Установка для экспонирования полиграфических форм

 

УСТАНОВКА ДЛЯ ЭКСПОНИРОВАНИЯ ПОЛИГРАФИЧЕСКИХ ФОРМ, содержащая цилиндр с фотоформой и экспонируемой пластиной, привод цилиндра и осветитель , установленный внутри цилиндра , отличающаяся тем, что, с целью упрощения конструкции и расширения класса экспонируемых форм, фотоформа и экспонируемая пластина закреплены на одной из сторон, совпадающей с образующей цилиндра на его внутренней поверхности , а на.торце цилиндра дополнительно установлено воздуходувное устройство с фильтром. (Л Э5 9) -U СО

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

4(5!) G 03 F 7 24 ° 7 20

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

k ILBTCPCkcMY СВСВТССВСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3692400/24-10 (22) 27.12.83 (46) 07.07.85. Бюл. И 25 (72) А.В.Грибков, О.А.Морозова и В.В.Морозов (71) Всесоюзный научно-исследовательский институт полиграфического машиностроения, Московский полиграфический институт И Производственнотехническое училище N-,25 типографии издательства "Правда" (53) 535.88(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

У 838647, кл. G 03 В 27/02, 1981.

2. Авторское свидетельство СССР

Р 431039, кл. В 41 N 1/12, 1972.

„„SU„„11 049 (54) (57) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭКСПОНИРОВАНИЯ ПОЛИГРАФИЧЕСКИХ ФОРМ, содержащая цилиндр с фотоформой и экспонируемой пластиной, привод цилиндра и осветитель, установленный внутри цилиндра, отличающаяся тем, что, с целью упрощения конструкции и расширения класса экспонируемых форм, фотоформа и экспонируемая пластина закреплены на одной иэ сторон, совпадающей с образующей цилиндра на его внутренней поверхности, а на торце цилиндра дополнительно установлено воздуходувное устройство с Аильтром.

1166049

Изобретение относится к оборудованию, применяемому в полиграфическом производстве, а более конкретно — к копировальным установкам для экспонирования фотоформ на полиграфические формные пластины со светочувствительным слоем, Известна экспонирующая установка, содержащая Фотоформу и пластину с фотополимерным слоем, закрепленные 10 на наружной поверхности цилиндра при

-помощи полимерной пленки и вакуума.

Вокруг цилиндра расположены осветители. При экспонировании цилиндр вращается. (47.

f5

Установка предназначена для экспонирования только фотополимеризую- щихся пластин. Время экспонирования составляет 17-20 мин. Кроме того, недостатками установки являются . 20 ограниченные технологические возможности и низкая производительность, что является следствием способности полимерной пленки пропускать ультрафиолетовые лучи, но задерживать . 25 лучи остальной части спектра.

Наиболее близким техническим решением к предлагаемому является устройство для изготовления Фото" полимерных Форм, содержащее прозрач- З0 ный цилиндр с приводом, на котором закрепляются фотоформа и экспонируемая пластина, а также осветители, причем один из них расположен внутри цилиндра на его оси (2 .

Недостатком известного устройства . являются его ограниченные технологические воэможности, так как оно предназначено только для изготовления форм из жидких фотополимеров.

Целью изобретения является расширение класса экспонируемых форм и упрощение конструкции, т.е. обеспечение возможности экспонирования как фотополимерных пластин для форм высо- 5 кой печати, так и офсетных печатных форм.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве, содержащем цилиндр с Фотоформой и экспонируемой пласти- 50 ной, привод цилиндра и осветитель, установленный внутри цилиндра, фотоформа и экспонируемая пластина закреплены на одной из сторон, совпадающей с образующей цилиндра на его внутрен- 55 . ней поверхности, а на торце цилиндра дополнительно установлено воздуходувное устройство с фильтром.

Сущность изобретения заключается в том, что контакт между фотоформой и экспонируемой пластиной достигается за счет центробежной силы, прижимающей пластину и фотоформу к внутренней поверхности цилиндра, в результате чего необходимость в покровном стекле отпадает.

На фиг. 1 представлена схема установки для экспонирования полиграфических форм; на фиг.. 2 — цилиндр в положении установки; на фиг. 3— цилиндр в" положении съема форм; на фиг. 4 - разрез А-А на фиг. 2, зажим для крепления пластин на цилиндре.

Установка состоит из цилиндра 1, который при помощи своего фланца 2 сопрягается со средством 3 фиксации, которое может быть выполнено в виде ряда свободно вращающихся роликов или в виде кольца подшипника. На другом торце цилиндра 1 имеется

Ф полумуфта 4, кинематически связанная с приводной полумуфтой 5, жестко соединенной с лопастями 6 отсасывающего вентилятора. Приводная полумуфта 5 через ременную передачу 7 соединена с электродвигателем 8.

Внутри цилиндра 1 на его оси размещен источник 9 света с сетчатым теплофиль тром 10 и .отражателем 11 которые одновременно предохраняют источник света от случайных механических повреждений. Сверху цилиндр 1 закрыт воздушным фильтром 12. .Нв внутренней поверхности цилннд ра 1 установлены зажимы 13 (фиг. 2 и 3), снабженные штифтами 14 и подпружиненными кольцами 15, которые фиксируют снабженные проточками стержни 16. На штифты 14 надеты фотоформа 17 и экспонируемая пластина 18.

Пластина 18 и Фотоформа 17 опираются на пальцы 19. Зажим 13 имеет прижимную планку 20.

Установка работает следующим образом.

На штифты 14 зажимов 13 надевают фотоформу 17 и пластину 18, покрытую светочувствительным слоем. В фотоформе 17 и пластине 18,предварительно изготовлены перфорационные отверс--л тия, которые могут быть использованы и для приводки форм. На стержни 16 надевают планку 20, которая фиксируется имеющимися в ней пружинными кольцами 15. Пластину 18 вместе с фотоформой 17 и зажимом 13 вставляз 1! ют в полость цилиндра 1, который размещен на столе (фиг. 3) . Стержни

16 зажимов вставляют в отверстия на тенке цилиндра 1. Пружинные кольца

15, расположенные в стенке цилиндра 1, фиксируют зажим 13. Свободную заднюю кромку пластины заводят между опорными кольцами- 19. Аналогичным образом крепят внутри цилиндра 1 второй комплект,. состоящий из плас тины, фотоформы и зажима. Если цилиндр рассчитан на три комплекта, 1о крепят третий комплект и т.д. атем цилиндр 1 надевают на источник

9 -вета, причем полумуфта 4 цилщщра 1 кинематически сцепляется с приводной полумуфтой 5 устройства, а опорный фланец 2 цилиндра 1 сопрягается со средством 3 для фиксации цилиндра 1. Затем устанавливают воздушный фильтр 12, включают источник 9 света и электродвигатель 8. За время разгорания источника света (15-20 с) 66049 4 электродвигатель 8 разгоняет цилиндр

1 до расчетной скорости, при которой центробежные силы плотно прижимают фотодюрму 17 и пластины 18 к внутренней стенке цилиндра 1. Зажимы 13 плотно прижимают переднюю кромку пакета. Проводят экспонирование в течение 3-5 мин. При этом лопасти вентилятора 6 протягивают воздух

1О через фильтр 12 и охлаждают источник (9 света. После окончания экспонирования источник 9 света и электродвигатель выключают. После остановки приводной полумуфты 5 цилиндр 1 снимают и вынимают пластину 18 со скрытым фотоизображением, фотоформу и зажим 13. Со стержней 16 снимают . прижимную планку 20, а со штифтов 14проэкспонированную пластину 18.

2п По сравнению с известной предлагаемая установка позволяет сократить время экспонирования и расширить класс экспонируемых пластин.

Фиг. 2

1166049

1166049

СоставителЬ Л. Безпрозванный

Редактор Т. Кугрышева Техред Л.Мартяшова Корректор В. Бутяга

Заказ 4308/41

Тираж 448

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб;, д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Установка для экспонирования полиграфических форм Установка для экспонирования полиграфических форм Установка для экспонирования полиграфических форм Установка для экспонирования полиграфических форм Установка для экспонирования полиграфических форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам экспонирования, а именно к системам для переноса преобразованных в цифровую форму изображений на чувствительную основу

Изобретение относится к области микролитографии, в частности фотолитографии, и может быть промышленно реализовано, например, при изготовлении интегральных схем или структур со сформированным по заданной программе рельефом с субмикронным разрешением

Изобретение относится к области микролитографии (в частности, фотолитографии) и может быть промышленно реализовано, например, при изготовлении интегральных схем или структур со сформированным по заданной программе рельефом с субмикронным разрешением

Изобретение относится к области микролитографии, в частности фотолитографии, и может быть промышленно реализовано, например, при изготовлении интегральных схем, бинарных голограмм или структур со сформированным по заданной программе рельефом с субмикронным разрешением

Изобретение относится к способу изготовления подложки, снабженной слоем резиста с рельефной структурой, воспроизводящей дифракционную структуру

Изобретение относится к технике полупроводниковой фотографии и, в частности, к фотошаблону и способу его изготовления, который может обеспечить рисунок с высоким разрешением на полупроводниковой ступенчатой подложке
Наверх