Устройство для контроля фотошаблонов

 

(72) Ав тор изобретения

А. А. Антонов (7!) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ

Изобретение относится к технологии радиоэлектроники и предназначено для контроля позиционной точности топологии фотошаблонов двусторонних и многослойных плат.

Известно устройство для контроля, в котором позиционная точность контропиру .7 ется путем совмещения по единым техноо логическим базам топологии контролируемого объекта с контрольной сеткой, представля1ошей собой прозрачный шаблон, на поверхности которого тонкими линиями нанесено изображение координатной сетки. с принятым шагом. Позиционная точность топологии s этом случае определяется как точность совмешения перекрестия кон. трольной сетки с центром контактной площадки fI)

Однако производительность контроля по сетке невысока из-ea:íåîáõîäèìîñòè производить замеры на измерительных микроскопах.

Наиболее близким по достигаемому. эф- фекту является устройство контроля, в ко2 тором дпя контроля позиционной точности элементов готовых фотошаблонов исполь-, зуется контрольный шаблон, расположенный в рамке с базовыми штифтами и представляющий собой пластину с контрольными отверстиями, центры которых находятся в местах расположения контролируемых элементов, например, монтажных и переходных отверстий. Принцип контроля поэи10 цнонной точности по такому шаблону состоит в совмещении контролируемого фотошаблона с шаблоном устройства по единым технологическим базам (базовым штифтам) и контроле наличия или отсутствия просвета между краем контрольного отверстия

1S и краем контролируемой контактной площадки фотошвбпонв (21

Малая производительность процесса контроля в этом устройстве обусловлена тем, что оценка наличия или отсутствия просвета затруднена из-оа паралакса, воз никакхцего вследствие того, что шаблон имеет определенную толщину. При испол1 эоввнии такого шаблона требуется при

8841 контроле каждой контактной плошадхи рас- ., полагать шаблон строго перпендикулярно лучу зрения.

Цель изобретения - повышение производительности процесса хонтроля.

Цель достигается тем, что в устройстве для контроля фотошаблонов, содержа:meM рамку с базовыми штифтами и шаблон иэ прозрачного материала с контрольными метками,,последние выполнены в виде на- ip несенных на поверхности шаблона площадок, расположение и кон4игурация хоторых соответствуют расположению и конфигурации контролируемых плошадох фотошаблона, причем размеры площадок шаблона выпол-. нены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смешения.

На фиг. 1 изображено устройство, разрез; на фиг. 2 — то же, с шаблоном для" хонтроля негативных фотошаблонов, вид сверху; на йиг. 3 — шаблон для контроля позитивных фотошаблонов; на фиг. 4— пример определения годного фотошаблона; на Фиг. 5 — пример определения бракованного фотошаблона.

Устройство для контроли фотошаблонов состоит из рамки 1, в которой, в случае контроля фотошаблонов негативного изображения, закреплен прозрачный контрользо ный шаблон 2, на одной из сторон которого имеются непрозрачные контрольные площадки Э; расположение которых соот- . ветствует расположению площадок контролируемого фотошаблона и размеры которых уменьшены относительно размеров плоша док контролируемого фотошаблона на величину допуска смешения от номинального расположения. Относительно контрольных площадок 3 шаблона установлены штифты

4 для базирования контролируемого фото- 4о шаблона.

В случае контроля фотошаблонов позитивного изображения используется контрольный шаблон (фиг. 3), на одной иэ сторон которого имеются прозрачные хонтроль.45 ные площадки 5, расположение которых

79 аналогично расположению плошадох контролируемого фотошаблона, и размеры которых увеличены относительно размеров площадок контролируемого фотошаблона на величину допусха смешения от номинального расположения, Фотошаблон устанавливают на контрольный шаблон 2 так, чтобы его фотоэмульсионный слой соцрикасался с той поверхностью контрольного шаблона 2, на которой нанесены контрольные площадки 3.

Годность контролируемых фотошаблонов определяется по наличию световой щели между хонтрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 4).

Брак контролируемых фотошаблонов определяется по отсутствию на любом участке световой щели между контрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 5).

Формула изобретения

Устройство для контроля фотошаблонов, содержашее рамку с базовыми штифтами и шаблон из прозрачного материала с хонтрольными метками, о т л и ч а ю ш е ес я тем, что, с целью повышения производительности процесса контроля, контрольные метки шаблона выполнены в виде нанесенных на поверхности шаблона площадок, .расположение и конфигурация которых соответствует расположению и конфигурации контролируемых плошадох фогошаблона, причем. размеры площадок шаблона вы» полнены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смешения.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Медведев A. М., Контроль и испытания плат печатного монтажа. М., 1975, с. 64.

2. Там же, с. 65.

884170

Составитель Г. Падучин

Редактор Л. Гратилло Техред Ж.Кастелевич Корректор N, демчик

Закаэ 10259/87 Тираж 892 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открмтий .

113035, Москва, Ж-35, Раушскаа наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4