделия

12 осуществляется с помощью отклоняющей системы 5 по сигналам от генератора б разверток.

При достижении электронным зондом участка поверхности изделия 12, на который необходимо нанести рисунок, с одного из выходов генератора 7 рисунка на бланкирующую систему 3 поступают сигналы в соответствии с программой обработки, и электронный пучок направляется на обрабатываемую точку поверхности изделия 12.

Одновременно с выхода генератора 7 рисунка на вход блока 8 регулировки параметров электронного пучка поступают сигналы, соответствующие программе обработки (дозами облучения) в и соседних строках при сканировании поверхности изделия (число и определяется минимальным размером элемента — увеличивается с уменьшением размером элемента и емкостью блока 9 памяти). Укаэанные сигналы запоминаются в блоке 9 памяти и при поступлении сигнала с и строки подают -..я на вход суммирукщего усилителя 10, где они суммируются каждый со своим весовым коэффициентом, зависящим от номера данной строки (чем более удалена строка, на которой ведется обработка, тем меньше величина коэффициента. Коэффициенты определяются рассчетным .путем, исходя из расстояния между центрами строк и зависимости от интенсивности рассеяния электронов в данном материале), Суммарный сигнал с выхода усилителя 10, учитывающий засветку в обрабатываемой точке поверхности иэделия от рассеянных электронов с соседних строк, поступает на вход интегрирующего блока 11, который корректирует передний и задний фронты сигнала (увеличивает длительность переднего и заднего фронтов) и учитывает тем салым взаимное влияние рассеяния электронов в пределах строки (в направлении строчной развертки), после чего данный сигнал подается на управляющий электрод 2 электронной пуаки 1 и осуществляется регулировка гока электронного пучка, производящего обработку в данной точке поверхности изделия 12 с учетом засветки данноЧ точки иэделия рассеянными электронами с соседних строк. При переходе к обработке другой точки поверхности изделия 12 укаэанные операции повторяются.

Предлагаемое устройство может быть широко использовано в микроэлектронике для изготовления интегральных схем, в особенности в схемах с элементами топологии субмикронных разме851555

Формула . изобретения

Составитель A. Якименко

Техред Т,Маточка Корректор С.Корниенко

Редактор Ь.Ковач

Заказ 6374/76 - Тираж 784 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4 ров, где оно позволяет за счет повышения производительности и качества изготовления микрорисунков повысить выход годных изделий.

Устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее электронную пушку с управляющим элект- 0 родом, формирующую систему, отклонякщую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия, генератор рисунка и подключенный к его выходу блок регуФ лировки параметров электронного пучка, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества изготовления микрорисунков, блок регулировки параметров электронного пучка включает последовательно соединенные блок памяти, суммирующий усилитель и интегрирующий блок, выход которого подключен к управляюще-. му электроду электронной пушки.

Источники информации принятые во внимание при экспертизе

1. "Electronic йеие", 1976, Dec. 13, V. 21, Р 1110, р. 54.

2. Патент Англии М 1483171, кл. Н 1 О, 1977 (прототип).

Устройство для изготовления микрорисун-kob ha изделии Устройство для изготовления микрорисун-kob ha изделии Устройство для изготовления микрорисун-kob ha изделии 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение технологичности процессов механической обработки, выхода годных пластин, в частности, из материалов группы A3B5 в случае получения пластин с допуском диаметра 0,3 мм и менее

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности, к технологии изготовления полупроводниковых структур, являющихся элементной базой функциональной микроэлектроники и может быть использовано в технологии изготовления интегральных газовых датчиков с тонкими мембранами /1- 5 мкм/, а также мембран для рентгеновских фотошаблонов

Изобретение относится к полупроводниковой электронике и может быть использовано в производстве полупроводниковых лазерных диодов и светодиодов

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых структур, получаемых:- путем механического утонения структур с нерабочей стороны структур до фиксированной толщины, например до толщины 6-20 мкм;- путем термического соединения (сварки через окисел) двух пластин разной проводимости, легирования и кристаллографической ориентации и механического утонения одной из пластин до фиксированной толщины, например до толщины 6-10 мкм;- путем механической или химико-механической доводки структур для выравнивания планарного рельефа, удаления дефектов с использованием Stop-процесса

Изобретение относится к способам термохимического травления тугоплавких химически стойких материалов, в частности к методам локального травления их поверхности, например, с использованием локального лазерного облучения

Изобретение относится к технике полупроводникового производства и может быть использовано для формирования многоуровневых межсоединений СБИС, в частности, для планаризации поверхности межслойного диэлектрика, межуровневого диэлектрика, для получения вертикальных проводников, диффузионно-барьерных слоев и адгезионных слоев на операциях подготовки поверхности пластин, например, при химико-механической полировке с последующей отмывкой их (гидромеханической, мегазвуковой и др.)

Изобретение относится к электронной промышленности, а именно к фотошаблонным заготовкам (ФШЗ), предназначенным для формирования рисунка микроизображения при изготовлении интегральных схем

Изобретение относится к области оптоэлектроники и может быть использовано при изготовлении пластин из слитков или булей монокристаллов, например, сапфиров

Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано, например, на операциях очистки полупроводниковых пластин с помощью щеток и мегазвука
Наверх