Распределительное устройство для жидкости


B01D53/20 - Разделение (разделение твердых частиц мокрыми способами B03B,B03D; с помощью пневматических отсадочных машин или концентрационных столов B03B, другими сухими способами B07; магнитное или электростатическое отделение твердых материалов от твердых материалов или от текучей среды, разделение с помощью электрического поля, образованного высоким напряжением B03C; центрифуги, циклоны B04; прессы как таковые для выжимания жидкостей из веществ B30B 9/02; обработка воды C02F, например умягчение ионообменом C02F 1/42; расположение или установка фильтров в устройствах для кондиционирования, увлажнения воздуха, вентиляции F24F 13/28)

 

1. РАСПРЕДЕЛИТЕ ШНОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ШДКОСТИ в тепломассообменных аппаратах, включающее основание с отверстиями, под каждам нз которых установлен язычок, отличающееся тем, что, с целью упрощения монтажа и демонтажа, повышения производительности к улучшения распределения жидкости путем увеличения периметра слива, основание снабжено плитой с прорезями, в которых байонетньм затвором установлены язычки. 2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что каждый язычок снабжен дополнительньми языч (Л ками.. . О1 ю

„„SU„„1151277

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

\ НЦИ

РЕСПУБЛИК

4(SD В Of Р 53/20

ГОСЗЩАРСТВЕКНЬЙ КОМИТЕТ СССР

n0 CgjfAM ИЗОБРЕТЕКИй V ОТКФ 1ТИй

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

И АВТОРСКОМУ @ВИДЕ ГЕЛЬСТВУ (21) 3652991/23-26 (22) 17, 10. 83 (46) 23. 04. 85. Бюл. Ф 15 (72) Б.К.Иарушкин, К. Ф, Богатых, И.А.Ииушкин Р.Н.Резяпов, В.Н.Паэлычев, Ф,М.Масагутов и Н.И.Пестерев (71) Ордена Ленина производственное . обьединеиие "Салаватнейтеоргсинтез" им.50-летия СССР и Уфимский нефтяной институт (53) 66.015.23.05(088.8) (56) Патент США 9 4f5929f, кл. 261-f f4, f 928.

Авторское свидетельство СССР

Р 988321, кл; В 01 в 53/20, f982. (54) (57) 1. РАСПРЕДЕЛИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЖИДКОСТИ в тенломассо-. .обменных аппаратах, включающее основание с отверстиями, под каждым из которых установлен язычок, о т л ич а ю щ е е с я тем, что, с целью упрощения монтажа и демонтажа, повышения производительности и улучшения распределения жидкости путем увеличения периметра слива, основание снабжено плитой с прорезями, в которых байонетным затвором установлены язычки, 2. Устройство по п. 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что каждый язычок снабжен дополнительными язычками.

1 11512

Изобретение относится к конструкциям распределителей жидкости для проведения массообмена в системах газ (пар — жидкость и может быть использовано для создания равномерного орошения в ректификационных и

5 абсорбционных насадочных и тарельчатых колоннах, работающих в системах противо- и перекрестно-точного движения массообменивающихся фаз.

Цель изобретения -. уцрощение монтажа и демонтажа, повышение производительности и улучшение распределения жидкости путем увеличения периметра слива..

На Фиг. 1 изображено распределительное устройство для жидкости, общий вид, на фиг. 2-4 - последовательность закрепления в отверстиях плиты язычка байонетным затвором.

Предлагаемое устройство содержит основание 1, в котором выполнены отверстия 2 для прохода жидкости.

Под каждым отверстием 2 распола ается язычок 3, который байонетным затвором закрепляется в отверстиях . плиты 4. Причем в плоскости каждого язычка 3 выполнены изогнутой формы один или несколько меньших язычков 5, расположение которых на плоскости может быть как по направлению стока жидкости ео язычку 3 так и В обратном направлении.

Порядок крепления язычка .3 в плите

4 с помощью байонетного затвора следующий. Запорная часть язычка 3 вставляется в отверстие 7 плиты 4 по середине шейки 8 язычка 3 (фиг. 2).

Затем язычок 3 поворачивается вокруг собственной оси на 90 (фиг. 3у и опускается вниз до совмещения плоскости запорной части 6 язычка 3 с плоскостью плиты 4 (фиг, 4). Фиксирующим элементом байонетного затвора в данном случае является основание 1 с отверстиями 2.

Устройство работает следующим образом.

Поступающая на основание 1 жидкость под действием гидростатического напора проходит через отверстие 2 в основании и образует струю. Струя жидкости сначала попадает иа плоскость язычка 3, на котором формируется пленка жидкости. Часть жидкости при движении по язычку 3 распределя- 55 ется через язычок 5 и орошает зону нод язычком. На некотором расстоянии от язычка 3 пленка жидкости раэры77 2 вается и под действием гравитационных сил падает вниз.

Крепление язычка 3 с помощью байонетного затвора позволяет значительно увеличить .периметр распределения жидкости за счет выполнения язычка отдельно от основания, Наличие язычка 5 позволяет практически ликвидировать:неорошаемую зону под язычком 3 эа счет расположения в плоскости язычков меньших язычков.

Соединение язычка с основанием с помощью байонетного затвора обеспечивает раэъемность и сменяемость.

В колонне стабилизации и обессеривания бензина установлено несколько слоев регуляторной насадки иэ рукавной сетки.

Для орошения этой насадки используется известное распределительное устройство. Диаметр колонны 1,2 м. Расход жидкости в распределителе 70 м /ч, т.е. плотность орошения насадки б2 м /ч м . Гидростатический напор в распределителе 150 мм.

Число точек орошения при диаметре отверстий 6 мм составляет 730. Периметр пленки жидкости, стекающей с отогнутого язычка, образованного из круглого отверстия, составляет 1/2 периметра окружности отверстия. Для одного язычка периметр слива пленки равен 9,4 мм. Толщина пленки жидкости, стекающей с язычков на поверхность насадкй, составляет 2 мм.

Для создания равномерного орошения поверхности сетчатой насадки. необходимо, чтобы с распределительного устройства стекала пленка жидкости толщиной, не превышающей

0,5 мм.

Предлагаемое распределительное устройство позволяет создать пленку толщиной 0,5 мм н ниже. Это объясняется тем, что при байонетном соединении язычка и основания исключается зависимость периметра слива пленки от нагрузки по жидкости. Для создания пленки жидкости толщиной 0,5 мм периметр слива язычка, закрепленного байонетным затвором, должен быть не меньше 38 мм, т.е. в 4 раза больше, чем s известном устройстве. Байонетный язычок с таким периметром слива пленки имеет стороны 8 и 15 мм.

Таким Образом, использование пред. лагаемого устройства по сравнению с известным позволяет увеличить поверхность контакта фаэ в верхних слоях насадки в 4 раза.

1151277

Тираж 659

Заказ 2202/3

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раущская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул; Проектная, 4

Составитель А. Рыбинский

Редактор A. Иишкина Техред С.Мигунова Корректор А. Тяско

Распределительное устройство для жидкости Распределительное устройство для жидкости Распределительное устройство для жидкости 

 

Похожие патенты:

Насадка // 1144714

Изобретение относится к энергетике, а более конкретно к вспомогательным системам парогенерирующей установки атомной электростанции, а также может быть использовано в выпарных установках для упаривания перегретых солесодержащих жидкостей в металлургической, химической и других отраслях промышленности

Изобретение относится к способу получения раствора и, в частности к способу получения раствора целлюлозы в N-оксиде третичного амина

Изобретение относится к ионной технологии и может быть использовано в медицине, машиностроении, на транспорте, в том числе речном и морском, в автомобильной промышленности, сельском хозяйстве, авиации, космической технике, металлургии, энергетике

Изобретение относится к способу извлечения твердых остатков, находящихся в суспензии или в растворе текучей среды, которая включает в себя быстроиспаряющиеся компоненты, в частности воду

Изобретение относится к высокодисперсному сыпучему анионному поверхностно-активному веществу для моющих и/или очистительных средств, которое имеет микропористую структуру без пылеобразующих долей, причем его насыпная плотность составляет минимум 150 г/л, а содержание в нем остаточной воды - максимум 20 мас

Изобретение относится к оборудованию для выпаривания жидкости и может быть использовано в сахарной и других отраслях промышленности

Изобретение относится к производству оборудования для химической, пищевой, медицинской и биотехнологий, в частности вакуум-выпарных установок
Наверх