Фотографический материал

 

Союз Советских

Социааистнчесних

Республнк

Оп ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

<ц857919 е (61) Дополнительное к авт. сеид-ву (22) Заявлено 09.07. 79 (21) 2794374/23-04 с присоединением заявки М (23) Приоритет

Опубликовано 230881. Бюллетень N9 31 (51)М. Кл 3

G 03 С 1/82

Госудврственный комитет

СССР но делам изобретений и открытий (53) УДК 771.5 (088.8) Дата опубликования описания 23. 08. 81

Р.3. Шакиров, Г.П. Крупнов, P.Ø. ГиниятуЛлииа

A.Ø. Галямов и Н.Н. Долгополова

P2) Авторы изобретения

Казанский научно-исследовательский техновогичеокий..", и проектный институт химико-фотографической промышленности

{7t) Заявитель (54 ) ФОТОГРАФИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ сн-сн

1 в р-ока она

Изобретение относится к фотографическим материалам и может быть использовано в химико-фотографической промышленности в производстве

3 кинофотоматериалов, содержащих в эмульсионных и вспомогательных слояк антистатик °

Известен фотографический материал, состоящий из подслоированной подложки, нанесенных на нее одного или нескольких эмульсионных или защитных слоев, причем эмульсионный нли защитный слой включает антистатик - соль замещенной полимерной кислоты - моноаьиионийную соль поливинилфосфата (1 ).

Недостатками известного фотографического материала являются его неудовлетворительные антистатические свойства и нестабильность фотографических свойств.

Цель изобретения - улучшение антистатических свойств фотографического. материала и повышение стабильности свойств эмульсионных слоев.

Поставленная цель достигается тем, что фотографический материал, состоящий из подслоированной подложки, нанесенных на нее одного или нескольких эмульсионных защитных

30 слоев в эмульсионном или защитном слое в качестве антистатика содержит соединение формулы. где и - бутокси, фенил или феноксигруппа; и 20 30т в количестве 13,57-58,0 г/моль. галогенида серебра или 1-2 г/л желатины для защитного слоя.

В примерах используют крупнозернистую иодбромсеребряную эмульсию с содержанием 2,5 мол.% йодистого серебра, уе =1,5 и концентрацией желатины 10% со следующими характеристиками:

Чувствительность она (р " ) 400

Коэффициент контрастности f- 2,8

Оптическая плотность вуали, Ио 0,2

Эмульсию наносят .на триацетатцеллюлозную (ТАЦ) или полиэтилентерефталатную (ПЭТФ) подложку.

В эмульсию при подготовке ее к поливу при температуре 40 С вводят о

857919

1 л

20 л

Т а б л и ц а 1

Количество Na-соли поли-Р-феноксивинилфосфоновой кислоты, г/r желатины

Показатели

1 1

1 1,33 2

Чувствительность S 0,85 а Л 410/400

410/400 440/420

2,8/2,9 2,8/2,9

Коэффициент контрастности 2,9/2,8

Оптическая плотность вуа" ли D 0,11/0,14 0,13/0,12 0,13/0,14 добавки (на 1 кг эмульсии) следующего состава, мл:

Стабилизатор (5-метил-7-окси-1,3,4-тиазоиндолицин) 25

Пластификатор (глицерин), 2

Смачиватель (дикалиевая соль октаглицерида-2-этил-гексенилянтарной кислоты) б

Дубитель (хром уксуснокислый) 18

Одновременно с эмульсионным слбем при температуре 34аС наносят защитный слой следующего состава:

Вода дистиллированная

Желатина

Смачиватель (натриевая соль ди-с(.-этилгексилового эфира сульфоянтарной кислоты) 12 мл, Пример 1. В состав защитного слоя, изготовленного по описанной технологии, вводят Na-соль поли-j>-феноксивинилфосфоновой кислоты со степенью полимеризации и 20 в количестве 1-2 г/г желатины.

Фотографические и антистатические показатели образца пленки приведены в табл.1.

П р е р 2. По примеру 1 в состав защитного слоя вводят На-соль поли- -феноксивинилфосфоновой кислоты со степенью полимеризации и и 30 в количестве 1-2 r/ã желатины.

Фотографические и антистатические показатели образца пленки приведены в таблице 2.

Пример 3. В состав эмульсии по описанной технологии вводят Насоль-поли-Р-феноксивинилфосфоновой кислоты со степенью полимеризации n 20 в количестве 13,5728.57 r/ìoëü AgMaI.

Фотографические и антистатические по:лазатели образца пленки приведены в табл.3.

Пример 4. По примеру в эмульсию вводят Йа-соль поли-р

-феноксивинилфосфановой кислоты со степенью полимеризации n 30 в количестве 13 57-28,57 г/моль AgMaI-.

Фотографические и антистатические1 показатели образца пленки приведены в табл.4

Пример 5. В состав эмульсии по описанной технологии вводят йа-соль полистирилфосфоновой кислоты в количестве 18,85-58 г/моль.

Фотографические и антистатические показатели образца пленки приведены в табл.5.

Пример б. По примеру 5 в эмульсию вводят йа-соль поли-бутокси-винилфосфоновой кислоты в количестве 13,57-28,57 г/моль АдНа1.

Фотографические и антистатические показатели образца пленки приве20 дены в табл.б.

Пример 7. В состав защитного слоя, изготовленного по описанной технологии, вводят моноаммонийную соль поливинилфосфата.

Фотографические и антистатические показатели образца пленки приведены в табл.7.

Из сравнения электрических показателей известного и предложенного

30 фотографических материалов следует, что предложенный материал обладает более быстрым стеканием электрического заряда с поверхности пленки (3-2,5 раза), улучшенным показа35 телем удельного поверхностного электрического сопротивления (1,52 порядка). Применение солей полимерных фосфоновых кислот общей формулы 1 в отличие от известного состава не приводит к раздубливанию политого эмульсионного слоя и не затрудняет операцию полива. В отличие от низкомолекулярных антистатических веществ полимерный антистатик имеет пониженную тенденцию к миграции из слоя в слой и к "выпотеванию".

857919, Продолжение табл. 1 оличество Иа-соли поли-феноксивинилфосфоной кислоты, r/r желатины

Показатели

5/5,2

4/4,5

3/4, 1

О 14 10 . О 10 О О 6 10

0,50; 10ff О, . 0,7 400

П р и м е ч а н и е ° В числителе приведены данные для

ТАЦ, в знаменателе — для ПЭТФ, Т а б л и ц а 2

Количество йа-соли поли-f3-феноксивинилфосфоновой кислоты, гг желатины

Показатели

1 1,33

Чувствительность 5 р-(Я86

415/400 410/405 430/410

Коэффициент контрастности R g

2,9/2,8

2,9/2,9

2,8/2,9

Оптическая плотность вуали О

0,12/0,13 0,13/О;13 0,14/0,13

4/5,5

3/4, 3

5/5,5

0,14 ° 10 0 6 10»»

0,6,104 0,76 ° 0

О 6 10

0,75 410

П р и м е ч а н и е ° В числителе приведены данные для ТАН, в знаменателе — данные для ПЭТФ.

Таблица 3.Количество Иа-соли поли-Р

-феноксивинилфосфоновой кислоты в г/моль AgHal

Показатели! 1

13,57 18,85 28,57

ЧУвствительность Ьо 400/400 р 4 400/400 430/400

Коэффициент контраст- 2 9/2,8 ности

2,8/2, 9, 2, 8/2, 8

Полупериод стенания зарядов Ф -1/2 при максимальном напряжении

800 В/с

Удельное поверхностное электрическое сопротивление р Ом

Полупериод стекания зарядов » - 1/2 при максимальном напряжении 800 B/c

Удельное поверхностное электрическое сопротивление рв, Ом

I" 1

857919

Продолжение табл. 3

Показатели

Оптическая плотность вуали 0„

3,4/4

3,3/4,1 3,2/3,5

П р и м е ч а н и е. В числителе приведены дан. ные для ТАЦ, в знаменателе лля ПЭТФ .

Таблица 4

Показатели

13,57 18,85 28,57

400

400

430

2,9

2,8

2,8

Оптическая плотность вуали Ър

0,14

0,15

0,12

3,2

3,3

3,4

П р и м е ч а н и е . Данные для ТАЦ.

Таблица 5

Показатели

400

410

420,2,9

3, 2

2,9

Полупериод стекания зарядов Ф -1/2 при максимальном напряжении 800 В/с

Удельное поверхност° ное электрическое сопротивление р9, Ом

Чувствительность

5 р <

Коэффициент контрастности

Полупериод стекания зарядов Ф - 1/2 при максимальном напряжении 800 В/с

Удельное поверхностное электрическое сопротивление Р, Ом

Чувствительность р-

0,65

Коэффициент контрастности Y

Количество Иа-соли поли-8-феноксивинилфосфоновЬй кислоты в гlмоль АаНа1

13,57 18 85 28,57

0,12/0,15 0,14/0,14 0,15/0,16

0,4 10 0 35 10 0,4 ° 10

0,42 10" 0,8 Т01 00010

Количество йа-соли поли-P-феноксивинилфосфоновой кислоты г/моль AgНа!

0,,4 10 0,35. 10 0,4 ° 10

Количество йа-соли полифосфоновой кислоты, г/моль AgHal в,в (яв,s> 1 5в

85 7919

Продолжение табл. 5

Показ атели

18,8 28 58

Оптическая плотность вуали 0„

0,12

0,12 0,09

3,2

П р и м е ч а н и е. Данные для ТАЦ.

Таблица 6

Показ атели

Чувствительность S <

400

400

400

2,8

2,9

3,3

0,07

0i08

0,12

3,3

3,8 î.

0,23 10 0,9» 10

0,7. 10È

П р и м е ч а н и е. Данные для ТАЦ

Таблица 7

Показатели

Чувствительность S В

P 440

430

Коэффициент контрастности 4.

2,8

2,8

Полупериод стекания зарядов N — 1/2 при максимальном напряжении 800 В/с

Удельное поверхностное электрическое сопротивление р Ом,Коэффициент контрастности Я

Оптическая плотность вуали Оо

Полупернод стекания зарядов -- 1/2 при максимальном на-. пряжении 800 В/с

Удельное поверхностное электрическое сопротивление Р<, Ом

Количество Иа-соли полифосфоновой кислоты, r/ìÎëü AgHel

0,8 1б 0,2 10 0,56

Количество йа-соли полибутоксивинилфосфоновой кислоты,в г/моль AgHa!

13,57 18,85 28,57

Количество моноаммонийполивинил,фосфата, r/ã желатины

857919

Продолжение табл. 7

Количество моноаммонийполивинилфосфата, r/ã желатины

Показатели

Оптическая плотность оо

0,12

0,14

Полупериод стекания зарядов С вЂ” 1/2 с при максимальном напряжении 800 В/с

105

Удельное поверхностно электрическое сопротивление р9, Ом

0,86. 10

0,14.10

П р и м е ч а н и е. Данные для TAU, Формула изобретения

Составитель A. Гольцев

Редактор Н. -Данкулич Техред T. Маточка Корректор. Е. Рошко

Заказ 7239/76 Тираж 506 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная,4

Фотографический материал, состоящий из подслоированной подложки, нанесенных на нее эмульсионных и защитных слоев, причем эмульсионный или защитный слой включает антистатик — соль полимерной кислоты, о тл и ч а ю шийся тем, что, с целью улучшения антистатических и повышения стабильности фотографичес ких свойств материала, в качестве антистатика используется соединение

25 фдРмУлы Си СН

1, и 0-Р она где К вЂ” бутокси, фенил, феноксигруппа; и 20-30, в количестве 13,97-58,0 г/моль AgHal для эмульсионного слоя или 1,2/г/л желатины для защитного слоя.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Заявка Франции Р 2229715, кл . G 03 С 1/82,опублик .1974 (прототип) .

Фотографический материал Фотографический материал Фотографический материал Фотографический материал Фотографический материал Фотографический материал 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к композициям адгезионных подслоев для фотоматериалов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности

Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по // 826261
Изобретение относится к Композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.Известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, аК' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - NaOH, Haj^COa, NaHCOj, и имеющая рН 9,5 и выше fl].Недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рН<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, ПОДСПСУ- ъроввяной данной композицией.Известны КОМПОЗШ1ВВ для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: X — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; Н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2J.Адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм

Изобретение относится к высокоразрешающему галогенсеребряному фотографическому материалу, который используется для контратипирования и микрофильмирования мелкомасштабных черно-белых аэрофильмов

Изобретение относится к области фотографической химии, а именно к способу изготовления галогенсеребряной фотографической эмульсии и изопанхроматического галогенсеребряного фотографического материала, который может быть использован для аэрофотосъемки и съемки из космоса
Изобретение относится к области обрабатывающих композиций, используемых для фиксирования изображения при автоматической химико-фотографической обработке медицинских и промышленных рентгеновских пленок

Изобретение относится к фотоприемникам и предназначено для селективной регистрации оптических сигналов в оптоэлектронных устройствах

Изобретение относится к фотографии, кинематографии и телевидению, а именно к черно-белым галогенсеребряным фотографическим материалам и способам получения изображений с регулируемым коэффициентом контрастности, и может быть использовано в съемочных и копировальных процессах регистрации информации

Изобретение относится к химико-фотографической обработке, в частности, к способам проявления скрытого изображения при налипании противоореольного слоя к эмульсионному из-за воздействия температуры
Наверх