Способ очистки оборудования от отложений,содержащих галогенид одновалентной меди

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗЬВРЕТЕН ИЯ

Сеюэ Советских

Социалистических

Респубпик (ii> 993806

Ж

l ,r

К ПАТЕНТУ (6l ) Дополнительный к патенту (5l) М. Кл.

В 08 В 3/08

C .23 4 1/00 (22) Заявлено 28.02 80 (21) 2891057/28-12 (23) Приоритет - (32) 02.03.79

Гееударетее««ый «ан«тет (3 I ) 016855 (33) С@А

СССР до делан «зеерете««й

« еткрытнй

ОпУбликовано 30. О1. 83, Бюллетень Jg 4

Дата опубликования описания 03.02.83 (53) УДФ(621. 7. . 024 (4/8.8) Иностранцы

Дональд Артур Кейворт и Джером Р. Саддам (CIIIA)

Иностранная фирма к;-:;:;.:-.-,-,, "Теннеко Кемикалз, нк" (CHIA) (72) Авторы изобретения (7!) Заявитель (54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ОБОРУДОВАНИЯ ОТ ОТЛОЖЕНИЙ, СОДЕРЖАЦИХ ГАЛОГЕНИД ОДНОВАЛЕНТНОЙ МЕДИ

Изобретение относится к очистке

:теплообменных аппаратов, насадок колонок, фильтров и другого оборудования от отложений, содержащих гало5 генид одновалентной меди, и может быть использовано дпя очистки оборудования в нефтеперерабатывающей и нефтехимческой отраслях промышленности.

Известен способ очистки оборудова-, ния от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди, путем циркуляции в нем раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом раствоРителе при

0-50 С (1 g.

Однако известный способ длителен, дорог и недостаточно эффективен для полного удаления осадочных отложе" ний, содержащих галогенид одновалент- 2о ной меди и образующихся на поверхнс сти теплообменников, фильтров и другого. оборудования. Кроме того, известный способ предусматривает пол-. ное удаление очистного раствора из

Ъ оборудования перед его эксплуатацией, так как содержащийся в нем хлористый алюминий является катализатором побочных реакций, мешающих протеканию основного процесса, созда" ет трудности по очистке и обеззараживанию сточных растворов.

Цель изобретения — повышение эффективности очистки оборудования.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки оборудования от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди, путем циркуляции в нем раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом растворителе при 0-50 С его дополнительно промыва" ют органическим растворителем при

t0-70 С после циркуляции раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом растворителе, а в качестве алюминийгалогенсодержащего соединения используют соединения общей формулы А1КХ, 3 993806

R A12Х> где R - алкил с содержанием атомов углерода 1-6, Х - хлор, бром, фтор, взятые с избытком, равным

10-100 ь от стехиометрии.

Осадочные отложения, содержащие в основном галогенид одновалентной меди (хлорид или бромид меди), а также небольшие. количества неорганических, органических и металлоорганических соединений (CuA1X< А10Х, А10Х, олефиновых олигомеров и др. комплексов С й1Х,, где )(- галоген, обычно хлор или бром), удаляют с загрязненной поверхности оборудова-, ния путем их диспергирования и рас- 1 творения в алюминийгалогенсодержащем соединении в органическом растворителе.

S качестве алюминийгалогенсодержащего соединения используют двухлористый метилалюминий, двубромистый метилалюминий, двухлористый. этил алюминий, двубрбмистый этилалюминий, двуфтористый этилалюминий, двухлористый Il-пропилалюминий, двубромистый изопропилалюминий, двухлористый п-бутилалюминий, двуфтористый изобутилалюминий, двубромистый третичный бутилалюминий, двухлористый

ll-гексилалюминий, полуторахлористый метилалюминий, полуторахлористый этилалюминий, полуторабромистый этилалюминий, полуторахлористый .изопропилалюминий, полуторафтористый и-6утилалюмнний, полуторахлористый и-гексилалюминий и т.д.Лучшие результаты получают, когда в качестве галида алкилалюминия используют двухлористый этилалюминий или двубромистый этилалюминий.

В качестве органического раство-.

4О рителя используют бензол, толуол, ксилол, этилензол, пентан, гексан, гептан, пропилеи, пентен-l, гексен-1, циклогексен, циклооктен. Предпочтительно используют ароматические угле43 водороды - толуол и бензол.

Очистку обычно. производят путем циркуляции очистного раствора при о

0-50 С, предпочтительно при 20-Й0 С

50 в течение времени, достаточного для диспергирования и почти полного удаления отложений.. Количество очистного раствора должно быть, по крайней мере, эквивалентно количеству галогенида одновалентной меди в отложении, в большинстве случаев это количество берут с избытком, равным 10-1003 . от стехиометрии.

После удаления .очистного раствора оборудование промывают органическим растворителем, лучше. всего толуолом или бензолом, при 10-70 С, предпочтительно при 20-4G C, для удаления диспергированных отложений и остатков очистного раствора. В случае необходимости перед возвращением в эксплуатацию оборудование сушат.

По окончании очистки из очистно-. го раствора можно регенировать растворитель, медь, алюминий, а оставшийся раствор обычно сбрасывают, так как он не вызывает загрязнения окружающей.среды.

Качество очистки оценивают по значениям характеристик теплопереноса и перепада давления в оборудовании по возвращении его в эксплуатацию.

Пример 1. Теплообменник, загрязненный осадочными отложениями, образовавшимися в процессе удаления окиси углерода из потока газа с помощью жидкого сорбента.(тетрагалогенида алюминия, содержащего одновалентную .медь в толуоле), очищают следующим образом: удаляют из теплообменника жидкий сорбент, промывают его толуолом для удаления остатков жидкого сорбента, а затем осуществляют циркуляцию по трубам теплообменника 254 раствора двухлористого этилалюминия в толуоле в течение часа, после чего раствор сливают, а теплообменник промывают толуолом при температуре окружающей среды для удаления отложений.

Пример 2. Фильтр, содержащий

864 хлорида одновалентной меди, очищают почти полностью путем промывки его 50 мл 254 раствора дихлорида этилалюминия в толуоле при температуре окружающей среды за одно фильтрование.

Использование изобретения позволяет повысить эффективность очистки оборудования от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди, путем более полного удаления отложений, сократить длительность очистки и уменьшить ее стоимость, а также обеспечивает охрану окружающей Среды от загрязнения отработанными растворами.

Формула изобретения

Способ очистки оборудования от отФ ложении, содержащих галогенид одно1

S — 99380 валентной меди, путем циркуляции в нем раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в оргаг О ,ническом растворителе при 0->0 С, отличающийcÿ тем, что,: $ с целью повышения эффективности очистки, его дополнительно:промывают органическим растворителем при 1070 С после циркуляции -раствора на основе алюмииийгалогенсодержащего

10 соединения в органическом растворителе,.а в качестве алюминийгалоген6 6 содержащего соединения используют соединения общей формулы АЖХ, R A1 Х где R - алкил с содержанием

3 2 3> атомов углерода 1-6, -- хлор; бром, Фтор, взятые. с избытком, равным

10-1004 от стехиометрии.

Источники информации, принятые во внимание- при экспертизе

1. Патент США И 4099984, кл. 143-2, 1977 (прототип).

Составитель Г. Макарова

Редактор А. Огар Техред H.Íàäü рр р", "

Ко екто .Х; 0Хар

Заказ 515/78 Тираж 589 Подписное

8НИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

11; 0 5 Москва Ж-35, Рвушская наб. д. 4/5

Филиал ППП Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4