Гидрофилизующий раствор для обработки литоофсетных форм

 

— - -10 — 70 г ! )ядсс1)!((Ок! с (h!!: яммопй(", — 40 — 70 г

1-,дк(,(й к Я.,"."."",1 н Ясык(еьнlы Й 1) ЯСTbоn! —,— 6 .1(Л ! (,РЯХМ(!.11: — 30 г

ВОДа — 1 000 р(! рас (вора — 8 — 9,5 (зреми "f!)!p0(!)и,. ii я((!!1! ((СчятнОЙ формы — 5 мин.

Ерахмг.!! Пр i: от(и)л(!!)я(с)т тя(:)кс, как H в предь.;(ищем ряство )е.

От;(сл! Ио рястl .три(От желтую ((poBI(Hую сол(и Отдельно пядсернокисЛЫй H!MMOIIHj!. HTCfv! ВС(T!)!i j)!CTBOPP, tHHH!OT ВМЕСТС, ПЕРСМЕП)ИВЯЮТ

H,, !c0яВля!О Г 1!(слочь. Лос ЯтоГЯ j)B OTÂO,(0((oлнитсльно тщятсль!10 п-ерсмещивают.

Вместо ((ðà),Mÿëÿ в обои . Г((дрофилизующих растворах воз)(о)к1 ; И и(Сна!!((С - М,i (Я Р Яо(! i., Я i ã" Ят(С (0((Р, К01! 1, CTÂë (НИ тгЦ (ЕК

cd;::,(.ià, сг(!о!(и!(а и,(Г. ргст!(тель(!Ых и с!Интет (чес;(их коллоидов.

Гi p pi!, 1! я Гяемь(е ГидрОф :!:!(3 "ю((ис Г)ястворы позволя(от 1(олу чять

H(пробе)(hklhix участках l Iя Гной фор.)1((прочн(!с lt,;Iе!(ки Гидрофи ihКОГО кол,!Оидя, Обеспеч((()я(о!)1 Иад;ic..(ящ(с поведение проосльных

ЗЛ C М C!(Т0 11 С) 0 Р М Ь(В 110 0 .((. (С П (Ч Э! Т Я . 1 И К .

П р (д и с т 11 з-, 0 б р е .1 с н н ч

1 . 1 1 д р 0 (1) ил из у О 1 (! (! . р я с т(: о !) д л и 0 0 !) я О 0 к и л н т 0- 0 ф с (.. т н ы х (Ь01)м kl3 я.!(!Омие!ии или (1. окс!1Гi рэвянно)1 !!л(Оминии, 0 т л и ч я 10щ и Й с я тем, что в раствор .Р(1, ic(!дя Вводится сдг!Озях(е!)(енный фосфат нятрг,и совмес:Гно Гк рсу л(.".!)», Ом яммОни<1 в соотно Пении 3:2

И и 0ЛИЗКОМУ к немУ .

2. и,:!!)сфил(!зуюц(:!; )ac(â;) . !":.: о(»(. а )0!!TH лито-офсетных форм пя 1!инес, О . л и ч а 10 щ и Й c т " ., что ко lлоид ввод(lт )келт)ю к()0вина!о сол(: совместно с пер!сули(Нато!(аммония в соотно(пе(1!(и 1:! или близком к немч с .",)бавлением едкой (цел) !и, )-;0;; т(т- у рэ -f;=-ò р! В за .,:w (:.II(л ц; к()ыт"-. "(Р(: .- ; С )в сте 1VjHtt1(CTp()s СССР

q, (kj ) () .-;()

". !-(г:-(:: 380. Цс!(а, )5 коп

lie i((r.1 r !!

Гоо, Агат:1!)1, -,Га) ".)фиа ?(!. М(1(п(стерс(зэ. !<,.:! турь! 1 Гва(1!ск()й АССР.

Гидрофилизующий раствор для обработки литоофсетных форм Гидрофилизующий раствор для обработки литоофсетных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способу изменения свойств смачиваемости печатной формы с поверхностью из полупроводника, а также к печатной форме с поверхностью из полупроводника, которая имеет различные характеристики смачиваемости, и ее применение в процессе офсетной печати

Изобретение относится к способу нанесения оттисков на формную пластину, при котором берут формную пластину 01 с красковоспринимающим слоем 03 и лежащим на нем краскоотталкивающим слоем 04

Изобретение относится к проявляемым в печатной машине негативным печатным формам, которые можно экспонировать УФ-, видимым или ИК-излучением

Изобретение относится к технологии изготовления печатных форм для офсетной печати
Изобретение относится к полимеру, поглощающему в близкой инфракрасной области спектра, содержащему, по меньшей мере, две различные боковые инфракрасные хромофорные группы, ковалентно связанные с главной полимерной цепью растворимой в основаниях смолы, по меньшей мере, одна из которых представляет собой индолцианиновый краситель, а другая представляет собой бенз[е]индолцианиновый краситель

Изобретение относится к полимерным красителям, используемым в покровных композициях для защиты формирующего изображения слоя термографических офсетных печатных форм

Изобретение относится к новым веществам для покрытий офсетных печатных форм и к покрывающему раствору офсетной печатной формы, содержащему указанные вещества
Изобретение относится к области полиграфии, а более конкретно к изготовлению офсетных печатных форм с помощью лазера
Наверх